Terima kasih kerana melayari Nature.com. Versi pelayar yang anda gunakan mempunyai sokongan CSS yang terhad. Untuk pengalaman terbaik, kami mengesyorkan agar anda menggunakan pelayar yang dikemas kini (atau melumpuhkan Mod Keserasian dalam Internet Explorer). Sementara itu, untuk memastikan sokongan berterusan, kami akan memaparkan laman web tanpa gaya dan JavaScript.
TiO2 ialah bahan semikonduktor yang digunakan untuk penukaran fotoelektrik. Untuk meningkatkan penggunaan cahaya, nanopartikel nikel dan perak sulfida telah disintesis pada permukaan nanowayar TiO2 melalui kaedah celupan dan fotoreduksi yang mudah. ​​Satu siri kajian tentang tindakan perlindungan katodik nanokomposit Ag/NiS/TiO2 pada keluli tahan karat 304 telah dijalankan, dan morfologi, komposisi dan ciri-ciri penyerapan cahaya bahan telah ditambah. Keputusan menunjukkan bahawa nanokomposit Ag/NiS/TiO2 yang disediakan boleh memberikan perlindungan katodik terbaik untuk keluli tahan karat 304 apabila bilangan kitaran pemendakan-impregnasi nikel sulfida ialah 6 dan kepekatan fotoreduksi perak nitrat ialah 0.1M.
Penggunaan semikonduktor jenis-n untuk perlindungan fotokatod menggunakan cahaya matahari telah menjadi topik hangat sejak kebelakangan ini. Apabila diujakan oleh cahaya matahari, elektron daripada jalur valens (VB) bahan semikonduktor akan diujakan ke dalam jalur konduksi (CB) untuk menghasilkan elektron fotojana. Jika potensi jalur konduksi semikonduktor atau nanokomposit lebih negatif daripada potensi pengetsaan sendiri logam yang terikat, elektron fotojana ini akan dipindahkan ke permukaan logam yang terikat. Pengumpulan elektron akan menyebabkan polarisasi katodik logam dan memberikan perlindungan katodik logam yang berkaitan1,2,3,4,5,6,7. Bahan semikonduktor secara teorinya dianggap sebagai fotoanod bukan korban, kerana tindak balas anodik tidak menguraikan bahan semikonduktor itu sendiri, tetapi pengoksidaan air melalui lubang fotojana atau bahan pencemar organik yang terserap, atau kehadiran pengumpul untuk memerangkap lubang fotojana. Paling penting, bahan semikonduktor mesti mempunyai potensi CB yang lebih negatif daripada potensi kakisan logam yang dilindungi. Hanya dengan itu elektron fotojana boleh beralih dari jalur konduksi semikonduktor ke logam yang dilindungi. Kajian rintangan kakisan fotokimia telah tertumpu pada bahan semikonduktor jenis-n bukan organik dengan jurang jalur lebar (3.0–3.2EV)1,2,3,4,5,6,7, yang hanya responsif terhadap cahaya ultraungu (< 400 nm), sekali gus mengurangkan ketersediaan cahaya. Kajian rintangan kakisan fotokimia telah tertumpu pada bahan semikonduktor jenis-n bukan organik dengan jurang jalur lebar (3.0–3.2EV)1,2,3,4,5,6,7, yang hanya responsif terhadap cahaya ultraungu (< 400 nm), sekali gus mengurangkan ketersediaan cahaya. Иследования стойкости к фотохимической коррозии были сосредоточены на неорганических полупроводниковых материковых материрой материай запрещенной зоной (3,0–3,2 EV)1,2,3,4,5,6,7, которые реагируют только на ультрафиолетовое излучение (< 400 tahun), доступности света. Penyelidikan tentang rintangan kakisan fotokimia telah memberi tumpuan kepada bahan semikonduktor bukan organik jenis-n dengan jurang jalur yang luas (3.0–3.2 EV)1,2,3,4,5,6,7 yang hanya bertindak balas terhadap sinaran ultraungu (< 400 nm), dan ketersediaan cahaya yang berkurangan.光化学耐腐蚀性研究主要集中在具有宽带隙(3.0–3.2EV)1,2,3,4,5,6,7 的无机n型半导体材料上，这些材料仅对紫外光（< 400 nm）有响应，减少光的可用性。光 化学 耐腐 蚀性 研究 主要 在 具有 宽带隙 宽带隙 宽带隙 (3.0–3.2ev) 1.5,6,4,7,6,4型 材料 上 ， 这些 材料 仅 对 （<400 nm） 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有有 有响应，减少光的可用性。 Иследования стойкости к фотохимической коррозии в основном были сосредоточены на неорганических полупровихлахлад широкой запрещенной зоной (3,0–3,2EV)1,2,3,4,5,6,7, которые чувствительны только к УФ-излучению (<400 ). Penyelidikan tentang rintangan kakisan fotokimia tertumpu terutamanya pada bahan semikonduktor bukan organik jenis-n jurang jalur lebar (3.0–3.2EV)1,2,3,4,5,6,7 yang hanya sensitif terhadap sinaran UV (<400 nm).Sebagai tindak balas, ketersediaan cahaya berkurangan.
Dalam bidang perlindungan kakisan marin, teknologi perlindungan katodik fotoelektrokimia memainkan peranan penting. TiO2 ialah bahan semikonduktor dengan penyerapan cahaya UV dan sifat fotopemangkin yang sangat baik. Walau bagaimanapun, disebabkan oleh kadar penggunaan cahaya yang rendah, lubang elektron fotojana mudah bergabung semula dan tidak dapat dilindungi dalam keadaan gelap. Kajian lanjut diperlukan untuk mencari penyelesaian yang munasabah dan boleh dilaksanakan. Telah dilaporkan bahawa banyak kaedah pengubahsuaian permukaan boleh digunakan untuk meningkatkan fotosensitiviti TiO2, seperti doping dengan Fe, N, dan pencampuran dengan Ni3S2, Bi2Se3, CdTe, dan sebagainya. Oleh itu, komposit TiO2 dengan bahan dengan kecekapan penukaran fotoelektrik yang tinggi digunakan secara meluas dalam bidang perlindungan katodik fotojana.
Nikel sulfida ialah bahan semikonduktor dengan jurang jalur sempit hanya 1.24 eV8.9. Semakin sempit jurang jalur, semakin kuat penggunaan cahaya. Selepas nikel sulfida dicampurkan dengan permukaan titanium dioksida, tahap penggunaan cahaya dapat ditingkatkan. Digabungkan dengan titanium dioksida, ia dapat meningkatkan kecekapan pemisahan elektron dan lubang fotojanaan dengan berkesan. Nikel sulfida digunakan secara meluas dalam pengeluaran hidrogen elektropemangkin, bateri dan penguraian bahan pencemar8,9,10. Walau bagaimanapun, penggunaannya dalam perlindungan fotokatod masih belum dilaporkan. Dalam kajian ini, bahan semikonduktor jurang jalur sempit telah dipilih untuk menyelesaikan masalah kecekapan penggunaan cahaya TiO2 yang rendah. Nanopartikel nikel dan perak sulfida masing-masing diikat pada permukaan wayar nano TiO2 melalui kaedah rendaman dan fotoreduksi. Nanokomposit Ag/NiS/TiO2 meningkatkan kecekapan penggunaan cahaya dan memanjangkan julat penyerapan cahaya dari kawasan ultraungu ke kawasan yang kelihatan. Sementara itu, pemendapan nanopartikel perak memberikan nanokomposit Ag/NiS/TiO2 kestabilan optik yang sangat baik dan perlindungan katodik yang stabil.
Pertama, kerajang titanium setebal 0.1 mm dengan ketulenan 99.9% dipotong kepada saiz 30 mm × 10 mm untuk eksperimen. Kemudian, setiap permukaan kerajang titanium digilap sebanyak 100 kali dengan kertas pasir grit 2500, dan kemudian dibasuh berturut-turut dengan aseton, etanol mutlak, dan air suling. Letakkan plat titanium dalam campuran 85 °C (natrium hidroksida: natrium karbonat: air = 5:2:100) selama 90 minit, keluarkan dan bilas dengan air suling. Permukaan diukir dengan larutan HF (HF:H2O = 1:5) selama 1 minit, kemudian dibasuh secara berselang-seli dengan aseton, etanol, dan air suling, dan akhirnya dikeringkan untuk digunakan. Nanowayar titanium dioksida dibuat dengan cepat pada permukaan kerajang titanium melalui proses anodisasi satu langkah. Untuk anodisasi, sistem dua elektrod tradisional digunakan, elektrod kerja ialah kepingan titanium, dan elektrod balas ialah elektrod platinum. Letakkan plat titanium dalam 400 ml larutan NaOH 2 M dengan pengapit elektrod. Arus bekalan kuasa DC stabil pada kira-kira 1.3 A. Suhu larutan dikekalkan pada 80°C selama 180 minit semasa tindak balas sistemik. Lembaran titanium dikeluarkan, dibasuh dengan aseton dan etanol, dibasuh dengan air suling, dan dikeringkan secara semula jadi. Kemudian sampel diletakkan di dalam relau mufle pada suhu 450°C (kadar pemanasan 5°C/min), dikekalkan pada suhu malar selama 120 minit, dan diletakkan di dalam dulang pengeringan.
Komposit nikel sulfida-titanium dioksida diperoleh melalui kaedah pemendapan celup yang mudah dan ringkas. Pertama, nikel nitrat (0.03 M) dilarutkan dalam etanol dan dikacau secara magnet selama 20 minit untuk mendapatkan larutan etanol nikel nitrat. Kemudian, sediakan natrium sulfida (0.03 M) dengan larutan campuran metanol (metanol:air = 1:1). Kemudian, tablet titanium dioksida diletakkan dalam larutan yang disediakan di atas, dikeluarkan selepas 4 minit, dan dibasuh dengan cepat dengan larutan campuran metanol dan air (metanol:air=1:1) selama 1 minit. Selepas permukaan kering, tablet diletakkan di dalam relau mufle, dipanaskan dalam vakum pada suhu 380°C selama 20 minit, disejukkan pada suhu bilik, dan dikeringkan. Bilangan kitaran 2, 4, 6 dan 8.
Nanopartikel Ag mengubah suai nanokomposit Ag/NiS/TiO2 melalui fotoreduksi12,13. Nanokomposit Ag/NiS/TiO2 yang terhasil diletakkan dalam larutan perak nitrat yang diperlukan untuk eksperimen. Kemudian sampel disinari dengan cahaya ultraungu selama 30 minit, permukaannya dibersihkan dengan air ternyahion, dan nanokomposit Ag/NiS/TiO2 diperoleh melalui pengeringan semula jadi. Proses eksperimen yang diterangkan di atas ditunjukkan dalam Rajah 1.
Nanokomposit Ag/NiS/TiO2 telah dicirikan terutamanya oleh mikroskop elektron pengimbasan pancaran medan (FESEM), spektroskopi serakan tenaga (EDS), spektroskopi fotoelektron sinar-X (XPS), dan pantulan meresap dalam julat ultraungu dan nampak (UV-Vis). FESEM telah dilakukan menggunakan mikroskop Nova NanoSEM 450 (FEI Corporation, USA). Voltan pecutan 1 kV, saiz titik 2.0. Peranti ini menggunakan prob CBS untuk menerima elektron sekunder dan elektron berselerak balik untuk analisis topografi. EMF telah dijalankan menggunakan sistem EMF Oxford X-Max N50 (Oxford Instruments Technology Co., Ltd.) dengan voltan pecutan 15 kV dan saiz titik 3.0. Analisis kualitatif dan kuantitatif menggunakan sinar-X ciri. Spektroskopi fotoelektron sinar-X telah dilakukan pada spektrometer Escalab 250Xi (Thermo Fisher Scientific Corporation, USA) yang beroperasi dalam mod tenaga tetap dengan kuasa pengujaan 150 W dan sinaran Al Kα monokromatik (1486.6 eV) sebagai sumber pengujaan. Julat imbasan penuh 0–1600 eV, jumlah tenaga 50 eV, lebar langkah 1.0 eV, dan karbon tak tulen (~284.8 eV) telah digunakan sebagai rujukan pembetulan cas tenaga pengikat. Tenaga lulus untuk pengimbasan sempit ialah 20 eV dengan langkah 0.05 eV. Spektroskopi pantulan meresap di kawasan kelihatan UV telah dilakukan pada spektrometer Cary 5000 (Varian, USA) dengan plat barium sulfat piawai dalam julat pengimbasan 10–80°.
Dalam kajian ini, komposisi (peratus berat) keluli tahan karat 304 ialah 0.08 C, 1.86 Mn, 0.72 Si, 0.035 P, 0.029 s, 18.25 Cr, 8.5 Ni, dan selebihnya ialah Fe. Keluli tahan karat 304 bersaiz 10mm x 10mm x 10mm, bersalut epoksi dengan luas permukaan terdedah 1 cm2. Permukaannya diampelas dengan kertas pasir silikon karbida grit 2400 dan dibasuh dengan etanol. Keluli tahan karat kemudiannya disonikasi dalam air ternyahion selama 5 minit dan kemudian disimpan di dalam ketuhar.
Dalam eksperimen OCP, keluli tahan karat 304 dan fotoanod Ag/NiS/TiO2 masing-masing diletakkan di dalam sel kakisan dan sel fotoanod (Rajah 2). Sel kakisan diisi dengan larutan NaCl 3.5%, dan 0.25 M Na2SO3 dituang ke dalam sel fotoanod sebagai perangkap lubang. Kedua-dua elektrolit diasingkan daripada campuran menggunakan membran naftol. OCP diukur pada stesen kerja elektrokimia (P4000+, USA). Elektrod rujukan ialah elektrod kalomel tepu (SCE). Sumber cahaya (lampu xenon, PLS-SXE300C, Poisson Technologies Co., Ltd.) dan plat pemotong 420 diletakkan di saluran keluar sumber cahaya, membolehkan cahaya nampak melalui kaca kuarza ke fotoanod. Elektrod keluli tahan karat 304 disambungkan ke fotoanod dengan dawai kuprum. Sebelum eksperimen, elektrod keluli tahan karat 304 telah direndam dalam larutan NaCl 3.5% selama 2 jam untuk memastikan keadaan stabil. Pada permulaan eksperimen, apabila lampu dihidupkan dan dimatikan, elektron fotoanod yang teruja akan mencapai permukaan keluli tahan karat 304 melalui dawai.
Dalam eksperimen mengenai ketumpatan fotoarus, fotoanod 304SS dan Ag/NiS/TiO2 masing-masing diletakkan di dalam sel kakisan dan sel fotoanod (Rajah 3). Ketumpatan fotoarus diukur pada persediaan yang sama seperti OCP. Untuk mendapatkan ketumpatan fotoarus sebenar antara keluli tahan karat 304 dan fotoanod, potensiostat digunakan sebagai ammeter rintangan sifar untuk menyambungkan keluli tahan karat 304 dan fotoanod di bawah keadaan tidak terkutub. Untuk melakukan ini, elektrod rujukan dan balas dalam persediaan eksperimen telah dilitar pintas, supaya stesen kerja elektrokimia berfungsi sebagai ammeter rintangan sifar yang boleh mengukur ketumpatan arus sebenar. Elektrod keluli tahan karat 304 disambungkan ke pembumian stesen kerja elektrokimia, dan fotoanod disambungkan ke pengapit elektrod kerja. Pada permulaan eksperimen, apabila lampu dihidupkan dan dimatikan, elektron fotoanod yang teruja melalui dawai mencapai permukaan keluli tahan karat 304. Pada masa ini, perubahan dalam ketumpatan fotoarus pada permukaan keluli tahan karat 304 dapat diperhatikan.
Untuk mengkaji prestasi perlindungan katodik nanokomposit pada keluli tahan karat 304, perubahan dalam potensi fotoionisasi keluli tahan karat 304 dan nanokomposit, serta perubahan dalam ketumpatan arus fotoionisasi antara nanokomposit dan keluli tahan karat 304, telah diuji.
Pada rajah 4 menunjukkan perubahan dalam potensi litar terbuka keluli tahan karat 304 dan nanokomposit di bawah penyinaran cahaya nampak dan di bawah keadaan gelap. Pada rajah 4a menunjukkan pengaruh masa pemendapan NiS melalui rendaman pada potensi litar terbuka, dan rajah 4b menunjukkan kesan kepekatan perak nitrat pada potensi litar terbuka semasa fotoreduksi. Pada rajah 4a menunjukkan bahawa potensi litar terbuka nanokomposit NiS/TiO2 yang terikat pada keluli tahan karat 304 berkurangan dengan ketara pada saat lampu dihidupkan berbanding komposit nikel sulfida. Di samping itu, potensi litar terbuka adalah lebih negatif daripada wayar nano TiO2 tulen, menunjukkan bahawa komposit nikel sulfida menghasilkan lebih banyak elektron dan meningkatkan kesan perlindungan fotokatod daripada TiO2. Walau bagaimanapun, pada akhir pendedahan, potensi tanpa beban meningkat dengan cepat kepada potensi tanpa beban keluli tahan karat, menunjukkan bahawa nikel sulfida tidak mempunyai kesan penyimpanan tenaga. Kesan bilangan kitaran pemendapan rendaman pada potensi litar terbuka boleh diperhatikan dalam Rajah 4a. Pada masa pemendapan 6, potensi ekstrem nanokomposit mencapai -550 mV berbanding elektrod kalomel tepu, dan potensi nanokomposit yang dimendapkan dengan faktor 6 adalah jauh lebih rendah daripada nanokomposit di bawah keadaan lain. Oleh itu, nanokomposit NiS/TiO2 yang diperoleh selepas 6 kitaran pemendapan memberikan perlindungan katodik terbaik untuk keluli tahan karat 304.
Perubahan dalam OCP elektrod keluli tahan karat 304 dengan nanokomposit NiS/TiO2 (a) dan nanokomposit Ag/NiS/TiO2 (b) dengan dan tanpa pencahayaan (λ > 400 nm).
Seperti yang ditunjukkan dalam rajah 4b, potensi litar terbuka bagi nanokomposit keluli tahan karat 304 dan Ag/NiS/TiO2 berkurangan dengan ketara apabila terdedah kepada cahaya. Selepas pemendapan permukaan nanopartikel perak, potensi litar terbuka berkurangan dengan ketara berbanding wayar nano TiO2 tulen. Potensi nanokomposit NiS/TiO2 adalah lebih negatif, menunjukkan bahawa kesan perlindungan katodik TiO2 bertambah baik dengan ketara selepas nanopartikel Ag dimendapkan. Potensi litar terbuka meningkat dengan cepat pada akhir pendedahan, dan berbanding dengan elektrod kalomel tepu, potensi litar terbuka boleh mencapai -580 mV, yang lebih rendah daripada keluli tahan karat 304 (-180 mV). Keputusan ini menunjukkan bahawa nanokomposit mempunyai kesan penyimpanan tenaga yang luar biasa selepas zarah perak dimendapkan pada permukaannya. Pada rajah 4b juga menunjukkan kesan kepekatan perak nitrat pada potensi litar terbuka. Pada kepekatan perak nitrat 0.1 M, potensi pengehad relatif kepada elektrod kalomel tepu mencapai -925 mV. Selepas 4 kitaran aplikasi, potensi kekal pada tahap selepas aplikasi pertama, yang menunjukkan kestabilan nanokomposit yang sangat baik. Oleh itu, pada kepekatan perak nitrat 0.1 M, nanokomposit Ag/NiS/TiO2 yang terhasil mempunyai kesan perlindungan katodik terbaik pada keluli tahan karat 304.
Pemendapan NiS pada permukaan nanowayar TiO2 secara beransur-ansur bertambah baik dengan peningkatan masa pemendapan NiS. Apabila cahaya nampak mengenai permukaan nanowayar, lebih banyak tapak aktif nikel sulfida teruja untuk menghasilkan elektron, dan potensi fotoionisasi berkurangan dengan lebih banyak. Walau bagaimanapun, apabila nanopartikel nikel sulfida dimendapkan secara berlebihan di permukaan, nikel sulfida teruja sebaliknya berkurangan, yang tidak menyumbang kepada penyerapan cahaya. Selepas zarah perak dimendapkan di permukaan, disebabkan oleh kesan resonans plasmon permukaan zarah perak, elektron yang dihasilkan akan dipindahkan dengan cepat ke permukaan keluli tahan karat 304, menghasilkan kesan perlindungan katodik yang sangat baik. Apabila terlalu banyak zarah perak dimendapkan di permukaan, zarah perak menjadi titik penggabungan semula untuk fotoelektron dan lubang, yang tidak menyumbang kepada penjanaan fotoelektron. Kesimpulannya, nanokomposit Ag/NiS/TiO2 boleh memberikan perlindungan katodik terbaik untuk keluli tahan karat 304 selepas pemendapan nikel sulfida 6 kali ganda di bawah 0.1 M nitrat perak.
Nilai ketumpatan fotoarus mewakili kuasa pemisahan elektron dan lubang fotojana, dan semakin besar ketumpatan fotoarus, semakin kuat kuasa pemisahan elektron dan lubang fotojana. Terdapat banyak kajian yang menunjukkan bahawa NiS digunakan secara meluas dalam sintesis bahan fotopemangkin untuk meningkatkan sifat fotoelektrik bahan dan untuk memisahkan lubang15,16,17,18,19,20. Chen et al. mengkaji komposit grafena bebas logam mulia dan g-C3N4 yang diubah suai bersama dengan NiS15. Keamatan maksimum fotoarus g-C3N4/0.25%RGO/3%NiS yang diubah suai ialah 0.018 μA/cm2. Chen et al. mengkaji CdSe-NiS dengan ketumpatan fotoarus kira-kira 10 µA/cm2.16. Liu et al. mensintesis komposit CdS@NiS dengan ketumpatan fotoarus 15 µA/cm218. Walau bagaimanapun, penggunaan NiS untuk perlindungan fotokatod masih belum dilaporkan. Dalam kajian kami, ketumpatan fotoarus TiO2 telah meningkat dengan ketara melalui pengubahsuaian NiS. Rajah 5 menunjukkan perubahan dalam ketumpatan fotoarus keluli tahan karat 304 dan nanokomposit di bawah keadaan cahaya yang boleh dilihat dan tanpa pencahayaan. Seperti yang ditunjukkan dalam Rajah 5a, ketumpatan fotoarus nanokomposit NiS/TiO2 meningkat dengan cepat sebaik sahaja lampu dihidupkan, dan ketumpatan fotoarus adalah positif, menunjukkan aliran elektron dari nanokomposit ke permukaan melalui stesen kerja elektrokimia. Keluli tahan karat 304. Selepas penyediaan komposit nikel sulfida, ketumpatan fotoarus adalah lebih besar daripada dawai nano TiO2 tulen. Ketumpatan fotoarus NiS mencapai 220 μA/cm2, iaitu 6.8 kali lebih tinggi daripada dawai nano TiO2 (32 μA/cm2), apabila NiS direndam dan dimendapkan sebanyak 6 kali. Seperti yang ditunjukkan dalam Rajah. Seperti yang ditunjukkan dalam Rajah 5b, ketumpatan fotoarus antara nanokomposit Ag/NiS/TiO2 dan keluli tahan karat 304 adalah jauh lebih tinggi berbanding antara TiO2 tulen dan nanokomposit NiS/TiO2 apabila dihidupkan di bawah lampu xenon. Pada rajah 5b, Rajah 5b juga menunjukkan kesan kepekatan AgNO2 terhadap ketumpatan fotoarus semasa fotoreduksi. Pada kepekatan perak nitrat 0.1 M, ketumpatan fotoarusnya mencapai 410 μA/cm2, iaitu 12.8 kali lebih tinggi daripada wayar nano TiO2 (32 μA/cm2) dan 1.8 kali lebih tinggi daripada nanokomposit NiS/TiO2. Medan elektrik heterojunction terbentuk pada antara muka nanokomposit Ag/NiS/TiO2, yang memudahkan pemisahan elektron fotojana daripada lubang.
Perubahan dalam ketumpatan fotoarus elektrod keluli tahan karat 304 dengan (a) nanokomposit NiS/TiO2 dan (b) nanokomposit Ag/NiS/TiO2 dengan dan tanpa pencahayaan (λ > 400 nm).
Oleh itu, selepas 6 kitaran rendaman-pemendapan nikel sulfida dalam 0.1 M nitrat perak pekat, ketumpatan fotoarus antara nanokomposit Ag/NiS/TiO2 dan keluli tahan karat 304 mencapai 410 μA/cm2, yang lebih tinggi daripada elektrod kalomel tepu. Elektrod mencapai -925 mV. Di bawah keadaan ini, keluli tahan karat 304 yang digabungkan dengan Ag/NiS/TiO2 boleh memberikan perlindungan katodik yang terbaik.
Pada rajah 6 menunjukkan imej mikroskop elektron permukaan nanowayar titanium dioksida tulen, nanopartikel nikel sulfida komposit, dan nanopartikel perak di bawah keadaan optimum. Pada rajah 6a, d menunjukkan nanowayar TiO2 tulen yang diperoleh melalui anodisasi peringkat tunggal. Taburan permukaan nanowayar titanium dioksida adalah seragam, struktur nanowayar rapat antara satu sama lain, dan taburan saiz liang adalah seragam. Rajah 6b dan e ialah mikrograf elektron titanium dioksida selepas pengimpregnaan 6 kali ganda dan pemendapan komposit nikel sulfida. Daripada imej mikroskopik elektron yang dibesarkan 200,000 kali dalam Rajah 6e, dapat dilihat bahawa nanopartikel komposit nikel sulfida agak homogen dan mempunyai saiz zarah yang besar dengan diameter kira-kira 100–120 nm. Sesetengah nanopartikel boleh diperhatikan dalam kedudukan ruang nanowayar, dan nanowayar titanium dioksida kelihatan jelas. Pada rajah. 6c,f menunjukkan imej mikroskopik elektron nanokomposit NiS/TiO2 pada kepekatan AgNO3 sebanyak 0.1 M. Berbanding dengan Rajah 6b dan rajah 6e, rajah 6c dan rajah 6f menunjukkan bahawa nanopartikel Ag termendap pada permukaan bahan komposit, dengan nanopartikel Ag teragih secara seragam dengan diameter kira-kira 10 nm. Pada rajah 7 menunjukkan keratan rentas nanofilem Ag/NiS/TiO2 yang tertakluk kepada 6 kitaran pemendapan celup NiS pada kepekatan AgNO3 sebanyak 0.1 M. Daripada imej pembesaran tinggi, ketebalan filem yang diukur ialah 240-270 nm. Oleh itu, nanopartikel nikel dan perak sulfida dipasang pada permukaan wayar nano TiO2.
Nanokomposit TiO2 tulen (a, d), NiS/TiO2 dengan 6 kitaran pemendapan celup NiS (b, e) dan Ag/NiS/NiS dengan 6 kitaran pemendapan celup NiS pada imej SEM 0.1 M AgNO3 bagi nanokomposit TiO2 (c, e).
Keratan rentas nanofilem Ag/NiS/TiO2 yang menjalani 6 kitaran pemendapan celup NiS pada kepekatan AgNO3 sebanyak 0.1 M.
Rajah 8 menunjukkan taburan permukaan unsur-unsur di atas permukaan nanokomposit Ag/NiS/TiO2 yang diperoleh daripada 6 kitaran pemendapan celup nikel sulfida pada kepekatan nitrat perak 0.1 M. Taburan permukaan unsur menunjukkan bahawa Ti, O, Ni, S dan Ag dikesan menggunakan spektroskopi tenaga. Dari segi kandungan, Ti dan O adalah unsur yang paling biasa dalam taburan, manakala Ni dan S adalah lebih kurang sama, tetapi kandungannya jauh lebih rendah daripada Ag. Ia juga boleh dibuktikan bahawa jumlah nanopartikel perak komposit permukaan adalah lebih besar daripada nikel sulfida. Taburan seragam unsur-unsur di permukaan menunjukkan bahawa nikel dan perak sulfida terikat secara seragam pada permukaan wayar nano TiO2. Analisis spektroskopi fotoelektron sinar-X juga dijalankan untuk menganalisis komposisi khusus dan keadaan pengikatan bahan.
Taburan unsur (Ti, O, Ni, S, dan Ag) nanokomposit Ag/NiS/TiO2 pada kepekatan AgNO3 0.1 M untuk 6 kitaran pemendapan celup NiS.
Pada rajah 9, Rajah 9 menunjukkan spektrum XPS nanokomposit Ag/NiS/TiO2 yang diperoleh menggunakan 6 kitaran pemendapan nikel sulfida dengan rendaman dalam 0.1 M AgNO3, di mana rajah 9a ialah spektrum penuh, dan spektrum selebihnya ialah spektrum resolusi tinggi unsur-unsur tersebut. Seperti yang dapat dilihat daripada spektrum penuh dalam Rajah 9a, puncak penyerapan Ti, O, Ni, S, dan Ag ditemui dalam nanokomposit, yang membuktikan kewujudan lima unsur ini. Keputusan ujian adalah selaras dengan EDS. Puncak berlebihan dalam Rajah 9a ialah puncak karbon yang digunakan untuk membetulkan tenaga pengikatan sampel. Pada rajah 9b, spektrum tenaga resolusi tinggi Ti. Puncak penyerapan orbital 2p terletak pada 459.32 dan 465 eV, yang sepadan dengan penyerapan orbital Ti 2p3/2 dan Ti 2p1/2. Dua puncak penyerapan membuktikan bahawa titanium mempunyai valens Ti4+, yang sepadan dengan Ti dalam TiO2.
Spektrum XPS bagi ukuran Ag/NiS/TiO2 (a) dan spektrum XPS resolusi tinggi bagi Ti2p(b), O1s(c), Ni2p(d), S2p(e), dan Ag 3d(f).
Pada rajah 9d menunjukkan spektrum tenaga Ni beresolusi tinggi dengan empat puncak penyerapan untuk orbital Ni 2p. Puncak penyerapan pada 856 dan 873.5 eV sepadan dengan orbital Ni 2p3/2 dan Ni 2p1/2 8.10, di mana puncak penyerapan tergolong dalam NiS. Puncak penyerapan pada 881 dan 863 eV adalah untuk nikel nitrat dan disebabkan oleh reagen nikel nitrat semasa penyediaan sampel. Pada rajah 9e menunjukkan spektrum-S beresolusi tinggi. Puncak penyerapan orbital S 2p terletak pada 161.5 dan 168.1 eV, yang sepadan dengan orbital S 2p3/2 dan S 2p1/2 21, 22, 23, 24. Kedua-dua puncak ini tergolong dalam sebatian nikel sulfida. Puncak penyerapan pada 169.2 dan 163.4 eV adalah untuk reagen natrium sulfida. Pada rajah. 9f menunjukkan spektrum Ag beresolusi tinggi di mana puncak penyerapan orbital 3d perak terletak masing-masing pada 368.2 dan 374.5 eV, dan dua puncak penyerapan sepadan dengan orbit penyerapan Ag 3d5/2 dan Ag 3d3/212, 13. Puncak di kedua-dua tempat ini membuktikan bahawa nanopartikel perak wujud dalam keadaan perak unsur. Oleh itu, nanokomposit terutamanya terdiri daripada Ag, NiS dan TiO2, yang ditentukan oleh spektroskopi fotoelektron sinar-X, yang membuktikan bahawa nanopartikel nikel dan perak sulfida berjaya digabungkan pada permukaan wayar nano TiO2.
Pada rajah 10, spektrum pantulan resapan UV-VIS bagi nanowayar TiO2 yang baru disediakan, nanokomposit NiS/TiO2, dan nanokomposit Ag/NiS/TiO2. Dapat dilihat daripada rajah tersebut bahawa ambang penyerapan nanowayar TiO2 adalah kira-kira 390 nm, dan cahaya yang diserap terutamanya tertumpu di kawasan ultraungu. Dapat dilihat daripada rajah tersebut bahawa selepas gabungan nanopartikel nikel dan perak sulfida pada permukaan nanowayar titanium dioksida 21, 22, cahaya yang diserap merambat ke kawasan cahaya yang boleh dilihat. Pada masa yang sama, nanokomposit telah meningkatkan penyerapan UV, yang dikaitkan dengan jurang jalur nikel sulfida yang sempit. Semakin sempit jurang jalur, semakin rendah penghalang tenaga untuk peralihan elektronik dan semakin tinggi tahap penggunaan cahaya. Selepas menggabungkan permukaan NiS/TiO2 dengan nanopartikel perak, keamatan penyerapan dan panjang gelombang cahaya tidak meningkat dengan ketara, terutamanya disebabkan oleh kesan resonans plasmon pada permukaan nanopartikel perak. Panjang gelombang penyerapan nanowayar TiO2 tidak bertambah baik dengan ketara berbanding jurang jalur sempit nanopartikel NiS komposit. Secara ringkasnya, selepas nanopartikel nikel sulfida dan perak komposit diletakkan pada permukaan nanowayar titanium dioksida, ciri penyerapan cahayanya bertambah baik dengan ketara, dan julat penyerapan cahaya dilanjutkan daripada cahaya ultraungu kepada cahaya nampak, yang meningkatkan kadar penggunaan nanowayar titanium dioksida. cahaya yang meningkatkan keupayaan bahan untuk menjana fotoelektron.
Spektrum pantulan resapan UV/Vis bagi nanowayar TiO2 segar, nanokomposit NiS/TiO2 dan nanokomposit Ag/NiS/TiO2.
Rajah 11 menunjukkan mekanisme rintangan kakisan fotokimia nanokomposit Ag/NiS/TiO2 di bawah penyinaran cahaya nampak. Berdasarkan taburan potensi nanopartikel perak, nikel sulfida, dan jalur konduksi titanium dioksida, peta kemungkinan mekanisme rintangan kakisan dicadangkan. Oleh kerana potensi jalur konduksi nanoperak adalah negatif berbanding nikel sulfida, dan potensi jalur konduksi nikel sulfida adalah negatif berbanding titanium dioksida, arah aliran elektron adalah kira-kira Ag→NiS→TiO2→304 keluli tahan karat. Apabila cahaya disinari pada permukaan nanokomposit, disebabkan oleh kesan resonans plasmon permukaan nanoperak, nanoperak boleh menghasilkan lubang dan elektron fotojana dengan cepat, dan elektron fotojana bergerak dengan cepat dari kedudukan jalur valens ke kedudukan jalur konduksi akibat pengujaan. Titanium dioksida dan nikel sulfida. Oleh kerana kekonduksian nanopartikel perak lebih negatif daripada nikel sulfida, elektron dalam TS nanopartikel perak ditukar dengan cepat kepada TS nikel sulfida. Potensi pengaliran nikel sulfida adalah lebih negatif daripada titanium dioksida, jadi elektron nikel sulfida dan kekonduksian perak cepat terkumpul dalam CB titanium dioksida. Elektron fotojana yang dihasilkan mencapai permukaan keluli tahan karat 304 melalui matriks titanium, dan elektron yang diperkaya mengambil bahagian dalam proses pengurangan oksigen katodik keluli tahan karat 304. Proses ini mengurangkan tindak balas katodik dan pada masa yang sama menyekat tindak balas pembubaran anodik keluli tahan karat 304, sekali gus merealisasikan perlindungan katodik keluli tahan karat 304. Disebabkan pembentukan medan elektrik heterojunction dalam nanokomposit Ag/NiS/TiO2, potensi pengaliran nanokomposit beralih ke kedudukan yang lebih negatif, yang dengan lebih berkesan meningkatkan kesan perlindungan katodik keluli tahan karat 304.
Gambarajah skematik proses anti-karat fotoelektrokimia nanokomposit Ag/NiS/TiO2 dalam cahaya nampak.
Dalam kajian ini, nanopartikel nikel dan perak sulfida telah disintesis pada permukaan dawai nano TiO2 melalui kaedah rendaman dan fotoreduksi yang mudah. ​​Satu siri kajian mengenai perlindungan katodik nanokomposit Ag/NiS/TiO2 pada keluli tahan karat 304 telah dijalankan. Berdasarkan ciri-ciri morfologi, analisis komposisi dan analisis ciri-ciri penyerapan cahaya, kesimpulan utama berikut telah dibuat:
Dengan beberapa kitaran impregnasi-pemendapan nikel sulfida sebanyak 6 dan kepekatan perak nitrat untuk fotoreduksi sebanyak 0.1 mol/l, nanokomposit Ag/NiS/TiO2 yang terhasil mempunyai kesan perlindungan katodik yang lebih baik pada keluli tahan karat 304. Berbanding dengan elektrod kalomel tepu, potensi perlindungan mencapai -925 mV, dan arus perlindungan mencapai 410 μA/cm2.
Medan elektrik heterosimpang terbentuk pada antara muka nanokomposit Ag/NiS/TiO2, yang meningkatkan kuasa pemisahan elektron dan lubang fotojana. Pada masa yang sama, kecekapan penggunaan cahaya meningkat dan julat penyerapan cahaya dilanjutkan dari kawasan ultraungu ke kawasan yang kelihatan. Nanokomposit masih akan mengekalkan keadaan asalnya dengan kestabilan yang baik selepas 4 kitaran.
Nanokomposit Ag/NiS/TiO2 yang disediakan secara eksperimen mempunyai permukaan yang seragam dan padat. Nanopartikel nikel sulfida dan perak terkompaun secara seragam pada permukaan dawai nano TiO2. Nanopartikel kobalt ferit dan perak komposit mempunyai ketulenan yang tinggi.
Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF & Shen, JN Kesan perlindungan fotokatod filem TiO2 untuk keluli karbon dalam larutan NaCl 3%. Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF & Shen, JN Kesan perlindungan fotokatod filem TiO2 untuk keluli karbon dalam larutan NaCl 3%. Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF & Shen, JN Эффект фотокатодной защиты пленок TiO2 для углеродистой стали dalam 3% komponen NaCl. Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF & Shen, JN Kesan perlindungan fotokatod filem TiO2 untuk keluli karbon dalam larutan NaCl 3%. Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF & Shen, JN TiO2 薄膜在3% NaCl 溶液中对碳钢的光阴极保护效果。 Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF & Shen, JN TiO2 薄膜在3% NaCl 溶液中对碳钢的光阴极保护效果。 Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF & Shen, JN Фотокатодная защита углеродистой стали тонкими пленками TiO2 в 3% растворе NaCl. Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF & Shen, JN Perlindungan fotokatod keluli karbon dengan filem nipis TiO2 dalam larutan NaCl 3%.Elektrokimia. Acta 50, 3401–3406 (2005).
Li, J., Lin, CJ, Lai, YK & Du, RG Perlindungan katodik fotojana bagi filem TiO2 berstruktur nano seperti bunga, didop-N pada keluli tahan karat. Li, J., Lin, CJ, Lai, YK & Du, RG Perlindungan katodik fotojana bagi filem TiO2 berstruktur nano seperti bunga, didop-N pada keluli tahan karat.Lee, J., Lin, SJ, Lai, YK dan Du, RG Perlindungan katodik fotojana bagi filem TiO2 berstruktur nano yang didop nitrogen dalam bentuk bunga pada keluli tahan karat. Li, J., Lin, CJ, Lai, YK & Du, RG 花状纳米结构N 掺杂TiO2 薄膜在不锈钢上的光生阴极保护。 Li, J., Lin, CJ, Lai, YK & Du, RG.Lee, J., Lin, SJ, Lai, YK dan Du, RG Perlindungan katodik fotojana bagi filem nipis nano berstruktur berbentuk bunga TiO2 yang didop nitrogen pada keluli tahan karat.melayari teknologi kot. 205, 557–564 (2010).
Zhou, MJ, Zeng, ZO & Zhong, L. Sifat perlindungan katod fotojana bagi salutan TiO2/WO3 bersaiz nano. Zhou, MJ, Zeng, ZO & Zhong, L. Sifat perlindungan katod fotojana bagi salutan TiO2/WO3 bersaiz nano.Zhou, MJ, Zeng, ZO dan Zhong, L. Sifat pelindung katodik fotojana bagi salutan nano TiO2/WO3. Zhou, MJ, Zeng, ZO & Zhong, L. 纳米TiO2/WO3 涂层的光生阴极保护性能。 Zhou, MJ, Zeng, ZO & Zhong, L. 纳米TiO2/WO3 涂层的光生阴极保护性能。Zhou MJ, Zeng ZO dan Zhong L. Sifat pelindung katodik fotojana bagi salutan nano-TiO2/WO3.koros. sains. 51, 1386–1397 (2009).
Park, H., Kim, KY & Choi, W. Pendekatan fotoelektrokimia untuk pencegahan kakisan logam menggunakan fotoanod semikonduktor. Park, H., Kim, KY & Choi, W. Pendekatan fotoelektrokimia untuk pencegahan kakisan logam menggunakan fotoanod semikonduktor.Park, H., Kim, K.Yu. dan Choi, V. Pendekatan fotoelektrokimia untuk pencegahan kakisan logam menggunakan fotoanod semikonduktor. Park, H., Kim, KY & Choi, W. 使用半导体光阳极防止金属腐蚀的光电化学方法。 Park, H., Kim, KY & Choi, W.Park H., Kim K.Yu. dan Choi V. Kaedah fotoelektrokimia untuk mencegah kakisan logam menggunakan fotoanod semikonduktor.J. Fizik. Kimia. V. 106, 4775–4781 (2002).
Shen, GX, Chen, YC, Lin, L., Lin, CJ & Scantlebury, D. Kajian tentang salutan nano-TiO2 hidrofobik dan sifatnya untuk perlindungan kakisan logam. Shen, GX, Chen, YC, Lin, L., Lin, CJ & Scantlebury, D. Kajian tentang salutan nano-TiO2 hidrofobik dan sifatnya untuk perlindungan kakisan logam. Shen, GX, Chen, YC, Lin, L., Lin, CJ & Scantlebury, D. Shen, GX, Chen, YC, Lin, L., Lin, CJ & Scantlebury, D. Penyiasatan salutan nano-TiO2 hidrofobik dan sifatnya untuk perlindungan kakisan logam. Shen, GX, Chen, YC, Lin, L., Lin, CJ & Scantlebury, D. 疏水纳米二氧化钛涂层及其金属腐蚀防护性能的研究。 Shen, GX, Chen, YC, Lin, L., Lin, CJ & Scantlebury, D. Kajian salutan nano-titanium dioksida dan sifat perlindungan kakisan logamnya. Shen, GX, Chen, YC, Lin, L., Lin, CJ & Scantlebury, D. Гидрофобные покрытия из нано-TiO2 dan их свойства защиты металлов от коррозии. Shen, GX, Chen, YC, Lin, L., Lin, CJ & Scantlebury, D. Salutan hidrofobik nano-TiO2 dan sifat perlindungan kakisannya untuk logam.Elektrokimia. Acta 50, 5083–5089 (2005).
Yun, H., Li, J., Chen, HB & Lin, CJ Satu kajian mengenai salutan nano-TiO2 yang diubah suai N, S dan Cl untuk perlindungan kakisan keluli tahan karat. Yun, H., Li, J., Chen, HB & Lin, CJ Satu kajian mengenai salutan nano-TiO2 yang diubah suai N, S dan Cl untuk perlindungan kakisan keluli tahan karat.Yun, H., Li, J., Chen, HB dan Lin, SJ Penyiasatan salutan nano-TiO2 yang diubah suai dengan nitrogen, sulfur dan klorin untuk perlindungan kakisan keluli tahan karat. Yun, H., Li, J., Chen, HB & Lin, CJ N、S 和Cl 改性纳米二氧化钛涂层用于不锈钢腐蚀防护的研究。 Yun, H., Li, J., Chen, HB & Lin, CJ N, S dan Cl Yun, H., Li, J., Chen, HB & Lin, CJ Покрытия N, S и Cl, модифицированные нано-TiO2, для защиты от коррозии нержавеющей стали Yun, H., Li, J., Chen, HB & Lin, CJ Salutan N, S dan Cl yang diubah suai Nano-TiO2 untuk perlindungan kakisan keluli tahan karat.Elektrokimia. Jilid 52, 6679–6685 (2007).
Zhu, YF, Du, RG, Chen, W., Qi, HQ & Lin, CJ Sifat perlindungan fotokatod filem rangkaian dawai nano titanat tiga dimensi yang disediakan melalui kaedah gabungan sol-gel dan hidroterma. Zhu, YF, Du, RG, Chen, W., Qi, HQ & Lin, CJ Sifat perlindungan fotokatod filem rangkaian dawai nano titanat tiga dimensi yang disediakan melalui kaedah gabungan sol-gel dan hidroterma. Zhu, YF, Du, RG, Chen, W., Qi, HQ & Lin, CJ . комбинированным золь-гель и гидротермическим методом. Zhu, YF, Du, RG, Chen, W., Qi, HQ & Lin, CJ Sifat pelindung fotokatod filem bersih tiga dimensi dawai nano titanat yang disediakan melalui gabungan kaedah sol-gel dan hidroterma. Zhu, YF, Du, RG, Chen, W., Qi, HQ & Lin, CJ 溶胶-凝胶和水热法制备三维钛酸盐纳米线网络薄膜的光。 Zhu, YF, Du, RG, Chen, W., Qi, HQ & Lin, CJ. Sifat perlindungan 消铺-铲和水热法发气小水小水化用线线电视电器电影电影电影电影电影电影电影电影电影电影. Zhu, YF, Du, RG, Chen, W., Qi, HQ & Lin, CJ. золь-гель и гидротермическими методами. Zhu, YF, Du, RG, Chen, W., Qi, HQ & Lin, CJ Sifat perlindungan fotokatod filem nipis rangkaian dawai nano titanat tiga dimensi yang disediakan melalui kaedah sol-gel dan hidroterma.Elektrokimia. berkomunikasi 12, 1626–1629 (2010).
Lee, JH, Kim, SI, Park, SM & Kang, M. Sistem fotopemangkin TiO2 yang dipeka NiS heterojunction pn untuk fotoreduksi karbon dioksida kepada metana yang cekap. Lee, JH, Kim, SI, Park, SM & Kang, M. Sistem fotopemangkin TiO2 yang dipeka NiS heterojunction pn untuk fotoreduksi karbon dioksida kepada metana yang cekap.Lee, JH, Kim, SI, Park, SM, dan Kang, M. Sistem fotopemangkin TiO2 yang disesensitifkan oleh NiS pn-heterojunction untuk fotoreduksi karbon dioksida kepada metana yang cekap. Lee, JH, Kim, SI, Park, SM & Kang, M. 一种pn 异质结NiS 敏化TiO2 光催化系统，用于将二氧化碳高效化碳高效光丘。 Lee, JH, Kim, SI, Park, SM & Kang, M.Lee, JH, Kim, SI, Park, SM, dan Kang, M. Sistem fotopemangkin TiO2 yang disesensitifkan oleh NiS pn-heterojunction untuk fotoreduksi karbon dioksida kepada metana yang cekap.seramik. Tafsiran. 43, 1768–1774 (2017).
Wang, QZ dkk. CuS dan NiS bertindak sebagai pemangkin bersama untuk meningkatkan evolusi hidrogen fotopemangkin pada TiO2. Tafsiran. J.Hydro. Tenaga 39, 13421–13428 (2014).
Liu, Y. & Tang, C. Peningkatan evolusi H2 fotopemangkin ke atas filem nano-lembaran TiO2 melalui nanopartikel NiS pemuatan permukaan. Liu, Y. & Tang, C. Peningkatan evolusi H2 fotopemangkin ke atas filem nano-lembaran TiO2 melalui nanopartikel NiS pemuatan permukaan.Liu, Y. dan Tang, K. Peningkatan pembebasan H2 fotopemangkin dalam filem nanosheet TiO2 melalui pemuatan permukaan nanopartikel NiS. Liu, Y. & Tang, C. 通过表面负载NiS 纳米颗粒增强TiO2 纳米片薄膜上的光催化产氢。 Liu, Y. & Tang, C.Liu, Y. dan Tang, K. Meningkatkan penghasilan hidrogen fotopemangkin pada filem nipis nanosheet TiO2 dengan memendapkan nanopartikel NiS pada permukaan.las. J. Fizik. Kimia. A 90, 1042–1048 (2016).
Huang, XW & Liu, ZJ Kajian perbandingan struktur dan sifat filem nanowayar berasaskan Ti–O yang disediakan melalui kaedah anodisasi dan pengoksidaan kimia. Huang, XW & Liu, ZJ Kajian perbandingan struktur dan sifat filem nanowayar berasaskan Ti–O yang disediakan melalui kaedah anodisasi dan pengoksidaan kimia. Huang, XW & Liu, ZJ Сравнительное исследование структуры и свойств пленок нанопроводов на основе Ti-O, полученных миванидов химического окисления. Huang, XW & Liu, ZJ Satu kajian perbandingan struktur dan sifat filem dawai nano Ti-O yang diperoleh melalui kaedah anodisasi dan pengoksidaan kimia. Huang, XW & Liu, ZJ 阳极氧化法和化学氧化法制备的Ti-O 基纳米线薄膜结构和性能的比较。 Huang, XW & Liu, ZJ 阳极oxidation法和chemicaloxidation法preparation的Ti-O基基基小线thin film structure和property的comparative research. Huang, XW & Liu, ZJ Сравнительное исследование структуры и свойств тонких пленок из нанопроволоки на основе Ti-O, полихач химическим окислением. Huang, XW & Liu, ZJ Satu kajian perbandingan struktur dan sifat filem nipis dawai nano Ti-O2 yang disediakan melalui anodisasi dan pengoksidaan kimia.J. Alma mater. sains teknologi 30, 878–883 (2014).
Li, H., Wang, XT, Liu, Y. & Hou, BR Ag dan SnO2 telah mensesensitisasi fotoanod TiO2 bersama untuk perlindungan 304SS di bawah cahaya yang boleh dilihat. Li, H., Wang, XT, Liu, Y. & Hou, BR Ag dan SnO2 telah mensesensitisasi fotoanod TiO2 bersama untuk perlindungan 304SS di bawah cahaya yang boleh dilihat. Li, H., Wang, XT, Liu, Y. & Hou, BR Ag dan SnO2 совместно сенсибилизировали фотоаноды TiO2 для защиты 304SS в видимом свете. Li, H., Wang, XT, Liu, Y. & Hou, BR Ag dan SnO2 telah mengkosensitisasi fotoanod TiO2 untuk melindungi 304SS dalam cahaya yang boleh dilihat. Li, H., Wang, XT, Liu, Y. & Hou, BR Ag 和SnO2 共敏化TiO2 光阳极，用于在可见光下保护304SS。 Li, H., Wang, XT, Liu, Y. & Hou, BR Ag Li, H., Wang, XT, Liu, Y. & Hou, BR Фотоанод TiO2, совместно сенсибилизированный Ag и SnO2, для защиты 304SS в видимом свете. Li, H., Wang, XT, Liu, Y. & Hou, BR Fotoanod TiO2 A disensitisasi bersama dengan Ag dan SnO2 untuk perisaian cahaya nampak bagi 304SS.koros. sains. 82, 145–153 (2014).
Wen, ZH, Wang, N., Wang, J. & Hou, BR Ag dan CoFe2O4 telah mensentitisasi dawai nano TiO2 secara bersama untuk perlindungan fotokatod 304 SS di bawah cahaya nampak. Wen, ZH, Wang, N., Wang, J. & Hou, BR Ag dan CoFe2O4 telah mensentitisasi dawai nano TiO2 secara bersama untuk perlindungan fotokatod 304 SS di bawah cahaya nampak.Wen, ZH, Wang, N., Wang, J. dan Howe, BR Ag dan CoFe2O4 telah disensitisasi bersama dengan dawai nano TiO2 untuk perlindungan fotokatod 304 SS dalam cahaya nampak. Wen, ZH, Wang, N., Wang, J. & Hou, BR Ag 和CoFe2O4 共敏化TiO2 纳米线，用于在可见光下对304 SS 进行光阴极。 Wen, ZH, Wang, N., Wang, J. & Hou, BR AgWen, ZH, Wang, N., Wang, J. dan Howe, BR Ag dan CoFe2O4 telah mensesensitkan wayar nano TiO2 secara bersama untuk perlindungan fotokatod 304 SS dalam cahaya nampak.Tafsiran. J. Elektrokimia. sains. 13, 752–761 (2018).
Bu, YY & Ao, JP Satu ulasan tentang filem nipis semikonduktor perlindungan katodik fotoelektrokimia untuk logam. Bu, YY & Ao, JP Satu ulasan tentang perlindungan katodik fotoelektrokimia filem nipis semikonduktor untuk logam. Bu, YY & Ao, JP Обзор фотоэлектрохимической катодной защиты тонких полупроводниковых пленок для металлов. Bu, YY & Ao, JP Ulasan Perlindungan Katodik Fotoelektrokimia Filem Nipis Semikonduktor untuk Logam. Bu, YY & Ao, JP 金属光电化学阴极保护半导体薄膜综述。 Bu, YY & Ao, JP metallization 光电视光阴极电影电影电影电视设计。 Bu, YY & Ao, JP Обзор металлической фотоэлектрохимической катодной защиты тонких полупроводниковых пленок. Bu, YY & Ao, JP Satu ulasan tentang perlindungan katodik fotoelektrokimia logam bagi filem semikonduktor nipis.Persekitaran tenaga hijau. 2, 331–362 (2017).