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O le tau maualuga o maa eletise redox uma-vanadium (VRFBs) e faʻatapulaʻaina ai lo latou faʻaaogaina lautele. O le faʻaleleia atili o le kinetics o gaioiga eletise e manaʻomia e faʻateleina ai le malosiaga faʻapitoa ma le lelei o le malosiaga o le VRFB, ma faʻaitiitia ai le tau o le kWh o le VRFB. I lenei galuega, o nanoparticles hydrated tungsten oxide (HWO) na faia i le hydrothermally, C76 ma le C76/HWO, na faʻapipiʻiina i luga o electrodes ie kaponi ma faʻataʻitaʻiina o ni electrocatalysts mo le gaioiga VO2+/VO2+ redox. Field emission scanning electron microscopy (FESEM), energy dispersive X-ray spectroscopy (EDX), high-resolution transmission electron microscopy (HR-TEM), X-ray diffraction (XRD), X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), infrared Fourier transform Spectroscopy (FTIR) ma le fuaina o le contact angle. Ua iloa ai o le faaopoopoina o le C76 fullerenes i le HWO e mafai ona faaleleia atili ai le eletise e ala i le faateleina o le eletise ma le sauniaina o vaega galue ua oxidized i luga o lona fogaeleele, ma faapea ona faalauiloa ai le tali atu o le VO2+/VO2+ redox. O le HWO/C76 composite (50 wt% C76) na faamaonia o le filifiliga sili lea mo le tali atu o le VO2+/VO2+ ma le ΔEp o le 176 mV, ae o le ie kaponi e lei togafitia (UCC) e 365 mV. E le gata i lea, o le HWO/C76 composite na faaalia ai se aafiaga taua o le taofiofia i le tali atu o le parasitic chlorine evolution ona o le W-OH functional group.
O le malosi o galuega a tagata ma le vave o le suiga o pisinisi ua iʻu ai i le maualuga tele o le manaʻoga mo le eletise, lea ua faʻateleina pe tusa ma le 3% i le tausaga1. Mo le tele o tausaga, o le faʻaaogaina lautele o suauʻu faʻalenatura e fai ma puna o le malosi ua iʻu ai i le faʻasalalauina o kasa faʻavevela e fesoasoani i le faʻavevela o le lalolagi, faʻaleagaina o le vai ma le ea, ma lamatia ai le siosiomaga atoa. O se taunuuga, o le faʻaaogaina o le malosi o le matagi mama ma le malosiaga o le la e faʻamoemoeina o le a oʻo atu i le 75% o le eletise atoa i le 20501. Peitaʻi, afai e sili atu le vaega o le eletise mai punaoa faʻafouina i le 20% o le aofaʻi o le eletise e gaosia, e le mautu le upega tafaʻilagi.
I totonu o faiga uma o le teuina o le malosi e pei o le maa vanadium redox flow hybrid2, o le maa vanadium redox flow uma (VRFB) ua sili ona vave ona atiina ae ona o ona lelei e tele ma ua manatu o le fofo sili lea mo le teuina o le malosi mo se taimi umi (pe tusa ma le 30 tausaga). ) Filifiliga faatasi ai ma le malosi toe faafouina4. E mafua lea ona o le vavaeeseina o le malosi ma le malosi, vave le tali atu, umi le ola tautua, ma se tau maualalo faaletausaga e $65/kWh pe a faatusatusa i le $93-140/kWh mo maa Li-ion ma le lead-acid ma le 279-420 tala Amerika i le kWh. maa 4.
Peita’i, o lo latou fa’apisinisi tele e fa’atapula’aina pea ona o tau maualuluga o le faiga, ona o le tele o fa’aputuga o sela4,5. O le mea lea, o le fa’aleleia atili o le fa’atinoga o le fa’aputuga e ala i le fa’ateleina o le kinetics o tali e lua o le afa-elemene e mafai ona fa’aitiitia ai le tele o le fa’aputuga ma fa’aitiitia ai le tau. O le mea lea, e mana’omia ai le vave fesiita’iga o le eletise i luga o le eletise, lea e fa’alagolago i le mamanu, tu’ufa’atasiga ma le fausaga o le eletise ma e mana’omia ai le fa’aleleia atili ma le fa’aeteete6. E ui lava i le lelei o le mautu o vaila’au ma le eletise ma le lelei o le fa’atinoina o eletise o eletise kaponi, ae o latou kinetics e le’i togafitia e le’i fa’aaogaina e le’i fa’aaogaina e le’i fa’aaogaina e le’i fa’aaogaina ona o le leai o ni vaega fa’atino o le okesene ma le hydrophilicity7,8. O le mea lea, o le tele o electrocatalysts e tu’ufa’atasia ma eletise e fa’avae i le kaponi, aemaise lava o carbon nanostructures ma metal oxides, e fa’aleleia atili ai le kinetics o eletise uma e lua, ma fa’ateleina ai le kinetics o le eletise VRFB.
I le fa’aopoopoga i la matou galuega muamua i le C76, na matou lipotia muamua le gaioiga sili ona lelei o le electrocatalytic o lenei fullerene mo le VO2+/VO2+, fesiitaiga o le totogi, pe a fa’atusatusa i le ie kaponi ua togafitia i le vevela ma le le togafitia. Ua fa’aitiitia le tete’e i le 99.5% ma le 97%. O le fa’atinoga fa’a-catalytic o mea kaponi mo le tali atu o le VO2+/VO2+ pe a fa’atusatusa i le C76 o lo’o fa’aalia i le Laulau S1. I le isi itu, o le tele o oxides u’amea e pei o le CeO225, ZrO226, MoO327, NiO28, SnO229, Cr2O330 ma le WO331, 32, 33, 34, 35, 36, 37 ua fa’aaogaina ona o lo latou fa’ateleina o le susu ma le tele o le gaioiga o le okesene. , 38. vaega. O le gaioiga fa’a-catalytic o nei oxides u’amea i le tali atu o le VO2+/VO2+ o lo’o tu’uina atu i le Laulau S2. Ua fa'aaogaina le WO3 i le tele o galuega ona o lona tau maualalo, maualuga le mautu i totonu o ala oona, ma le maualuga o le gaioiga fa'a-catalytic31,32,33,34,35,36,37,38. Peita'i, o le fa'aleleia atili o le cathodic kinetics ona o le WO3 e le taua tele. Mo le fa'aleleia atili o le conductivity o le WO3, na fa'ata'ita'iina ai le a'afiaga o le fa'aaogaina o le reduced tungsten oxide (W18O49) i le gaioiga cathodic38. E le'i fa'ata'ita'iina lava le hydrated tungsten oxide (HWO) i fa'aoga VRFB, e ui lava ina fa'aalia ai le fa'ateleina o le gaioiga i fa'aoga supercapacitor ona o le vave o le cation diffusion pe a fa'atusatusa i le anhydrous WOx39,40. O le maa vanadium redox flow o le tupulaga lona tolu e fa'aaogaina ai se electrolyte acid fefiloi e aofia ai le HCl ma le H2SO4 e fa'aleleia atili ai le fa'atinoga o le maa ma fa'aleleia atili ai le solubility ma le mautu o vanadium ions i le electrolyte. Peita'i, o le parasitic chlorine evolution reaction ua avea ma se tasi o mea le lelei o le tupulaga lona tolu, o lea la o le sailiga mo auala e taofia ai le chlorine evaluation reaction ua avea ma taula'iga o le tele o vaega su'esu'e.
Iinei, na faia ai suega o le tali atu o le VO2+/VO2+ i luga o mea tuufaatasi HWO/C76 na teuina i luga o electrodes ie kaponi ina ia maua ai se paleni i le va o le eletise o le conductivity o mea tuufaatasi ma le redox kinetics o le fogāeleele o le electrode a’o taofia ai le evolusione o le chlorine parasitic. tali atu (CER). O nanoparticles o le tungsten oxide hydrated (HWO) na faia e ala i se metotia faigofie o le hydrothermal. Na faia faataitaiga i totonu o se electrolyte acid mixed (H2SO4/HCl) e faataitai ai le tupulaga lona tolu o le VRFB (G3) mo le aoga ma ia suesue le aafiaga o le HWO i luga o le tali atu o le evolusione o le chlorine parasitic.
Sa fa'aaogaina i lenei su'esu'ega le Vanadium(IV) sulfate hydrate (VOSO4, 99.9%, Alfa-Aeser), sulfuric acid (H2SO4), hydrochloric acid (HCl), dimethylformamide (DMF, Sigma-Aldrich), polyvinylidene fluoride (PVDF, Sigma)-Aldrich), sodium Tungsten oxide dihydrate (Na2WO4, 99%, Sigma-Aldrich) ma le hydrophilic carbon cloth ELAT (Fuel Cell Store).
O le tungsten oxide fa'asusu (HWO) na saunia e ala i le fa'agasologa o le hydrothermal 43 lea na fa'afefiloi ai le 2 kalama o le masima Na2WO4 i le 12 ml o le H2O e maua ai se vaila'au e leai se lanu, ona fa'aopoopo lea o le 12 ml o le 2 M HCl i mataua ta'itasi e maua ai se fa'asusu samasama vaivai. O le slurry na tu'u i totonu o se autoclave u'amea e le gaoia i le Teflon ma tu'u i totonu o se ogaumu i le 180° C mo le 3 itula mo le fa'agasologa o le hydrothermal. O mea na totoe na aoina e ala i le fa'amamāina, fufulu fa'atolu i le ethanol ma le vai, fa'amago i totonu o se ogaumu i le 70°C mo le ~3 itula, ona fa'asusu lea e maua ai se pa'u HWO lanumoana-efuefu.
O electrodes ie kaponi (CCT) na maua (e le'i togafitia) na fa'aaogaina e pei ona i ai pe togafitia i le vevela i totonu o se ogaumu paipa i le 450°C i le ea ma le fua fa'avevela o le 15 ºC/min mo le 10 itula e maua ai CC togafitia (TCC). e pei ona fa'amatalaina i le tusiga muamua 24. O le UCC ma le TCC na tipiina i ni electrodes e tusa ma le 1.5 cm le lautele ma le 7 cm le umi. O fa'a'au'au o le C76, HWO, HWO-10% C76, HWO-30% C76 ma le HWO-50% C76 na saunia e ala i le fa'aopoopoina o le 20 mg .% (~2.22 mg) o le PVDF binder i le ~1 ml DMF ma sonicated mo le 1 itula e fa'aleleia atili ai le tutusa. 2 mg o le C76, HWO ma le HWO-C76 composites na fa'aaogaina fa'asolosolo i se vaega o le electrode galue a le UCC e tusa ma le 1.5 cm2. Sa utaina uma mea fa'aola i luga o eletise UCC ma sa fa'aaogaina le TCC mo na'o fa'amoemoega fa'atusatusaga, aua o la matou galuega muamua na fa'aalia ai e le mana'omia le togafitiga i le vevela24. Sa ausia le fa'amautuina o le impression e ala i le oloina o le 100 µl o le suspension (avega 2 mg) mo se aafiaga sili atu ona tutusa. Ona fa'amago lea o eletise uma i totonu o le ogaumu i le 60° C. i le po atoa. E fuaina eletise i luma ma tua e fa'amautinoa ai le sa'o o le utaina o le stock. Ina ia maua se vaega fa'apitoa (~1.5 cm2) ma puipuia ai le si'itia o le vanadium electrolyte i le eletise ona o le capillary effect, sa fa'apipi'i se vaega manifinifi o le paraffin i luga o le mea aoga.
Sa fa'aaogaina le masini su'esu'e eletise e su'esu'eina ai le fa'asalalauga o le fanua (FESEM, Zeiss SEM Ultra 60, 5 kV) e mata'ituina ai le foliga o le fogaeleele o le HWO. O se masini su'esu'e X-ray e fa'asalalauina ai le malosi ua fa'apipi'iina i le Feii8SEM (EDX, Zeiss Inc.) sa fa'aaogaina e fa'afanua ai elemene HWO-50%C76 i luga o eletise UCC. O se masini su'esu'e eletise e maualuga le iugafono (HR-TEM, JOEL JEM-2100) o lo'o fa'agaoioia i se voltage fa'avavevave o le 200 kV sa fa'aaogaina e fa'aalia ai ni vaega HWO maualuga le iugafono ma mama diffraction. O le polokalama Crystallography Toolbox (CrysTBox) e fa'aaogaina le galuega a le ringGUI e iloilo ai le mamanu diffraction o le mama HWO ma fa'atusatusa ai taunu'uga ma le mamanu XRD. O le fausaga ma le fa'akalafi o le UCC ma le TCC na su'esu'eina e ala i le X-ray diffraction (XRD) i le fua fa'atatau o le 2.4°/min mai le 5° i le 70° ma le Cu Kα (λ = 1.54060 Å) e fa'aaoga ai le Panalytical X-ray diffractometer (Model 3600). Na fa'aalia e le XRD le fausaga ma le vaega o le tioata o le HWO. Na fa'aaoga le polokalama PANalytical X'Pert HighScore e fa'afetaui ai tumutumu o le HWO i fa'afanua o le tungsten oxide o lo'o maua i le fa'amaumauga45. Na fa'atusatusa taunu'uga o le HWO ma taunu'uga o le TEM. O le fa'atulagaga fa'akemikolo ma le tulaga o fa'ata'ita'iga HWO na fuafuaina e ala i le X-ray photoelectron spectroscopy (XPS, ESCALAB 250Xi, ThermoScientific). Na fa'aaoga le polokalama CASA-XPS (v 2.3.15) mo le deconvolution tumutumu ma le au'ili'iliga o fa'amaumauga. Mo le fuafuaina o vaega fa'atino o le HWO ma le HWO-50%C76, na faia ai fua e fa'aaoga ai le Fourier transform infrared spectroscopy (FTIR, Perkin Elmer spectrometer, fa'aaoga ai le KBr FTIR). Na fa'atusatusaina ia i'uga ma i'uga o le XPS. Na fa'aaoga fo'i fua o le tulimanu o le feso'ota'iga (KRUSS DSA25) e fa'ailoa ai le faigofie ona susu o eletise.
Mo fua uma o le eletise, sa faʻaaogaina ai se Biologic SP 300 workstation. Na faʻaaogaina le Cyclic voltammetry (CV) ma le electrochemical impedance spectroscopy (EIS) e suʻesuʻe ai le electrode kinetics o le VO2+/VO2+ redox reaction ma le aafiaga o le reagent diffusion (VOSO4(VO2+)) i le fua faatatau o le tali. O auala uma e lua na faʻaaogaina ai se cell e tolu-electrode ma le electrolyte concentration o le 0.1 M VOSO4 (V4+) i le 1 M H2SO4 + 1 M HCl (faʻafefiloi o acids). O faʻamatalaga eletise uma o loʻo tuʻuina atu ua faʻasaʻoina e le IR. O se saturated calomel electrode (SCE) ma se platinum (Pt) coil na faʻaaogaina o le reference ma le counter electrode. Mo le CV, o le scan rates (ν) o le 5, 20, ma le 50 mV/s na faʻaaogaina i le VO2+/VO2+ potential window mo le (0–1) V vs. SCE, ona fetuʻunaʻi lea mo le SHE e faʻaalia ai (VSCE = 0.242 V vs. HSE). Mo le suʻesuʻeina o le taofia o le gaioiga o le eletise, na faia ai ni CV cyclic toe fai i le ν 5 mV/s mo le UCC, TCC, UCC-C76, UCC-HWO, ma le UCC-HWO-50% C76. Mo fua o le EIS, o le tele o taimi o le tali atu o le VO2+/VO2+ redox sa 0.01-105 Hz, ma le voltage perturbation i le open-circuit voltage (OCV) sa 10 mV. O faʻataʻitaʻiga taʻitasi sa toe faia 2-3 taimi e faʻamautinoa ai le tutusa o taunuuga. O le heterogeneous rate constants (k0) na maua e ala i le metotia a Nicholson46,47.
Ua manuia le fa'aputuina o le hydrated tungsten oxide (HVO) e ala i le metotia hydrothermal. O le ata SEM i le ata 1a o lo'o fa'aalia ai o le HWO ua teuina e aofia ai ni vaega o nanoparticles ma lapopo'a i le va o le 25-50 nm.
O le mamanu o le X-ray diffraction o le HWO o loʻo faʻaalia ai tumutumu (001) ma le (002) i le ~23.5° ma le ~47.5°, i le faasologa, o uiga ia o le nonstoichiometric WO2.63 (W32O84) (PDF 077–0810, a = 21.4 Å, b = 17.8 Å, c = 3.8 Å, α = β = γ = 90°), lea e tutusa ma lo latou lanu lanumoana manino (Ata 1b) 48.49. O isi tumutumu i le pe tusa ma le 20.5°, 27.1°, 28.1°, 30.8°, 35.7°, 36.7° ma le 52.7° na tofia i le (140), (620), (350), (720), (740), (560°). ) ) ma le (970) o le diffraction planes orthogonal i le WO2.63, i le faasologa lava lea. O le metotia lava lea e tasi na faʻaaogaina e Songara et al. 43 e maua ai se oloa paʻepaʻe, lea na mafua mai i le i ai o le WO3(H2O)0.333. Peitaʻi, i lenei galuega, ona o tulaga eseese, na maua ai se oloa lanumoana-efuefu, o loʻo faʻaalia ai o le WO3(H2O)0.333 (PDF 087-1203, a = 7.3 Å, b = 12.5 Å, c = 7 .7 Å, α = β = γ = 90°) ma le faʻaititia o le tungsten oxide. O le suʻesuʻega faʻafaʻatatau e faʻaaoga ai le polokalama X'Pert HighScore na faʻaalia ai le 26% WO3(H2O)0.333:74% W32O84. Talu ai o le W32O84 e aofia ai le W6+ ma le W4+ (1.67:1 W6+:W4+), o le aofaʻi fuafuaina o le W6+ ma le W4+ e tusa ma le 72% W6+ ma le 28% W4+, i le faasologa lava lea. O ata SEM, XPS spectra e 1-sekone i le tulaga o le nucleus, ata TEM, FTIR spectra, ma Raman spectra o vaega C76 na tuuina atu i la matou tusiga muamua. E tusa ai ma Kawada et al.,50,51 O le X-ray diffraction o le C76 ina ua maeʻa ona aveese le toluene na faaalia ai le fausaga monoclinic o le FCC.
O ata SEM i le ata 2a ma le b o loʻo faʻaalia ai na faʻapipiʻiina ma le manuia le HWO ma le HWO-50%C76 i luga ma le va o alava kaponi o le eletise UCC. O faʻafanua o elemene EDX o le tungsten, kaponi, ma le okesene i luga o ata SEM i le ata 2c o loʻo faʻaalia i le ata 2d-f o loʻo faʻaalia ai o le tungsten ma le kaponi o loʻo palu tutusa (o loʻo faʻaalia ai se tufatufaga tutusa) i luga o le fogāeleele atoa ma e leʻo faʻapipiʻiina tutusa le mea tuʻufaʻatasi ona o le natura o le metotia o le faʻapipiʻiina.
O ata SEM o vaega HWO ua teuina (a) ma vaega HWO-C76 (b). O le fa'afanua EDX i luga o le HWO-C76 ua utaina i luga o le UCC e fa'aaoga ai le eria i le ata (c) o lo'o fa'aalia ai le tufatufaina o le tungsten (d), kaponi (e), ma le okesene (f) i totonu o le fa'ata'ita'iga.
Sa fa'aaogaina le HR-TEM mo le fa'ateleina o ata ma fa'amatalaga fa'akristalo (Ata 3). O lo'o fa'aalia e le HWO le morphology o le nanocube e pei ona fa'aalia i le Ata 3a ma sili atu ona manino i le Ata 3b. I le fa'ateleina o le nanocube mo le diffraction o vaega ua filifilia, e mafai ona va'aia le fausaga o le grating ma le diffraction planes e fa'amalieina ai le tulafono a Bragg, e pei ona fa'aalia i le Ata 3c, lea e fa'amaonia ai le crystallinity o le meafaitino. I le inset i le Ata 3c o lo'o fa'aalia ai le mamao d 3.3 Å e fetaui ma le (022) ma le (620) diffraction planes o lo'o maua i le WO3(H2O)0.333 ma le W32O84 phases, i le fa'asologa43,44,49. E ogatasi lea ma le au'ili'iliga XRD o lo'o fa'amatalaina i luga (Ata 1b) talu ai o le mamao o le grating plane d ua matauina (Ata 3c) e fetaui ma le tumutumu XRD sili ona malosi i le fa'ata'ita'iga HWO. O mama fa'ata'ita'iga o lo'o fa'aalia fo'i i le ata 3d, lea e fetaui ai mama ta'itasi ma se vaalele eseese. O le WO3(H2O)0.333 ma le W32O84 e lanu pa'epa'e ma lanumoana, ma o latou tumutumu XRD e tutusa o lo'o fa'aalia fo'i i le Ata 1b. O le mama muamua o lo'o fa'aalia i le ata o le mama e fetaui ma le tumutumu muamua ua fa'ailogaina i le mamanu x-ray o le (022) po'o le (620) diffraction plane. Mai mama (022) i mama (402), o tau o le d-spacing e 3.30, 3.17, 2.38, 1.93, ma le 1.69 Å, e ogatasi ma tau o le XRD o le 3.30, 3.17, 2, 45, 1.93. ma le 1.66 Å, lea e tutusa ma le 44, 45, i le faasologa.
(a) Ata HR-TEM o le HWO, (b) o loʻo faʻaalia ai se ata ua faʻateleina. O ata o vaʻa faʻapipiʻi o loʻo faʻaalia i le (c), o le faʻaopoopoga (c) o loʻo faʻaalia ai se ata ua faʻateleina o vaʻa ma se pitch d o le 0.33 nm e fetaui ma vaʻa (002) ma le (620). (d) O le mamanu o le mama HWO o loʻo faʻaalia ai vaʻa e fesoʻotaʻi ma le WO3(H2O)0.333 (paʻepaʻe) ma le W32O84 (lanumoana).
Sa faia le su'esu'ega XPS e iloa ai le kemisi o luga ma le tulaga o le oxidation o le tungsten (Ata S1 ma le 4). O le lautele o le XPS scan spectrum o le HWO ua fa'aputuina o lo'o fa'aalia i le Ata S1, o lo'o fa'aalia ai le i ai o le tungsten. O le XPS narrow-scan spectra o le W 4f ma le O 1s core levels o lo'o fa'aalia i Ata 4a ma le b, i le fa'asologa. O le W 4f spectrum e vaevaeina i ni spin-orbit doublets se lua e fetaui ma le malosi o le fusifusia o le W oxidation state. ma le W 4f7/2 i le 36.6 ma le 34.9 eV o uiga ia o le W4+ state o le 40, i le fa'asologa. )0.333. O fa'amaumauga ua fetaui e fa'aalia ai o le atomic percentages o le W6+ ma le W4+ e 85% ma le 15%, i le fa'asologa, lea e latalata i tau na fuafuaina mai fa'amaumauga XRD pe a mafaufau i eseesega i le va o metotia e lua. O metotia uma e lua e tu'uina atu fa'amatalaga fa'atatau ma le sa'o maualalo, aemaise lava le XRD. E le gata i lea, o nei metotia e lua e su'esu'eina vaega eseese o le meafaitino ona o le XRD o se metotia tele ae o le XPS o se metotia luga e na'o ni nai nanometa e latalata atu i ai. O le O 1s spectrum e vaevaeina i ni tumutumu se lua i le 533 (22.2%) ma le 530.4 eV (77.8%). O le muamua e fetaui ma le OH, ma le lona lua i fusi o le okesene i le lattice i le WO. O le iai o vaega galue OH e ogatasi ma meatotino hydration o le HWO.
Sa faia fo'i se su'esu'ega FTIR i nei fa'ata'ita'iga e lua e su'esu'e ai le i ai o vaega fa'atino ma molela'au vai fa'amaopoopo i le fausaga HWO fa'asusu. O taunu'uga e fa'aalia ai o le fa'ata'ita'iga HWO-50% C76 ma taunu'uga FT-IR HWO e foliga tutusa ona o le i ai o le HWO, ae o le malosi o tumutumu e eseese ona o le eseesega o le aofa'i o le fa'ata'ita'iga na fa'aaogaina i le sauniuniga mo le su'esu'ega (Ata 5a). ) O le HWO-50% C76 e fa'aalia ai o tumutumu uma, vagana ai le tumutumu o le tungsten oxide, e feso'ota'i ma le fullerene 24. O lo'o fa'amatalaina auiliili i le ata 5a o lo'o fa'aalia ai o fa'ata'ita'iga uma e lua o lo'o fa'aalia ai se fusi lautele malosi tele i le ~710/cm e mafua mai i le OWO stretching oscillations i le fausaga HWO lattice, fa'atasi ai ma se tau'au malosi i le ~840/cm e mafua mai i le WO. Mo le stretching vibrations, o se fusi ma'ai i le pe tusa ma le 1610/cm e mafua mai i le gatete o le OH, a'o se fusi lautele e mitiia i le pe tusa ma le 3400/cm e mafua mai i le stretching o le OH i vaega hydroxyl43. O nei taunuuga e ogatasi ma le XPS spectra i Ata 4b, lea e mafai ai e vaega galue a le WO ona saunia nofoaga aoga mo le tali atu o le VO2+/VO2+.
O le su'esu'ega FTIR o le HWO ma le HWO-50% C76 (a), ua fa'ailoa mai ai vaega fa'atino ma fua o le tulimanu o feso'ota'iga (b, c).
E mafai fo'i e le vaega OH ona fa'agaoioia le tali atu o le VO2+/VO2+, a'o fa'ateleina ai le hydrophilicity o le electrode, ma fa'alauiloa ai le saoasaoa o le diffusion ma le fesiitaiga o le electron. E pei ona fa'aalia, o le fa'ata'ita'iga HWO-50% C76 o lo'o fa'aalia ai se tumutumu fa'aopoopo mo le C76. O tumutumu i le ~2905, 2375, 1705, 1607, ma le 1445 cm3 e mafai ona fa'atulaga i le CH, O=C=O, C=O, C=C, ma le CO stretching vibrations. Ua lauiloa lelei o vaega fa'atino o le oxygen C=O ma le CO e mafai ona avea ma nofoaga autu mo tali atu redox o le vanadium. Mo le fa'ata'ita'iina ma le fa'atusatusaina o le wettability o electrodes e lua, na faia ai fua o le contact angle e pei ona fa'aalia i le Ata 5b,c. Na vave ona mitiia e le HWO electrode ni mataua vai, ma fa'ailoa mai ai le superhydrophilicity ona o le OH functional groups o lo'o avanoa. O le HWO-50% C76 e sili atu ona hydrophobic, fa'atasi ai ma se contact angle e tusa ma le 135° pe a uma le 10 sekone. Peita'i, i fua fa'atatau eletise, na susu atoa ai le eletise HWO-50%C76 i totonu o le itiiti ifo ma le minute. O fua fa'atatau o le susu e ogatasi ma taunu'uga o le XPS ma le FTIR, e fa'ailoa mai ai o le tele o vaega OH i luga o le fogā'ele'ele HWO e sili atu ona hydrophilic.
Sa fa'ata'ita'iina tali atu o le VO2+/VO2+ o le HWO ma le HWO-C76 nanocomposites ma sa fa'amoemoeina o le a taofia e le HWO le fa'agasologa o le chlorine i le tali atu o le VO2+/VO2+ i le 'acid' fefiloi, ma o le a fa'ateleina e le C76 le tali atu o le VO2+/VO2+ redox e mana'omia. %, 30%, ma le 50% C76 i le HWO suspensions ma le CCC na fa'aputuina i luga o electrodes ma le aofa'i atoa o le uta e tusa ma le 2 mg/cm2.
E pei ona faaalia i le ata 6, o le kinetics o le tali atu o le VO2+/VO2+ i luga o le electrode na suesueina e ala i le CV i totonu o se electrolyte acidic fefiloi. O tafega o loo faaalia o le I/Ipa mo se faatusatusaga faigofie o le ΔEp ma le Ipa/Ipc mo catalysts eseese sa’o i luga o le kalafi. O faamatalaga o le vaega o le eria o loo faaalia i le Ata 2S. I le ata 6a o loo faaalia ai o le HWO e faateleina teisi ai le saoasaoa o le fesiitaiga o le eletise o le tali atu o le VO2+/VO2+ redox i luga o le electrode ma taofia ai le tali atu o le evolusione o le chlorine parasitic. Peitai, o le C76 e faateleina tele ai le saoasaoa o le fesiitaiga o le eletise ma faagaoioia ai le tali atu o le evolusione o le chlorine. O le mea lea, o se tuufaatasiga sa’o o le HWO ma le C76 e faamoemoeina o le a i ai le gaioiga sili ona lelei ma le gafatia sili ona tele e taofia ai le tali atu o le evolusione o le chlorine. Na maua ina ua uma ona faateleina le anotusi o le C76, na faaleleia atili ai le gaioiga eletise o electrodes, e pei ona faamaonia e le faaitiitia o le ΔEp ma le faateleina o le fua faatatau o le Ipa/Ipc (Table S3). Sa fa'amaonia fo'i lenei mea e ala i tau o le RCT na maua mai le Nyquist plot i le Ata 6d (Table S3), lea na maua e fa'aitiitia i le fa'ateleina o le aofa'i o le C76. O nei taunu'uga e ogatasi fo'i ma le su'esu'ega a Li, lea na fa'aalia ai e le fa'aopoopoina o le mesoporous carbon i le mesoporous WO3 le fa'aleleia atili o le charge transfer kinetics i le VO2+/VO2+35. O lo'o fa'aalia ai o le tali sa'o e ono fa'alagolago atili i le electrode conductivity (C=C bond) 18, 24, 35, 36, 37. Atonu fo'i e mafua mai i se suiga i le coordination geometry i le va o le [VO(H2O)5]2+ ma le [VO2(H2O)4]+, e fa'aitiitia ai e le C76 le reaction overvoltage e ala i le fa'aitiitia o le malosi o le tino. Peita'i, atonu e le mafai ona faia lenei mea i HWO electrodes.
(a) Amioga fa'ata'amilosaga voltammetric (ν = 5 mV/s) o le tali atu o le VO2+/VO2+ o le UCC ma le HWO-C76 composites ma fua fa'atatau eseese o le HWO:C76 i le 0.1 M VOSO4/1 M H2SO4 + 1 M HCl electrolyte. (b) Randles-Sevchik ma le (c) metotia a Nicholson VO2+/VO2+ e iloilo ai le lelei o le fa'asalalauina ma maua ai tau o le k0(d).
E le gata i le faʻaalia e le HWO-50% C76 o le gaioiga eletise tutusa e pei o le C76 mo le tali atu o le VO2+/VO2+, ae, o le mea e sili ona manaia, na taofia ai foʻi le evolusione o le chlorine pe a faʻatusatusa i le C76, e pei ona faʻaalia i le Ata 6a, ma faʻaalia ai foʻi le Smaller Semicircle i le ata 6d (lower RCT). Na faʻaalia e le C76 se Ipa/Ipc manino maualuga atu nai lo le HWO-50% C76 (Table S3), e le ona o le faʻaleleia atili o le toe faʻafoʻisia o le tali atu, ae ona o le tumutumuga o le tali atu o le faʻaitiitia o le chlorine ma le SHE i le 1.2 V. O le faʻatinoga sili ona lelei o le HWO- O le 50% C76 e mafua mai i le aafiaga synergistic i le va o le C76 e maualuga le faʻafoeina o le eletise ma le maualuga o le wettability ma le W-OH catalytic functionality i le HWO. O le itiiti ifo o le chlorine emission o le a faʻaleleia atili ai le lelei o le faʻatumuina o le sela atoa, aʻo faʻaleleia atili le kinetics o le a faʻaleleia atili ai le lelei o le voltage atoa o le sela.
E tusa ai ma le fua fa'atatau S1, mo se tali e foliga mai e mafai ona toe fa'afo'i (fesiitaiga o eletise e fai si telegese) e pulea e le diffusion, o le peak current (IP) e fa'alagolago i le aofa'i o electrons (n), electrode area (A), diffusion coefficient (D), numera o electrons transfer coefficient (α) ma le scanning speed (ν). Ina ia su'esu'eina le amioga e pulea e le diffusion o mea na fa'ata'ita'iina, o le sootaga i le va o le IP ma le ν1/2 na fa'ata'ita'iina ma fa'aalia i le Ata 6b. Talu ai o mea uma e fa'aalia ai se sootaga laina, o le tali e pulea e le diffusion. Talu ai o le tali VO2+/VO2+ e foliga mai e mafai ona toe fa'afo'i, o le slope o le laina e fa'alagolago i le diffusion coefficient ma le tau o le α (fua fa'atatau S1). Talu ai o le diffusion coefficient e tumau (≈ 4 × 10–6 cm2/s)52, o le eseesega i le slope o le laina e fa'ailoa sa'o ai tau eseese o le α, ma o le mea lea o le electron transfer rate i luga o le electrode surface, lea e fa'aalia mo le C76 ma le HWO -50% C76 slope pito i luga (tele electron transfer rate).
O le Warburg slopes (W) na fuafuaina mo le maualalo o le saoasaoa o loʻo faʻaalia i le Laulau S3 (Ata 6d) e iai tau e latalata i le 1 mo meafaitino uma, e faʻaalia ai le atoatoa o le sosolo o ituaiga redox ma faʻamaonia ai le amioga laina o le IP pe a faʻatusatusa i le ν1/2. E fuaina le CV. Mo le HWO-50% C76, e ese le Warburg slope mai le 1 i le 1.32, e le gata o loʻo faʻaalia ai le sosolo e le gata o le reagent (VO2+), ae faʻapea foʻi ma se sao o le amioga manifinifi i le amioga sosolo ona o le porosity o le electrode.
Mo le iloiloina atili o le reversibility (electron transfer rate) o le VO2+/VO2+ redox reaction, na faʻaaogaina foʻi le Nicholson quasi-reversible reaction method e fuafua ai le standard rate constant k041.42. E faia lenei mea e faʻaaoga ai le S2 equation e fausia ai le dimensionless kinetic parameter Ψ, o se galuega faatino a le ΔEp, e fai ma galuega faatino a le ν-1/2. O loʻo faʻaalia i le Table S4 ia tau o le Ψ na maua mo meafaitino taʻitasi o le electrode. O taunuʻuga (Ata 6c) na faʻataʻitaʻiina e maua ai le k0 × 104 cm/s mai le slope o plot taʻitasi e faʻaaoga ai le Equation S3 (tusia i tafatafa o laina taʻitasi ma tuʻuina atu i le Table S4). Na maua le HWO-50% C76 o loʻo i ai le slope aupito maualuga (Ata 6c), o lea la o le tau maualuga o le k0 o le 2.47 × 10–4 cm/s. O lona uiga o lenei electrode e ausia le kinetics aupito vave, lea e ogatasi ma taunuʻuga o le CV ma le EIS i le Ata 6a ma le d ma le Table S3. E le gata i lea, o le tau o le k0 na maua foi mai le Nyquist plot (Ata 6d) o le Equation S4 e faʻaaoga ai le tau o le RCT (Table S3). O nei taunuuga k0 mai le EIS o loʻo aoteleina i le Table S4 ma faʻaalia ai foi o le HWO-50% C76 o loʻo faʻaalia ai le fua faatatau maualuga o le fesiitaiga o le eletise ona o le aafiaga synergistic. E ui lava ina eseese tau o le k0 ona o le eseesega o amataga o metotia taʻitasi, ae o loʻo faʻaalia pea le faʻasologa tutusa o le tele ma faʻaalia ai le tutusa.
Ina ia malamalama atoatoa i le kinetics sili ona lelei na maua, e taua le faʻatusatusaina o mea eletise sili ona lelei ma eletise UCC ma TCC e leʻi ufiufiina. Mo le tali atu o le VO2+/VO2+, e le gata ina faʻaalia e le HWO-C76 le ΔEp maualalo ma le sili atu ona lelei le toe faʻafoʻisia, ae na taofia ai foʻi le tali atu o le evolusione o le chlorine parasitic pe a faʻatusatusa i le TCC, e pei ona fuaina e le tafe i le 1.45 V e faʻatatau i le SHE (Ata 7a). I tulaga o le mautu, na matou manatu o le HWO-50% C76 sa mautu faaletino ona o le catalyst na faʻafefiloi ma se PVDF binder ona faʻapipiʻi lea i eletise ie kaponi. Na faʻaalia e le HWO-50% C76 se suiga maualuga o le 44 mV (fuainumera o le faʻaleagaina 0.29 mV/taamilosaga) pe a uma le 150 taʻamilosaga pe a faʻatusatusa i le 50 mV mo le UCC (Ata 7b). Atonu e le o se eseesega tele lenei, ae o le kinetics o eletise UCC e matua telegese ma faʻaleagaina i le taʻamilosaga, aemaise lava mo tali faʻafeagai. E ui lava e sili atu le lelei o le toe fa'afo'isia o le TCC nai lo le UCC, ae na maua le TCC o lo'o i ai se suiga tele o le tumutumu e 73 mV pe a uma le 150 ta'amilosaga, lea atonu e mafua mai i le tele o le chlorine na fausia i luga o lona fogaeleele, ina ia pipii lelei ai le catalyst i le fogaeleele o le electrode. E pei ona mafai ona va'aia mai electrodes uma na fa'ata'ita'iina, e o'o lava i electrodes e aunoa ma ni catalysts lagolagoina na fa'aalia ai le eseese o tikeri o le le mautu o le ta'amilosaga, ma fa'ailoa mai ai o le suiga i le vavae'eseina o le tumutumu i le taimi o le ta'amilosaga e mafua mai i le fa'agata o le meafaitino na mafua mai i suiga fa'akemikolo nai lo le vavae'eseina o le catalyst. E le gata i lea, afai e vavae'eseina se aofa'i tele o vaega o le catalyst mai le fogaeleele o le electrode, o le a i'u ai i se fa'ateleina tele o le vavae'eseina o le tumutumu (e le gata i le 44 mV), talu ai o le substrate (UCC) e le o galue tele mo le tali atu o le VO2+/VO2+ redox.
Fa'atusatusaga o le CV o le mea sili ona lelei e fa'atusatusa i le UCC (a) ma le mautu o le tali atu o le VO2+/VO2+ redox (b). ν = 5 mV/s mo CV uma i le 0.1 M VOSO4/1 M H2SO4 + 1 M HCl electrolyte.
Ina ia faʻateleina le tosina atu i le tamaoaiga o le tekinolosi VRFB, o le faʻalauteleina ma le malamalama i le kinetics o tali vanadium redox e taua tele ina ia ausia ai le maualuga o le lelei o le malosiaga. Na saunia le Composites HWO-C76 ma suʻesuʻeina lo latou aafiaga electrocatalytic i le tali VO2+/VO2+. Na faʻaalia e le HWO sina faʻaleleia atili o le kinetic i electrolytes acidic fefiloi ae na matua taofia ai le evolusione o le chlorine. O fua faatatau eseese o le HWO:C76 na faʻaaogaina e faʻaleleia atili ai le kinetics o electrodes e faʻavae i luga o le HWO. O le faʻateleina o le C76 i le HWO e faʻaleleia atili ai le kinetics o le fesiitaiga o le electron o le tali VO2+/VO2+ i luga o le electrode ua suia, lea o le HWO-50% C76 o le mea sili ona lelei aua e faʻaitiitia ai le teteʻe atu i le fesiitaiga o le totogi ma taofia atili ai le chlorine pe a faʻatusatusa i le C76 ma le TCC deposit. . O lenei mea e mafua mai i le aafiaga synergistic i le va o le C=C sp2 hybridization, OH ma le W-OH functional groups. O le fua faatatau o le faaleagaina ina ua maeʻa le toe faia o le HWO-50% C76 na maua e 0.29 mV/taamilosaga, ae o le fua faatatau o le faaleagaina o le UCC ma le TCC e 0.33 mV/taamilosaga ma le 0.49 mV/taamilosaga, i le faasologa lava lea, ma avea ai ma mea e matua mautu lava i totonu o electrolytes acid fefiloi. O taunuuga o loo tuuina atu ua faailoa mai ai ma le manuia meafaitino eletise e maualuga le faatinoga mo le tali atu o le VO2+/VO2+ faatasi ai ma le saoasaoa o le kinetics ma le mautu maualuga. O le a faateleina ai le voltage o le output, ma faapea ona faateleina ai le lelei o le malosiaga o le VRFB, ma faapea ona faaitiitia ai le tau o lona faapisinisi i le lumanai.
O faʻamaumauga na faʻaaogaina ma/pe iloiloina i le suʻesuʻega o loʻo iai nei e maua mai tusitala taʻitasi pe a talafeagai le talosaga.
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Liu, T., Li, X., Zhang, H. & Chen, J. Alualu i luma i mea e fa'aaogaina ai le eletise agai atu i maa tafe vanadium (VFBs) fa'atasi ai ma le fa'aleleia atili o le malosi o le eletise. Liu, T., Li, X., Zhang, H. & Chen, J. Alualu i luma i mea e fa'aaogaina ai le eletise agai atu i maa tafe vanadium (VFBs) fa'atasi ai ma le fa'aleleia atili o le malosi o le eletise.Liu, T., Li, X., Zhang, H. ma Chen, J. Alualu i luma i mea eletise i maa tafe vanadium (VFB) faatasi ai ma le faaleleia atili o le malosi o le eletise. Liu, T., Li, X., Zhang, H. & Chen, J. 提高功率密度的钒液流电池(VFB) 电极材料的进展。 Liu, T., Li, X., Zhang, H. & Chen, J.Liu, T., Li, S., Zhang, H. ma Chen, J. Alualu i Luma i Meafaitino Electrode mo Vanadium Redox Flow Batteries (VFB) faatasi ai ma le Faateleina o le Malosiaga.J. Kemisi o le Malosiaga. 27(5), 1292-1303. https://doi.org/10.1016/j.jechem.2018.07.003 (2018).
Liu, QH ma isi. Sela tafe vanadium redox maualuga le lelei ma le fa'atulagaina o le electrode ma le filifiliga o le membrane. J. Electrochemistry. Socialist Party. 159(8), A1246-A1252. https://doi.org/10.1149/2.051208jes (2012).
Wei, G., Jia, C., Liu, J. & Yan, C. Eletise fa'apipi'i o le carbon felt e lagolagoina ai le carbon nanotubes catalysts mo le fa'aogaina o le maa vanadium redox flow. Wei, G., Jia, C., Liu, J. & Yan, C. Eletise fa'apipi'i o le carbon felt e lagolagoina ai le carbon nanotubes catalysts mo le fa'aogaina o le maa vanadium redox flow.Wei, G., Jia, Q., Liu, J. ma Yang, K. O mea fa'agaoioiga eletise tu'ufa'atasi e fa'avae i luga o nanotubes kaponi ma se mea e fai ai le kaponi mo le fa'aaogaina i totonu o se maa vanadium redox. Wei, G., Jia, C., Liu, J. & Yan, C. Wei, G., Jia, C., Liu, J. & Yan, C. Eletise fa'apipi'i o le carbon nanotube catalyst e fa'atumuina i le kaponi felt mo le fa'aogaina o le maa e fa'aitiitia ai le tafe o le vai i le vanadium oxidation.Wei, G., Jia, Q., Liu, J. ma Yang, K. Electrode tu'ufa'atasi o le carbon nanotube catalyst ma le carbon felt substrate mo le fa'aogaina i maa vanadium redox.J. Power. 220, 185–192. https://doi.org/10.1016/j.jpowsour.2012.07.081 (2012).
Moon, S., Kwon, BW, Chung, Y. & Kwon, Y. A'afiaga o le bismuth sulfate ua ufiufi i le CNT ua fa'a'asuaina i le fa'atinoga o le maa vanadium redox flow. Moon, S., Kwon, BW, Chung, Y. & Kwon, Y. A'afiaga o le bismuth sulfate ua ufiufi i le CNT ua fa'a'asuaina i le fa'atinoga o le maa vanadium redox flow.Moon, S., Kwon, BW, Chang, Y. ma Kwon, Y. Aafiaga o le bismuth sulfate ua fa'aputuina i luga o CNT ua fa'a'okesaita i uiga o se maa vanadium redox e tafe atu i totonu. Moon, S., Kwon, BW, Chung, Y. & Kwon, Y. 涂在酸化CNT 上的硫酸铋对钒氧化还原液流电池性能的影响。 Moon, S., Kwon, BW, Chung, Y. & Kwon, Y. A'afiaga o le bismuth sulfate i le fa'a'okesaitaina o le CNT i le fa'atinoga o le maa e fa'aitiitia ai le tafe o le vai i le vanadium oxidation.Moon, S., Kwon, BW, Chang, Y. ma Kwon, Y. Aafiaga o le bismuth sulfate ua fa'aputuina i luga o CNT ua fa'a'okesaita i uiga o maa vanadium redox e tafe atu i totonu.J. Kemisi Eletise. Vaega Fa'a-Sosaiete. 166(12), A2602. https://doi.org/10.1149/2.1181912jes (2019).
Huang R.-H. Pt/Multilayer Carbon Nanotube Modified Active Electrodes mo Vanadium Redox Flow Batteries. J. Electrochemistry. Socialist Party. 159(10), A1579. https://doi.org/10.1149/2.003210jes (2012).
Kahn, S. et al. O maa fa'aolaola o le Vanadium redox e fa'aaogaina ai electrocatalysts ua teuteuina i nanotubes kaponi ua fa'aopoopoina i le nitrogen e maua mai i fa'avaa organometallic. J. Electrochemistry. Socialist Party. 165(7), A1388. https://doi.org/10.1149/2.0621807jes (2018).
Khan, P. et al. O pepa nano o le graphene oxide e avea o ni mea lelei tele e fa'agaoioia ai le eletise mo ni paga redox VO2+/ ma V2+/V3+ i totonu o maa vanadium redox flow. Carbon 49(2), 693–700. https://doi.org/10.1016/j.carbon.2010.10.022 (2011).
Gonzalez Z. et al. Fa'atinoga eletise mata'ina o le graphite felt ua suia e le graphene mo fa'aoga o le vanadium redox battery. J. Power. 338, 155-162. https://doi.org/10.1016/j.jpowsour.2016.10.069 (2017).
González, Z., Vizireanu, S., Dinescu, G., Blanco, C. & Santamaría, R. O ata manifinifi o puipui kaponi nano e fai ma mea eletise nanostructured i maa vanadium redox flow. González, Z., Vizireanu, S., Dinescu, G., Blanco, C. & Santamaría, R. O ata manifinifi o puipui kaponi nano e fai ma mea eletise nanostructured i maa vanadium redox flow.González Z., Vizirianu S., Dinescu G., Blanco C. ma Santamaria R. Ata manifinifi o puipui kaponi nano e fai ma mea eletise nanostructured i maa vanadium redox flow.González Z., Vizirianu S., Dinescu G., Blanco S. ma Santamaria R. Ata tifaga o le carbon nanowall o ni mea eletise nanostructured i totonu o maa vanadium redox flow. Nano Energy 1(6), 833–839. https://doi.org/10.1016/j.nanoen.2012.07.003 (2012).
Opar, DO, Nankya, R., Lee, J. & Jung, H. Felt kaponi ua suia e le graphene-mesoporous e tolu-vaega mo maa vanadium redox flow maualuga le faatinoga. Opar, DO, Nankya, R., Lee, J. & Jung, H. Felt kaponi ua suia e le graphene-mesoporous e tolu-vaega mo maa vanadium redox flow maualuga le faatinoga.Opar DO, Nankya R., Lee J., ma Yung H. Felt carbon mesoporous ua suia e le graphene e tolu-dimensional mo maa vanadium redox flow maualuga. Opar, DO, Nankya, R., Lee, J. & Jung, H. 用于高性能钒氧化还原液流电池的三维介孔石墨烯改性碳比 Opar, DO, Nankya, R., Lee, J. & Jung, H.Opar DO, Nankya R., Lee J., ma Yung H. Felt carbon mesoporous ua suia e le graphene e tolu-dimensional mo maa vanadium redox flow maualuga.Electrochem. Tulafono 330, 135276. https://doi.org/10.1016/j.electacta.2019.135276 (2020).