Nature.com غا كىرگىنىڭىزگە رەھمەت. سىز ئىشلىتىۋاتقان تور كۆرگۈچنىڭ نەشرىدە CSS قوللاش چەكلىك. ئەڭ ياخشى تەجرىبە ئۈچۈن، يېڭىلانغان تور كۆرگۈچ ئىشلىتىشىڭىزنى (ياكى Internet Explorer دا ماسلىشىشچانلىق ھالىتىنى چەكلىشىڭىزنى) تەۋسىيە قىلىمىز. بۇ ئارىلىقتا، داۋاملىق قوللاشنى كاپالەتلەندۈرۈش ئۈچۈن، تور بېكەتنى ئۇسلۇب ۋە JavaScriptسىز كۆرسىتىمىز.
TiO2 فوتوئېلېكتر ئۆزگەرتىشتە ئىشلىتىلىدىغان يېرىم ئۆتكۈزگۈچ ماتېرىيال. نۇرنىڭ ئىشلىتىلىشىنى ياخشىلاش ئۈچۈن، TiO2 نانو سىملىرىنىڭ يۈزىدە ئاددىي چىلاش ۋە فوتورېداتسىيە ئۇسۇلى ئارقىلىق نىكېل ۋە كۈمۈش سۇلفىد نانو زەررىچىلىرى سىنتېز قىلىندى. Ag/NiS/TiO2 نانوكومپوزىتلىرىنىڭ 304 داتلاشماس پولاتقا بولغان كاتود قوغداش رولى توغرىسىدا بىر قاتار تەتقىقاتلار ئېلىپ بېرىلدى، ھەمدە ماتېرىياللارنىڭ مورفولوگىيەسى، تەركىبى ۋە نۇرنى سۈمۈرۈش خۇسۇسىيەتلىرى تولۇقلاندى. نەتىجىلەر شۇنى كۆرسىتىپ بېرىدۇكى، تەييارلانغان Ag/NiS/TiO2 نانوكومپوزىتلىرى نىكېل سۇلفىدنىڭ چىلىنىش-چۆكۈش دەۋرىيلىكى 6، كۈمۈش نىتراتنىڭ فوتورېداتسىيە قويۇقلۇقى 0.1M بولغاندا، 304 داتلاشماس پولات ئۈچۈن ئەڭ ياخشى كاتود قوغداش بىلەن تەمىنلىيەلەيدۇ.
يېقىنقى يىللاردىن بۇيان قۇياش نۇرى ئارقىلىق فوتوكاتود قوغداش ئۈچۈن n تىپلىق يېرىم ئۆتكۈزگۈچنى قوللىنىش قىزىق تېمىغا ئايلاندى. قۇياش نۇرى بىلەن قوزغىتىلغاندا، يېرىم ئۆتكۈزگۈچ ماتېرىيالنىڭ ۋالېنسلىق بەلبېغى (VB) دىكى ئېلېكترونلار ئۆتكۈزۈش بەلبېغى (CB) غا قوزغىلىپ، فوتو ھاسىل بولغان ئېلېكترونلارنى ھاسىل قىلىدۇ. ئەگەر يېرىم ئۆتكۈزگۈچ ياكى نانوكومپوزىتنىڭ ئۆتكۈزۈش بەلبېغى پوتېنسىيالى باغلانغان مېتالنىڭ ئۆز-ئۆزىدىن ئويۇش پوتېنسىيالىدىن كۆپ مەنپىي بولسا، بۇ فوتو ھاسىل بولغان ئېلېكترونلار باغلانغان مېتالنىڭ يۈزىگە يۆتكىلىدۇ. ئېلېكترونلارنىڭ توپلىنىشى مېتالنىڭ كاتود قۇتۇپلىشىشىنى كەلتۈرۈپ چىقىرىدۇ ۋە مۇناسىۋەتلىك مېتالنىڭ كاتود قوغداش رولىنى ئوينايدۇ1،2،3،4،5،6،7. يېرىم ئۆتكۈزگۈچ ماتېرىيال نەزەرىيە جەھەتتىن قۇربانلىق قىلىنمايدىغان فوتوئانود دەپ قارىلىدۇ، چۈنكى ئانود رېئاكسىيەسى يېرىم ئۆتكۈزگۈچ ماتېرىيالنىڭ ئۆزىنى پارچىلىمايدۇ، بەلكى فوتو ھاسىل بولغان تۆشۈكلەر ياكى ئادسوربلانغان ئورگانىك بۇلغىمىلار ئارقىلىق سۇنىڭ ئوكسىدلىنىشى ياكى فوتو ھاسىل بولغان تۆشۈكلەرنى تۇتۇۋالىدىغان توپلىغۇچىلارنىڭ بولۇشى سەۋەبىدىن. ئەڭ مۇھىمى، يېرىم ئۆتكۈزگۈچ ماتېرىيالنىڭ CB پوتېنسىيالى قوغدىلىۋاتقان مېتالنىڭ چىرىش پوتېنسىيالىدىن كۆپ مەنپىي بولۇشى كېرەك. شۇنداق قىلغاندىلا فوتو ھاسىل قىلغان ئېلېكترونلار يېرىم ئۆتكۈزگۈچنىڭ ئۆتكۈزۈش بەلبېغىدىن قوغدىلىدىغان مېتالغا ئۆتەلەيدۇ. فوتوخېمىيىلىك چىرىشكە قارشى تۇرۇش تەتقىقاتى كەڭ بەلباغ بوشلۇقى (3.0–3.2EV)1،2،3،4،5،6،7 بولغان ئانئورگانىك n تىپلىق يېرىم ئۆتكۈزگۈچ ماتېرىياللارغا مەركەزلەشكەن بولۇپ، بۇ ماتېرىياللار پەقەت ئۇلترابىنەفشە نۇرغا (<400 nm) ئىنكاس قايتۇرىدۇ، بۇ نۇرنىڭ ئىشلىتىلىشىنى ئازايتىدۇ. فوتوخېمىيىلىك چىرىشكە قارشى تۇرۇش تەتقىقاتى كەڭ بەلباغ بوشلۇقى (3.0–3.2EV)1،2،3،4،5،6،7 بولغان ئانئورگانىك n تىپلىق يېرىم ئۆتكۈزگۈچ ماتېرىياللارغا مەركەزلەشكەن بولۇپ، بۇ ماتېرىياللار پەقەت ئۇلترابىنەفشە نۇرغا (<400 nm) ئىنكاس قايتۇرىدۇ، بۇ نۇرنىڭ ئىشلىتىلىشىنى ئازايتىدۇ. Исследования стойкости к фотохимческой коррозии были сосредоточены на неорганических полупро матниковых чахах n-tipа с широкой адрещенной чойой (3,0–3,2 EV) 1,2,3,4,5,6,7 (<400 нм) ، уменьшение доступности света. فوتوخىمىيىلىك چىرىشكە چىداملىق تەتقىقاتى كەڭ دائىرىلىك بەلۋاغ بوشلۇقى (3.0–3.2 EV)1،2،3،4،5،6،7 بولغان، پەقەت ئۇلترابىنەفشە نۇرىغا (<400 nm) ئىنكاس قايتۇرىدىغان، يورۇقلۇقنىڭ ئىشلىتىلىش نىسبىتىنى تۆۋەنلىتىدىغان n تىپلىق ئانئورگانىك يېرىم ئۆتكۈزگۈچ ماتېرىياللارغا مەركەزلەشكەن.光化学耐腐蚀性研究主要集中在具有宽带隙 (3.0–3.2EV) 1,2,3,4,5,6,7 的无机 n 型半导体材料上，这些材料仅对紫外光（ <400 nm ）有响应，减少光的可用性。光 化学 耐腐 蚀性 研究 3.0 3.0 (3.0–3.2ev) 1.2,3,4,5,6,6,7 的 无机 n 型 400 400 400 400 400 400 400 400 400 400 400 400 有 有 有 有 有 Исследования стойкости к фотохимческой коррозии о основном были сосредоточены на неорганических полупро мникниковых чахах n-tipа с широкой черещенной черой (3,0-3,3,2EV) УФ-излучению (<400 нм). فوتوخىمىيىلىك چىرىشكە چىداملىق تەتقىقاتى ئاساسلىقى پەقەت ئۇلترا بىنەپشە نۇرىغا سەزگۈر (<400 nm) كەڭ بەلۋاغ بوشلۇقى (3.0–3.2EV)1،2،3،4،5،6،7 n تىپلىق ئانئورگانىك يېرىم ئۆتكۈزگۈچ ماتېرىياللارغا مەركەزلەشكەن.بۇنىڭغا جاۋابەن، نۇرنىڭ ئىشلىتىلىشى تۆۋەنلەيدۇ.
دېڭىز چىرىشلىرىدىن ساقلىنىش ساھەسىدە، فوتوئېلېكتروخىمىيىلىك كاتود قوغداش تېخنىكىسى مۇھىم رول ئوينايدۇ. TiO2 بولسا ئۇلترا بىنەپشە نۇرنى سۈمۈرۈش ۋە فوتوكاتالىزاتورلۇق خۇسۇسىيەتكە ئىگە يېرىم ئۆتكۈزگۈچ ماتېرىيال. قانداقلا بولمىسۇن، نۇرنىڭ ئىشلىتىلىش نىسبىتى تۆۋەن بولغاچقا، فوتو ھاسىل قىلىنغان ئېلېكترون تۆشۈكلىرى ئاسانلا قايتا بىرىكىدۇ ۋە قاراڭغۇ شارائىتتا قوغدىيالمايدۇ. مۇۋاپىق ۋە ئەمەلىي ھەل قىلىش چارىسىنى تېپىش ئۈچۈن تېخىمۇ كۆپ تەتقىقات ئېلىپ بېرىشقا توغرا كېلىدۇ. TiO2 نىڭ فوتوسېزگۈرلۈكىنى ياخشىلاش ئۈچۈن نۇرغۇن يۈزە ئۆزگەرتىش ئۇسۇللىرىنى ئىشلىتىشكە بولىدىغانلىقى، مەسىلەن، Fe، N بىلەن ئارىلاشتۇرۇش ۋە Ni3S2، Bi2Se3، CdTe قاتارلىقلار بىلەن ئارىلاشتۇرۇش قاتارلىق ئۇسۇللارنى قوللىنىشقا بولىدىغانلىقى خەۋەر قىلىندى. شۇڭا، فوتوئېلېكتر ئۆزگەرتىش ئۈنۈمى يۇقىرى بولغان ماتېرىياللار بىلەن TiO2 بىرىكمىسى فوتو ھاسىل قىلىنغان كاتود قوغداش ساھەسىدە كەڭ قوللىنىلىدۇ.
نىكېل سۇلفىد يېرىم ئۆتكۈزگۈچ ماتېرىيال بولۇپ، تار بەلباغ بوشلۇقى پەقەت 1.24 eV8.9. غا يېتىدۇ. بەلباغ بوشلۇقى قانچە تار بولسا، نۇرنىڭ ئىشلىتىلىشى شۇنچە كۈچلۈك بولىدۇ. نىكېل سۇلفىد تىتان دىئوكسىد يۈزى بىلەن ئارىلاشتۇرۇلغاندىن كېيىن، نۇرنىڭ ئىشلىتىلىش دەرىجىسىنى ئاشۇرغىلى بولىدۇ. تىتان دىئوكسىد بىلەن بىرلەشتۈرۈلسە، فوتو ھاسىل قىلىنغان ئېلېكترون ۋە تۆشۈكلەرنىڭ ئايرىش ئۈنۈمىنى ئۈنۈملۈك ياخشىلىيالايدۇ. نىكېل سۇلفىد ئېلېكتروكاتالىزاتورلۇق ھىدروگېن ئىشلەپچىقىرىش، باتارېيە ۋە بۇلغىمىلارنى پارچىلاشتا كەڭ قوللىنىلىدۇ8،9،10. قانداقلا بولمىسۇن، ئۇنىڭ فوتوكاتود قوغداشتا ئىشلىتىلىشى ھازىرغىچە دوكلات قىلىنمىدى. بۇ تەتقىقاتتا، TiO2 نۇرنىڭ تۆۋەن ئىشلىتىلىش ئۈنۈمى مەسىلىسىنى ھەل قىلىش ئۈچۈن تار بەلباغ بوشلۇقى يېرىم ئۆتكۈزگۈچ ماتېرىيال تاللاندى. نىكېل ۋە كۈمۈش سۇلفىد نانو زەررىچىلىرى ئايرىم-ئايرىم ھالدا TiO2 نانو سىملىرىنىڭ يۈزىگە چىلاش ۋە فوتو قايتۇرۇش ئۇسۇللىرى ئارقىلىق باغلاندى. Ag/NiS/TiO2 نانوكومپوزىتى نۇرنىڭ ئىشلىتىلىش ئۈنۈمىنى ياخشىلايدۇ ۋە نۇرنىڭ سۈمۈرۈلۈشى دائىرىسىنى ئۇلترابىنەفشە نۇر رايونىدىن كۆرۈنگەن رايونغىچە كېڭەيتىدۇ. شۇنىڭ بىلەن بىر ۋاقىتتا، كۈمۈش نانو زەررىچىلىرىنىڭ چۆكمىسى Ag/NiS/TiO2 نانوكومپوزىتىغا ئەلا سۈپەتلىك ئوپتىكىلىق مۇقىملىق ۋە مۇقىم كاتود قوغداش بىلەن تەمىنلەيدۇ.
ئالدى بىلەن، تەجرىبە قىلىش ئۈچۈن قېلىنلىقى 0.1 مىللىمېتىر، ساپلىقى %99.9 بولغان تىتان يوپۇرمىقى 30 مىللىمېتىر × 10 مىللىمېتىر چوڭلۇقتا كېسىۋېتىلدى. ئاندىن، تىتان يوپۇرمىقىنىڭ ھەر بىر يۈزى 2500 دانلىق زىمپار قەغىزى بىلەن 100 قېتىم سىلىقلاندى، ئاندىن ئاتسېتون، ئابسلوت ئېتانول ۋە دىستىللانغان سۇ بىلەن ئارقا-ئارقىدىن يۇيۇلدى. تىتان تاختىسىنى 85 سېلسىيە گرادۇسلۇق (ناترىي گىدروكسىد: ناترىي كاربونات: سۇ = 5:2:100) ئارىلاشما ئىچىگە 90 مىنۇت قويۇپ، ئېلىۋېتىپ دىستىللانغان سۇ بىلەن چايقىۋېتىڭ. يۈزى HF ئېرىتمىسى (HF:H2O = 1:5) بىلەن 1 مىنۇت ئويۇلدى، ئاندىن ئاتسېتون، ئېتانول ۋە دىستىللانغان سۇ بىلەن نۆۋەت بىلەن يۇيۇلدى، ئاخىرىدا ئىشلىتىش ئۈچۈن قۇرۇتۇلدى. تىتان دىئوكسىد نانوسىملىرى بىر باسقۇچلۇق ئانودلاش جەريانى ئارقىلىق تىتان يوپۇرمىقىنىڭ يۈزىگە تېز سۈرئەتتە ياسىلدى. ئانودلاش ئۈچۈن، ئەنئەنىۋى ئىككى ئېلېكترود سىستېمىسى ئىشلىتىلىدۇ، خىزمەت ئېلېكترودى تىتان يوپۇرمىقى، قارشى ئېلېكترود بولسا پىلاتىنا ئېلېكترودى. تىتان تاختىسىنى ئېلېكترود قىسقۇچلىرى بىلەن 400 مىللىلىتىر 2 M NaOH ئېرىتمىسىگە سېلىڭ. تۇراقلىق توك مەنبەسىنىڭ توكى تەخمىنەن 1.3 A دە مۇقىم بولىدۇ. سىستېمىلىق رېئاكسىيە جەريانىدا ئېرىتمىنىڭ تېمپېراتۇرىسى 80°C دا 180 مىنۇت ساقلىنىدۇ. تىتان قەغىزى ئېلىپ تاشلىنىپ، ئاتسېتون ۋە ئېتانول بىلەن يۇيۇلۇپ، دىستىللانغان سۇ بىلەن يۇيۇلۇپ، تەبىئىي ھالدا قۇرۇتۇلىدۇ. ئاندىن ئەۋرىشكىلەر 450°C دىكى (قىزىتىش سۈرئىتى 5°C/مىنۇت) مۇفلې ئوچىقىغا قويۇلۇپ، 120 مىنۇت مۇقىم تېمپېراتۇرىدا ساقلىنىدۇ ۋە قۇرۇتۇش تەخسىسىگە قويۇلىدۇ.
نىكېل سۇلفىد-تىتان دىئوكسىد بىرىكمىسى ئاددىي ۋە ئاسان چۆكمە ئۇسۇلى ئارقىلىق قولغا كەلتۈرۈلدى. ئالدى بىلەن، نىكېل نىترات (0.03 M) ئېتانولدا ئېرىتىلىپ، نىكېل نىتراتنىڭ ئېتانول ئېرىتمىسىنى ئېلىش ئۈچۈن 20 مىنۇت ماگنىتلىق ئارىلاشتۇرۇش ئاستىدا ساقلاندى. ئاندىن مېتانولنىڭ ئارىلاشما ئېرىتمىسى (مېتانول:سۇ = 1:1) بىلەن ناترىي سۇلفىد (0.03 M) تەييارلاندى. ئاندىن، تىتان دىئوكسىد تابلېتكىلىرى يۇقىرىدا تەييارلانغان ئېرىتمىگە سېلىندى، 4 مىنۇتتىن كېيىن چىقىرىۋېتىلدى ۋە مېتانول ۋە سۇنىڭ ئارىلاشما ئېرىتمىسى (مېتانول:سۇ = 1:1) بىلەن تېزلا 1 مىنۇت يۇيۇلدى. يۈزى قۇرۇغاندىن كېيىن، تابلېتكىلار مۇفلې ئوچىقىغا سېلىندى، 380 سېلسىيە گرادۇستا ۋاكۇئۇم ئىچىدە 20 مىنۇت قىزىتىلدى، ئۆي تېمپېراتۇرىسىغا سوۋۇتۇلدى ۋە قۇرۇتۇلدى. دەۋرىيلىك سانى 2، 4، 6 ۋە 8.
Ag نانو زەررىچىلىرى Ag/NiS/TiO2 نانوكومپوزىتلىرىنى فوتورېدكسىيە ئۇسۇلى ئارقىلىق ئۆزگەرتتى12،13. نەتىجىدە ھاسىل بولغان Ag/NiS/TiO2 نانوكومپوزىتى تەجرىبە ئۈچۈن زۆرۈر بولغان كۈمۈش نىترات ئېرىتمىسىگە سېلىندى. ئاندىن ئەۋرىشكىلەر 30 مىنۇت ئۇلترابىنەفشە نۇرى بىلەن نۇرلاندۇرۇلدى، ئۇلارنىڭ يۈزى دېئىئونلاشتۇرۇلغان سۇ بىلەن تازىلىنىپ، تەبىئىي قۇرۇتۇش ئارقىلىق Ag/NiS/TiO2 نانوكومپوزىتلىرى قولغا كەلتۈرۈلدى. يۇقىرىدا بايان قىلىنغان تەجرىبە جەريانى 1-رەسىمدە كۆرسىتىلدى.
Ag/NiS/TiO2 نانوكومپوزىتلىرى ئاساسلىقى مەيدان ئېمىسسىيەسى سىكانىرلاش ئېلېكترون مىكروسكوپى (FESEM)، ئېنېرگىيە تارقاقلاشتۇرۇش سپېكتروسكوپىيىسى (EDS)، رېنتىگېن نۇرى فوتوئېلېكترون سپېكتروسكوپىيىسى (XPS) ۋە ئۇلترابىنەفشە نۇر ۋە كۆرۈنگەن دائىرىدىكى تارقاق قايتۇرۇش (UV-Vis) ئارقىلىق خاراكتېرلەنگەن. FESEM Nova NanoSEM 450 مىكروسكوپى (FEI شىركىتى، ئامېرىكا) ئارقىلىق ئېلىپ بېرىلغان. تېزلىنىش توك بېسىمى 1 kV، نۇقتا چوڭلۇقى 2.0. بۇ ئۈسكۈنە توپوگرافىيە ئانالىزى ئۈچۈن ئىككىنچى دەرىجىلىك ۋە ئارقا چېچىلغان ئېلېكترونلارنى قوبۇل قىلىش ئۈچۈن CBS زوندىنى ئىشلىتىدۇ. EMF 15 kV تېزلىنىش توك بېسىمى ۋە 3.0 نۇقتا چوڭلۇقىدىكى Oxford X-Max N50 EMF سىستېمىسى (Oxford Instruments Technology Co., Ltd.) ئارقىلىق ئېلىپ بېرىلغان. خاراكتېرلىق رېنتىگېن نۇرى ئارقىلىق سۈپەت ۋە مىقدار ئانالىزى ئېلىپ بېرىلغان. رېنتىگېن نۇرى فوتوئېلېكترون سپېكتروسكوپىيەسى 150 W قوزغىتىش كۈچى ۋە مونوخروماتىك Al Kα رادىئاتسىيەسى (1486.6 eV) قوزغىتىش مەنبەسى سۈپىتىدە مۇقىم ئېنېرگىيە ھالىتىدە ئىشلەيدىغان Escalab 250Xi سپېكترومېتىرىدا (Thermo Fisher ئىلمىي شىركىتى، ئامېرىكا) ئېلىپ بېرىلدى. تولۇق سىكانىرلاش دائىرىسى 0–1600 eV، ئومۇمىي ئېنېرگىيە 50 eV، قەدەم كەڭلىكى 1.0 eV ۋە ناپاك كاربون (~284.8 eV) باغلىنىش ئېنېرگىيەسى زەرەت تۈزىتىش پايدىلىنىش ماتېرىيالى سۈپىتىدە ئىشلىتىلدى. تار سىكانىرلاشنىڭ ئۆتكۈزۈش ئېنېرگىيەسى 20 eV بولۇپ، قەدەم 0.05 eV ئىدى. UV كۆرۈنىدىغان رايوندا تارقىلىشچان قايتۇرۇش سپېكتروسكوپىيەسى 10–80° سىكانىرلاش دائىرىسىدە ئۆلچەملىك بارىي سۇلفات تاختىسى ئىشلىتىلگەن Cary 5000 سپېكترومېتىرىدا (Varian، ئامېرىكا) ئېلىپ بېرىلدى.
بۇ ئەسەردە، 304 داتلاشماس پولاتنىڭ تەركىبى (ئېغىرلىق نىسبىتى) 0.08 C، 1.86 Mn، 0.72 Si، 0.035 P، 0.029 s، 18.25 Cr، 8.5 Ni، قالغانلىرى Fe. 10mm x 10mm x 10mm 304 داتلاشماس پولات، ئېپوكسى بىلەن قاپلانغان، يۈزى 1 cm2 ئوچۇق. ئۇنىڭ يۈزى 2400 گراملىق كرېمنىي كاربىد زىمپار قەغىزى بىلەن زىمپارلانغان ۋە ئېتانول بىلەن يۇيۇلغان. ئاندىن داتلاشماس پولات دېئونلاشتۇرۇلغان سۇدا 5 مىنۇت ئۇلترا ئاۋاز دولقۇنى بىلەن ئېرىتىلىپ، ئاندىن ئوچاقتا ساقلانغان.
OCP تەجرىبىسىدە، 304 داتلاشماس پولات ۋە Ag/NiS/TiO2 فوتوئانود ئايرىم-ئايرىم ھالدا بىر چىرىش ھۈجەيرىسى ۋە بىر فوتوئانود ھۈجەيرىسىگە قويۇلدى (2-رەسىم). چىرىش ھۈجەيرىسى %3.5 NaCl ئېرىتمىسى بىلەن تولدۇرۇلدى، ھەمدە 0.25 M Na2SO3 فوتوئانود ھۈجەيرىسىگە تۆشۈك تۇزاق سۈپىتىدە قۇيۇلدى. ئىككى ئېلېكترولىت نافتول پەردىسى ئارقىلىق ئارىلاشمىدىن ئايرىلدى. OCP ئېلېكتروخىمىيەلىك خىزمەت ئورنىدا (P4000+, ئامېرىكا) ئۆلچەندى. پايدىلىنىش ئېلېكترودى تويۇنغان كالومېل ئېلېكترودى (SCE). يورۇقلۇق مەنبەسى (كىسېنون لامپىسى، PLS-SXE300C، Poisson Technologies Co., Ltd.) ۋە كېسىش تاختىسى 420 يورۇقلۇق مەنبەسىنىڭ چىقىش ئېغىزىغا قويۇلدى، بۇ كۆرۈنگەن نۇرنىڭ كۋارتس ئەينەك ئارقىلىق فوتوئانودقا ئۆتۈشىگە يول قويدى. 304 داتلاشماس پولات ئېلېكترودى مىس سىم ئارقىلىق فوتوئانودقا ئۇلاندى. تەجرىبە باشلىنىشتىن بۇرۇن، 304 داتلاشماس پولات ئېلېكترود مۇقىم ھالەتكە كاپالەتلىك قىلىش ئۈچۈن 2 سائەت 3.5% NaCl ئېرىتمىسىگە چىلانغان. تەجرىبە باشلىنىش باسقۇچىدا، چىراغ ياندۇرۇلغان ۋە ئۆچۈرۈلگەندە، فوتوئانودنىڭ قوزغىتىلغان ئېلېكترونلىرى سىم ئارقىلىق 304 داتلاشماس پولاتنىڭ يۈزىگە يېتىپ بارىدۇ.
فوتو توك زىچلىقى تەجرىبىلىرىدە، 304SS ۋە Ag/NiS/TiO2 فوتوئانودلىرى ئايرىم-ئايرىم ھالدا چىرىش ھۈجەيرىلىرى ۋە فوتوئانود ھۈجەيرىلىرىگە قويۇلدى (3-رەسىم). فوتوئانود زىچلىقى OCP بىلەن ئوخشاش قۇرۇلمىدا ئۆلچەندى. 304 داتلاشماس پولات بىلەن فوتوئانود ئوتتۇرىسىدىكى ئەمەلىي فوتوئانود زىچلىقىنى ئېلىش ئۈچۈن، 304 داتلاشماس پولات بىلەن فوتوئانودنى قۇتۇپلاشمىغان شارائىتتا تۇتاشتۇرۇش ئۈچۈن نۆل قارشىلىق ئامپېرمېتىرى سۈپىتىدە پوتېنسىئوستات ئىشلىتىلدى. بۇنى قىلىش ئۈچۈن، تەجرىبە قۇرۇلمىسىدىكى پايدىلىنىش ۋە قارشى ئېلېكترودلار قىسقا تۇتاشتۇرۇلدى، شۇڭا ئېلېكتروخىمىيەلىك خىزمەت ئورنى ھەقىقىي توك زىچلىقىنى ئۆلچەيدىغان نۆل قارشىلىق ئامپېرمېتىرى سۈپىتىدە ئىشلىدى. 304 داتلاشماس پولات ئېلېكترودى ئېلېكتروخىمىيەلىك خىزمەت ئورنىنىڭ يەرگە ئۇلانغان، فوتوئانود بولسا خىزمەت ئېلېكترود قىسقۇچقا ئۇلانغان. تەجرىبە باشلانغاندا، چىراغ ياندۇرۇلغان ۋە ئۆچۈرۈلگەندە، فوتوئانودنىڭ قوزغىتىلغان ئېلېكترونلىرى سىم ئارقىلىق 304 داتلاشماس پولاتنىڭ يۈزىگە يېتىپ بارىدۇ. بۇ ۋاقىتتا، 304 داتلاشماس پولاتنىڭ يۈزىدىكى فوتو توك زىچلىقىنىڭ ئۆزگىرىشىنى كۆزىتىشكە بولىدۇ.
304 داتلاشماس پولاتتىكى نانوكومپوزىتلارنىڭ كاتود قوغداش ئىقتىدارىنى تەتقىق قىلىش ئۈچۈن، 304 داتلاشماس پولات ۋە نانوكومپوزىتلارنىڭ فوتوئىئونلىشىش پوتېنسىيالىدىكى ئۆزگىرىشلەر، شۇنداقلا نانوكومپوزىتلار بىلەن 304 داتلاشماس پولاتلار ئوتتۇرىسىدىكى فوتوئىئونلىشىش توك زىچلىقىدىكى ئۆزگىرىشلەر سىناق قىلىندى.
4-رەسىمدە 304 داتلاشماس پولات ۋە نانوكومپوزىتلارنىڭ كۆرۈنگەن نۇر نۇرى ئاستىدا ۋە قاراڭغۇ شارائىتتا ئوچۇق توك يولى پوتېنسىيالىنىڭ ئۆزگىرىشى كۆرسىتىلدى. 4a-رەسىمدە NiS چۆكۈش ۋاقتىنىڭ ئوچۇق توك يولى پوتېنسىيالىغا بولغان تەسىرى، 4b-رەسىمدە كۈمۈش نىترات قويۇقلۇقىنىڭ فوتورېداتسىيە جەريانىدا ئوچۇق توك يولى پوتېنسىيالىغا بولغان تەسىرى كۆرسىتىلدى. 4a-رەسىمدە 304 داتلاشماس پولاتقا چاپلانغان NiS/TiO2 نانوكومپوزىتنىڭ ئوچۇق توك يولى پوتېنسىيالى نىكېل سۇلفىد بىرىكمىسىگە سېلىشتۇرغاندا چىراغ ياندۇرۇلغاندا كۆرۈنەرلىك دەرىجىدە تۆۋەنلەيدىغانلىقى كۆرسىتىلدى. بۇنىڭدىن باشقا، ئوچۇق توك يولى پوتېنسىيالى ساپ TiO2 نانوسىملىرىغا قارىغاندا تېخىمۇ مەنپىي بولۇپ، نىكېل سۇلفىد بىرىكمىسىنىڭ تېخىمۇ كۆپ ئېلېكترون ھاسىل قىلىدىغانلىقىنى ۋە TiO2 دىن فوتوكاتود قوغداش ئۈنۈمىنى ياخشىلايدىغانلىقىنى كۆرسىتىدۇ. قانداقلا بولمىسۇن، ئاشكارىلىنىش ئاخىرلاشقاندا، يۈكسىز پوتېنسىيال تېز سۈرئەتتە داتلاشماس پوتېنسىيالغا ئۆرلەيدۇ، بۇ نىكېل سۇلفىدنىڭ ئېنېرگىيە ساقلاش ئۈنۈمى يوقلىقىنى كۆرسىتىدۇ. چۆكۈش دەۋرىيلىكى سانىنىڭ ئوچۇق توك يولى پوتېنسىيالىغا بولغان تەسىرىنى 4a-رەسىمدە كۆرگىلى بولىدۇ. 6 قېتىملىق چۆكمە ۋاقتىدا، نانوكومپوزىتنىڭ ئەڭ يۇقىرى پوتېنسىيالى تويۇنغان كالومېل ئېلېكترودىغا نىسبەتەن -550 mV غا يېتىدۇ، باشقا شارائىتلاردا 6 ھەسسە كۆپ چۆكمە قىلىنغان نانوكومپوزىتنىڭ پوتېنسىيالى نانوكومپوزىتنىڭكىدىن كۆرۈنەرلىك تۆۋەن. شۇڭا، 6 قېتىملىق چۆكمە دەۋرىدىن كېيىن ئېرىشكەن NiS/TiO2 نانوكومپوزىتلىرى 304 داتلاشماس پولات ئۈچۈن ئەڭ ياخشى كاتود قوغداش بىلەن تەمىنلىدى.
يورۇتۇش بىلەن ۋە يورۇتۇشسىز (λ > 400 nm) NiS/TiO2 نانوكومپوزىتلىرى (a) ۋە Ag/NiS/TiO2 نانوكومپوزىتلىرى (b) قوشۇلغان 304 دانە داتلاشماس پولات ئېلېكترودنىڭ OCP دىكى ئۆزگىرىشلەر.
4b-رەسىمدە كۆرسىتىلگەندەك، 304 داتلاشماس پولات ۋە Ag/NiS/TiO2 نانوكومپوزىتلىرىنىڭ ئوچۇق توك يولى پوتېنسىيالى نۇرغا ئۇچرىغاندا كۆرۈنەرلىك دەرىجىدە تۆۋەنلىگەن. كۈمۈش نانو زەررىچىلىرىنىڭ يۈزىگە چۆكمىسىدىن كېيىن، ئوچۇق توك يولى پوتېنسىيالى ساپ TiO2 نانو سىملىرىغا سېلىشتۇرغاندا كۆرۈنەرلىك دەرىجىدە تۆۋەنلىگەن. NiS/TiO2 نانوكومپوزىتلىرىنىڭ پوتېنسىيالى تېخىمۇ سەلبىي بولۇپ، TiO2 نىڭ كاتود قوغداش رولىنىڭ Ag نانو زەررىچىلىرى چۆكمىسىدىن كېيىن كۆرۈنەرلىك دەرىجىدە ياخشىلانغانلىقىنى كۆرسىتىپ بېرىدۇ. ئوچۇق توك يولى پوتېنسىيالى ئاشكارىلىنىش ئاخىرىدا تېز سۈرئەتتە ئاشقان، تويۇنغان كالومېل ئېلېكترودقا سېلىشتۇرغاندا، ئوچۇق توك يولى پوتېنسىيالى -580 mV غا يېتىشى مۇمكىن، بۇ 304 داتلاشماس پولاتنىڭكىدىن (-180 mV) تۆۋەن. بۇ نەتىجە نانوكومپوزىتنىڭ يۈزىگە كۈمۈش زەررىچىلىرى چۆكمىسىدىن كېيىن كۆرۈنەرلىك ئېنېرگىيە ساقلاش ئۈنۈمىگە ئىگە ئىكەنلىكىنى كۆرسىتىپ بېرىدۇ. 4b-رەسىمدە يەنە كۈمۈش نىترات قويۇقلۇقىنىڭ ئوچۇق توك يولى پوتېنسىيالىغا بولغان تەسىرى كۆرسىتىلگەن. كۈمۈش نىترات قويۇقلۇقى 0.1 M بولغاندا، تويۇنغان كالومېل ئېلېكترودقا نىسبەتەن چەكلىمە پوتېنسىيالى -925 mV غا يېتىدۇ. 4 قېتىملىق ئىشلىتىش دەۋرىدىن كېيىن، پوتېنسىيال تۇنجى قېتىم ئىشلەتكەندىن كېيىنكى سەۋىيەدە قالدى، بۇ نانوكومپوزىتنىڭ ئەلا تۇراقلىقلىقىنى كۆرسىتىدۇ. شۇڭا، كۈمۈش نىتراتنىڭ قويۇقلۇقى 0.1 M بولغاندا، ھاسىل بولغان Ag/NiS/TiO2 نانوكومپوزىتى 304 داتلاشماس پولاتقا ئەڭ ياخشى كاتود قوغداش ئۈنۈمىگە ئىگە.
TiO2 نانو سىملىرىنىڭ يۈزىدىكى NiS چۆكمىسى NiS چۆكمىسىنىڭ ئۇزىرىشىغا ئەگىشىپ ئاستا-ئاستا ياخشىلىنىدۇ. كۆرۈنگەن نۇر نانو سىمنىڭ يۈزىگە چۈشكەندە، كۆپرەك نىكېل سۇلفىد ئاكتىپ ئورۇنلىرى ئېلېكترون ھاسىل قىلىش ئۈچۈن قوزغىلىدۇ، فوتوئىئونلىشىش پوتېنسىيالى تېخىمۇ تۆۋەنلەيدۇ. قانداقلا بولمىسۇن، نىكېل سۇلفىد نانو زەررىچىلىرى يۈزىگە ئارتۇقچە چۆككەندە، قوزغىتىلغان نىكېل سۇلفىد ئازىيىدۇ، بۇ نۇرنىڭ سۈمۈرۈلۈشىگە تۆھپە قوشمايدۇ. كۈمۈش زەررىچىلىرى يۈزىگە چۆككەندىن كېيىن، كۈمۈش زەررىچىلىرىنىڭ يۈزى پلازمون رېزونانس ئۈنۈمى سەۋەبىدىن، ھاسىل بولغان ئېلېكترونلار تېز سۈرئەتتە 304 داتلاشماس پولاتنىڭ يۈزىگە يۆتكىلىدۇ، نەتىجىدە ئېسىل كاتود قوغداش ئۈنۈمى ھاسىل بولىدۇ. يۈزىگە بەك كۆپ كۈمۈش زەررىچىلىرى چۆككەندە، كۈمۈش زەررىچىلىرى فوتوئېلېكترون ۋە تۆشۈكلەرنىڭ قايتا بىرىكمە نۇقتىسىغا ئايلىنىدۇ، بۇ فوتوئېلېكترونلارنىڭ ھاسىل بولۇشىغا تۆھپە قوشمايدۇ. خۇلاسە قىلىپ ئېيتقاندا، Ag/NiS/TiO2 نانوكومپوزىتلىرى 0.1 M كۈمۈش نىترات ئاستىدا 6 ھەسسە نىكېل سۇلفىد چۆكمىسىدىن كېيىن 304 داتلاشماس پولات ئۈچۈن ئەڭ ياخشى كاتود قوغداش بىلەن تەمىنلىيەلەيدۇ.
فوتو توك زىچلىقى قىممىتى فوتو ھاسىل قىلغان ئېلېكترون ۋە تۆشۈكلەرنىڭ ئايرىش كۈچىنى ئىپادىلەيدۇ، فوتو توك زىچلىقى قانچە چوڭ بولسا، فوتو ھاسىل قىلغان ئېلېكترون ۋە تۆشۈكلەرنىڭ ئايرىش كۈچى شۇنچە كۈچلۈك بولىدۇ. نۇرغۇن تەتقىقاتلار NiS نىڭ فوتوئېلېكتر خۇسۇسىيىتىنى ياخشىلاش ۋە تۆشۈكلەرنى ئايرىش ئۈچۈن فوتوكاتالىزاتورلۇق ماتېرىياللارنى بىرىكتۈرۈشتە كەڭ قوللىنىلىدىغانلىقىنى كۆرسىتىپ بېرىدۇ15،16،17،18،19،20. چېن قاتارلىقلار NiS15 بىلەن بىرلىكتە ئۆزگەرتىلگەن ئېسىل مېتالسىز گرافېن ۋە g-C3N4 بىرىكمىلىرىنى تەتقىق قىلدى. ئۆزگەرتىلگەن g-C3N4/0.25%RGO/3%NiS نىڭ فوتو توكىنىڭ ئەڭ چوڭ كۈچلۈكلۈكى 0.018 μA/cm2. چېن قاتارلىقلار فوتو توك زىچلىقى تەخمىنەن 10 µA/cm2 بولغان CdSe-NiS نى تەتقىق قىلدى.16. ليۇ قاتارلىقلار فوتو توك زىچلىقى 15 µA/cm218 بولغان CdS@NiS بىرىكمىسىنى بىرىكتۈرۈۋالدى. قانداقلا بولمىسۇن، فوتوكاتودنى قوغداش ئۈچۈن NiS نىڭ ئىشلىتىلىشى ھازىرغىچە خەۋەر قىلىنمىدى. بىزنىڭ تەتقىقاتىمىزدا، TiO2 نىڭ فوتو ئېقىم زىچلىقى NiS نى ئۆزگەرتىش ئارقىلىق كۆرۈنەرلىك دەرىجىدە ئاشتى. 5-رەسىمدە 304 داتلاشماس پولات ۋە نانوكومپوزىتلارنىڭ كۆرۈنگەن يورۇقلۇق شارائىتىدا ۋە يورۇتۇشسىز فوتو ئېقىم زىچلىقىدىكى ئۆزگىرىشلەر كۆرسىتىلدى. 5a-رەسىمدە كۆرسىتىلگەندەك، NiS/TiO2 نانوكومپوزىتنىڭ فوتو ئېقىم زىچلىقى چىراغ يانغان ۋاقىتتا تېز سۈرئەتتە ئاشىدۇ، فوتو ئېقىم زىچلىقى مۇسبەت بولۇپ، ئېلېكتروخىمىيەلىك خىزمەت ئورنى ئارقىلىق نانوكومپوزىتتىن يۈزگە ئېلېكترون ئېقىمىنى كۆرسىتىدۇ. 304 داتلاشماس پولات. نىكېل سۇلفىد كومپوزىتلىرىنى تەييارلىغاندىن كېيىن، فوتو ئېقىم زىچلىقى ساپ TiO2 نانو سىملىرىدىن يۇقىرى بولىدۇ. NiS نىڭ فوتو ئېقىم زىچلىقى 220 μA/cm2 غا يېتىدۇ، بۇ NiS نى 6 قېتىم چىلاپ چۆكتۈرگەندە TiO2 نانو سىملىرىدىن (32 μA/cm2) 6.8 ھەسسە يۇقىرى. 5-رەسىمدە كۆرسىتىلگەندەك. 5b، Ag/NiS/TiO2 نانوكومپوزىت بىلەن 304 داتلاشماس پولات ئوتتۇرىسىدىكى فوتو توك زىچلىقى كسېنون چىرىغى ئاستىدا ئېچىلغاندا ساپ TiO2 بىلەن NiS/TiO2 نانوكومپوزىت ئوتتۇرىسىدىكىدىن كۆرۈنەرلىك يۇقىرى بولغان. 5b-رەسىمدە يەنە AgNO قويۇقلۇقىنىڭ فوتورېدكاتسىيە جەريانىدا فوتوكوم زىچلىقىغا بولغان تەسىرى كۆرسىتىلگەن. كۈمۈش نىترات قويۇقلۇقى 0.1 M بولغاندا، ئۇنىڭ فوتوكوم زىچلىقى 410 μA/cm2 گە يېتىدۇ، بۇ TiO2 نانوسىملىرى (32 μA/cm2) دىن 12.8 ھەسسە يۇقىرى ۋە NiS/TiO2 نانوكومپوزىتلىرىنىڭكىدىن 1.8 ھەسسە يۇقىرى. Ag/NiS/TiO2 نانوكومپوزىت چېگرىسىدا ھېتېرو تۇتاشتۇرۇش ئېلېكتر مەيدانى شەكىللىنىدۇ، بۇ فوتو ھاسىل قىلغان ئېلېكترونلارنى تۆشۈكلەردىن ئايرىشنى ئاسانلاشتۇرىدۇ.
(a) NiS/TiO2 نانوكومپوزىت ۋە (b) Ag/NiS/TiO2 نانوكومپوزىت قوشۇلغان ۋە يورۇتمىغان (λ > 400 nm) 304 داتلاشماس پولات ئېلېكترودنىڭ فوتو توك زىچلىقىدىكى ئۆزگىرىشلەر.
شۇڭا، نىكېل سۇلفىدنى 0.1 M قويۇق كۈمۈش نىتراتقا 6 قېتىم چىلاپ قويغاندىن كېيىن، Ag/NiS/TiO2 نانوكومپوزىتلىرى بىلەن 304 داتلاشماس پولات ئوتتۇرىسىدىكى فوتو توك زىچلىقى 410 μA/cm2 گە يېتىدۇ، بۇ تويۇنغان كالومېل ئېلېكترودلىرىدىن يۇقىرى. بۇ خىل شارائىتتا، 304 داتلاشماس پولات بىلەن Ag/NiS/TiO2 بىرلەشتۈرۈلۈپ ئەڭ ياخشى كاتود قوغداش بىلەن تەمىنلىيەلەيدۇ.
6-رەسىمدە ئەڭ ياخشى شارائىتتا ساپ تىتان دىئوكسىد نانوسىملىرى، بىرىكمە نىكېل سۇلفىد نانو زەررىچىلىرى ۋە كۈمۈش نانو زەررىچىلىرىنىڭ يۈزە ئېلېكترون مىكروسكوپى رەسىملىرى كۆرسىتىلگەن. 6a، d رەسىملەردە بىر باسقۇچلۇق ئانودلاشتۇرۇش ئارقىلىق قولغا كەلتۈرۈلگەن ساپ TiO2 نانوسىملىرى كۆرسىتىلگەن. تىتان دىئوكسىد نانوسىملىرىنىڭ يۈزە تارقىلىشى بىردەك، نانوسىملارنىڭ قۇرۇلمىسى بىر-بىرىگە يېقىن، تۆشۈك چوڭلۇقىنىڭ تارقىلىشى بىردەك. 6b ۋە e رەسىملىرى نىكېل سۇلفىد بىرىكمىلىرىنى 6 ھەسسە سىڭدۈرۈش ۋە چۆكتۈرۈشتىن كېيىنكى تىتان دىئوكسىدنىڭ ئېلېكترون مىكروسكوپ رەسىملىرى. 6e-رەسىمدە 200،000 قېتىم چوڭايتىلغان ئېلېكترون مىكروسكوپ رەسىمىدىن كۆرۈۋېلىشقا بولىدۇكى، نىكېل سۇلفىد بىرىكمە نانو زەررىچىلىرى نىسبەتەن بىردەك بولۇپ، دىئامېتىرى تەخمىنەن 100-120 نانومېتىر كېلىدىغان چوڭ زەررىچىلەرگە ئىگە. بەزى نانو زەررىچىلەرنى نانوسىملارنىڭ بوشلۇق ئورنىدا كۆرگىلى بولىدۇ، تىتان دىئوكسىد نانوسىملىرى ئېنىق كۆرۈنىدۇ. 1-رەسىمدە. 6c,f رەسىملىرىدە 0.1 M AgNO قويۇقلۇقىدىكى NiS/TiO2 نانوكومپوزىتلىرىنىڭ ئېلېكترونلۇق مىكروسكوپ رەسىملىرى كۆرسىتىلدى. 6b ۋە 6e رەسىملىرى بىلەن سېلىشتۇرغاندا، 6c ۋە 6f رەسىملىرىدە Ag نانو زەررىچىلىرىنىڭ بىرىكمە ماتېرىيالنىڭ يۈزىگە چۆككەنلىكى، Ag نانو زەررىچىلىرىنىڭ تەكشى تارقالغانلىقى ۋە دىئامېتىرى تەخمىنەن 10 nm ئىكەنلىكى كۆرسىتىلدى. 7-رەسىمدە 0.1 M AgNO3 قويۇقلۇقىدا 6 قېتىملىق NiS چۆكمىسىگە ئۇچرىغان Ag/NiS/TiO2 نانوپۇللىرىنىڭ كېسىشمە كېسىشمىسى كۆرسىتىلدى. يۇقىرى چوڭايتىش رەسىملىرىدىن قارىغاندا، ئۆلچەنگەن پىلاستىنكا قېلىنلىقى 240-270 nm بولغان. شۇڭا، نىكېل ۋە كۈمۈش سۇلفىد نانو زەررىچىلىرى TiO2 نانو سىملىرىنىڭ يۈزىگە يىغىلىدۇ.
ساپ TiO2 (a, d)، NiS/TiO2 نانوكومپوزىتلىرى، 6 دەۋرىيلىك NiS چۆكمىسى (b, e) ۋە Ag/NiS/NiS، 6 دەۋرىيلىك NiS چۆكمىسى، 0.1 M AgNO3 SEM رەسىملىرى (c, e).
AgNO3 قويۇقلۇقى 0.1 M بولغاندا 6 قېتىملىق NiS چۆكمىسىگە ئۇچرىغان Ag/NiS/TiO2 نانوفىلمىلىرىنىڭ كېسىشمە كېسىشمىسى.
8-رەسىمدە 0.1 M كۈمۈش نىترات قويۇقلۇقىدا 6 قېتىملىق نىكېل سۇلفىد چۆكمىسىدىن ئېرىشكەن Ag/NiS/TiO2 نانوكومپوزىتلىرىنىڭ يۈزىدىكى ئېلېمېنتلارنىڭ يۈزەكى تارقىلىشى كۆرسىتىلگەن. ئېلېمېنتلارنىڭ يۈزەكى تارقىلىشى ئېنېرگىيە سپېكتروسكوپىيىسى ئارقىلىق Ti، O، Ni، S ۋە Ag بايقالغانلىقىنى كۆرسىتىدۇ. مەزمۇن جەھەتتىن قارىغاندا، Ti ۋە O بۇ تارقىلىشتىكى ئەڭ كۆپ ئۇچرايدىغان ئېلېمېنتلار، Ni ۋە S بولسا تەخمىنەن ئوخشاش، ئەمما ئۇلارنىڭ مىقدارى Ag دىن خېلىلا تۆۋەن. يەنە يۈزەكى بىرىكمە كۈمۈش نانو زەررىچىلىرىنىڭ مىقدارىنىڭ نىكېل سۇلفىدنىڭكىدىن كۆپ ئىكەنلىكىنى ئىسپاتلىغىلى بولىدۇ. ئېلېمېنتلارنىڭ يۈزىدىكى تەكشى تارقىلىشى نىكېل ۋە كۈمۈش سۇلفىدنىڭ TiO2 نانو سىملىرىنىڭ يۈزىدە بىردەك باغلىنىشلىق ئىكەنلىكىنى كۆرسىتىدۇ. ماددىلارنىڭ ئالاھىدە تەركىبى ۋە باغلىنىش ھالىتىنى تەھلىل قىلىش ئۈچۈن رېنتىگېن نۇرى فوتوئېلېكترون سپېكتروسكوپىك ئانالىزى قوشۇمچە ئېلىپ بېرىلدى.
NiS چۆكمىسىنىڭ 6 دەۋرىيلىكىدە Ag/NiS/TiO2 نانوكومپوزىتلىرىنىڭ ئېلېمېنتلىرى (Ti، O، Ni، S ۋە Ag) نىڭ 0.1 M AgNO3 قويۇقلۇقىدا تارقىلىشى.
9-رەسىمدە 0.1 M AgNO3 غا چىلاش ئارقىلىق نىكېل سۇلفىد چۆكمىسىنىڭ 6 دەۋرىيلىكى ئارقىلىق قولغا كەلتۈرۈلگەن Ag/NiS/TiO2 نانوكومپوزىتلىرىنىڭ XPS سپېكتىرى كۆرسىتىلگەن، بۇ يەردە 9a-رەسىم تولۇق سپېكتىر، قالغان سپېكتىرلار ئېلېمېنتلارنىڭ يۇقىرى ئېنىقلىقتىكى سپېكتىرى. 9a-رەسىمدىكى تولۇق سپېكتىردىن كۆرۈۋېلىشقا بولىدۇكى، نانوكومپوزىتتا Ti، O، Ni، S ۋە Ag نىڭ يۇتۇش چوققىلىرى بايقالغان، بۇ بۇ بەش ئېلېمېنتنىڭ مەۋجۇتلۇقىنى ئىسپاتلايدۇ. سىناق نەتىجىسى EDS غا ماس كەلگەن. 9a-رەسىمدىكى ئارتۇق چوققى ئەۋرىشكىنىڭ باغلىنىش ئېنېرگىيەسىنى تۈزىتىش ئۈچۈن ئىشلىتىلگەن كاربون چوققىسى. 9b-رەسىمدە Ti نىڭ يۇقىرى ئېنىقلىقتىكى ئېنېرگىيە سپېكتىرى كۆرسىتىلگەن. 2p ئوربىتالىنىڭ يۇتۇش چوققىلىرى 459.32 ۋە 465 eV دا بولۇپ، بۇ Ti 2p3/2 ۋە Ti 2p1/2 ئوربىتالىنىڭ يۇتۇش چوققىلىرىغا ماس كېلىدۇ. ئىككى قېتىملىق يۇتۇلۇش چوققىسى تىتاننىڭ Ti4+ ۋالېنتلىقىغا ئىگە ئىكەنلىكىنى ئىسپاتلايدۇ، بۇ TiO2 دىكى Ti غا ماس كېلىدۇ.
Ag/NiS/TiO2 ئۆلچەشلىرىنىڭ XPS سپېكتىرى (a) ۋە Ti2p(b)، O1s(c)، Ni2p(d)، S2p(e) ۋە Ag 3d(f) نىڭ يۇقىرى ئېنىقلىقتىكى XPS سپېكتىرى.
9d-رەسىمدە Ni 2p ئوربىتاسىنىڭ تۆت يۇتۇش چوققىسى بار يۇقىرى ئېنىقلىقتىكى Ni ئېنېرگىيە سپېكتىرى كۆرسىتىلگەن. 856 ۋە 873.5 eV دىكى يۇتۇش چوققىلىرى Ni 2p3/2 ۋە Ni 2p1/2 8.10 ئوربىتالىرىغا ماس كېلىدۇ، بۇ يەردە يۇتۇش چوققىلىرى NiS غا تەۋە. 881 ۋە 863 eV دىكى يۇتۇش چوققىلىرى نىكېل نىترات ئۈچۈن بولۇپ، ئەۋرىشكە تەييارلاش جەريانىدا نىكېل نىترات رېئاگېنتى تەرىپىدىن پەيدا قىلىنىدۇ. 9e-رەسىمدە يۇقىرى ئېنىقلىقتىكى S سپېكتىرى كۆرسىتىلگەن. S 2p ئوربىتالىرىنىڭ يۇتۇش چوققىلىرى 161.5 ۋە 168.1 eV دا بولۇپ، بۇلار S 2p3/2 ۋە S 2p1/2 ئوربىتالىرىغا 21، 22، 23، 24 ماس كېلىدۇ. بۇ ئىككى چوققى نىكېل سۇلفىد بىرىكمىلىرىگە تەۋە. 169.2 ۋە 163.4 eV دىكى يۇتۇش چوققىلىرى ناترىي سۇلفىد رېئاگېنتىغا تەۋە. 1-رەسىمدە. 9f-رەسىمدە يۇقىرى ئېنىقلىقتىكى Ag سپېكتىرى كۆرسىتىلگەن بولۇپ، بۇ سپېكتىردا كۈمۈشنىڭ 3d ئوربىتا يۇتۇش چوققىسى ئايرىم-ئايرىم ھالدا 368.2 ۋە 374.5 eV دا، ئىككى يۇتۇش چوققىسى Ag 3d5/2 ۋە Ag 3d3/212, 13 نىڭ يۇتۇش ئوربىتىسىغا ماس كېلىدۇ. بۇ ئىككى ئورۇندىكى چوققىلار كۈمۈش نانو زەررىچىلىرىنىڭ ئېلېمېنت كۈمۈش ھالىتىدە مەۋجۇت ئىكەنلىكىنى ئىسپاتلايدۇ. شۇڭا، نانوكومپوزىتلار ئاساسلىقى Ag، NiS ۋە TiO2 دىن تەركىب تاپقان بولۇپ، بۇ رېنتىگېن نۇرى فوتوئېلېكترون سپېكتروسكوپىيەسى ئارقىلىق ئېنىقلانغان بولۇپ، بۇ ئۇسۇل نىكېل ۋە كۈمۈش سۇلفىد نانو زەررىچىلىرىنىڭ TiO2 نانو سىملىرىنىڭ يۈزىدە مۇۋەپپەقىيەتلىك بىرىكتۈرۈلگەنلىكىنى ئىسپاتلىغان.
10-رەسىمدە يېڭى تەييارلانغان TiO2 نانو سىملىرى، NiS/TiO2 نانوكومپوزىتلىرى ۋە Ag/NiS/TiO2 نانوكومپوزىتلىرىنىڭ UV-VIS تارقىلىشچان قايتۇرۇش سپېكتىرى كۆرسىتىلگەن. رەسىمدىن TiO2 نانو سىملىرىنىڭ يۇتۇش چېكى تەخمىنەن 390 نانومېتىر ئىكەنلىكىنى، يۇتۇلغان نۇرنىڭ ئاساسلىقى ئۇلترابىنەفشە نۇر رايونىدا مەركەزلەشكەنلىكىنى كۆرۈۋالغىلى بولىدۇ. رەسىمدىن تىتان دىئوكسىد نانو سىملىرىنىڭ يۈزىدە نىكېل ۋە كۈمۈش سۇلفىد نانو زەررىچىلىرى بىرلەشتۈرۈلگەندىن كېيىن، يۇتۇلغان نۇر كۆرۈنگەن نۇر رايونىغا تارقىلىدىغانلىقىنى كۆرۈۋالغىلى بولىدۇ. شۇنىڭ بىلەن بىر ۋاقىتتا، نانوكومپوزىتنىڭ UV يۇتۇش كۈچى ئاشقان، بۇ نىكېل سۇلفىدنىڭ تار بەلباغ بوشلۇقى بىلەن مۇناسىۋەتلىك. بەلباغ بوشلۇقى قانچە تار بولسا، ئېلېكترونلۇق ئۆتكۈنچى ئېنېرگىيە توسۇقى شۇنچە تۆۋەن بولىدۇ ۋە نۇردىن پايدىلىنىش دەرىجىسى شۇنچە يۇقىرى بولىدۇ. NiS/TiO2 يۈزىنى كۈمۈش نانو زەررىچىلىرى بىلەن بىرلەشتۈرگەندىن كېيىن، يۇتۇش كۈچلۈكلۈكى ۋە نۇر دولقۇن ئۇزۇنلۇقى كۆرۈنەرلىك دەرىجىدە ئاشقان ئەمەس، ئاساسلىقى كۈمۈش نانو زەررىچىلىرىنىڭ يۈزىگە پلازمون رېزونانسىنىڭ تەسىرى سەۋەبىدىن. TiO2 نانو سىملىرىنىڭ يۇتۇش دولقۇن ئۇزۇنلۇقى بىرىكمە NiS نانو زەررىچىلىرىنىڭ تار بەلباغ بوشلۇقىغا سېلىشتۇرغاندا كۆرۈنەرلىك ياخشىلانمايدۇ. قىسقىسى، بىرىكمە نىكېل سۇلفىد ۋە كۈمۈش نانو زەررىچىلىرى تىتان دىئوكسىد نانو سىملىرىنىڭ يۈزىگە كىرگەندىن كېيىن، ئۇنىڭ نۇر يۇتۇش خۇسۇسىيىتى زور دەرىجىدە ياخشىلىنىدۇ، نۇر يۇتۇش دائىرىسى ئۇلترابىنەفشە نۇردىن كۆرۈنگەن نۇرغىچە كېڭىيىدۇ، بۇ تىتان دىئوكسىد نانو سىملىرىنىڭ ئىشلىتىش نىسبىتىنى ياخشىلايدۇ. بۇ ماتېرىيالنىڭ فوتوئېلېكترون ھاسىل قىلىش ئىقتىدارىنى ياخشىلايدىغان نۇر.
يېڭى TiO2 نانوسىملىرى، NiS/TiO2 نانوكومپوزىتلىرى ۋە Ag/NiS/TiO2 نانوكومپوزىتلىرىنىڭ UV/Vis تارقىلىشچان قايتۇرۇش سپېكتىرى.
11-رەسىمدە Ag/NiS/TiO2 نانوكومپوزىتلىرىنىڭ كۆرۈنگەن نۇر نۇرى ئاستىدا فوتوخىمىيىلىك چىرىشكە چىداملىق مېخانىزمى كۆرسىتىلگەن. كۈمۈش نانو زەررىچىلىرى، نىكېل سۇلفىد ۋە تىتان دىئوكسىدنىڭ ئۆتكۈزۈشچانلىق بەلبېغىنىڭ پوتېنسىيال تارقىلىشىغا ئاساسەن، چىرىشكە چىداملىقلىق مېخانىزمىنىڭ مۇمكىن بولغان خەرىتىسى تەۋسىيە قىلىنىدۇ. نانو كۈمۈشنىڭ ئۆتكۈزۈشچانلىق بەلبېغىنىڭ پوتېنسىيالى نىكېل سۇلفىدقا سېلىشتۇرغاندا مەنپىي، نىكېل سۇلفىدنىڭ ئۆتكۈزۈشچانلىق بەلبېغىنىڭ پوتېنسىيالى تىتان دىئوكسىدقا سېلىشتۇرغاندا مەنپىي بولغاچقا، ئېلېكترون ئېقىمىنىڭ يۆنىلىشى تەخمىنەن Ag→NiS→TiO2→304 داتلاشماس پولات. نانوكومپوزىتنىڭ يۈزىگە نۇر چۈشكەندە، نانو كۈمۈشنىڭ يۈزەكى پلازمون رېزونانسىنىڭ تەسىرى سەۋەبىدىن، نانو كۈمۈش تېز سۈرئەتتە فوتو ھاسىل بولغان تۆشۈكلەر ۋە ئېلېكترونلارنى ھاسىل قىلالايدۇ، فوتو ھاسىل بولغان ئېلېكترونلار قوزغىلىش سەۋەبىدىن تېز سۈرئەتتە ۋالېنس بەلبېغى ئورنىدىن ئۆتكۈزۈشچانلىق ئورنىغا يۆتكىلىدۇ. تىتان دىئوكسىد ۋە نىكېل سۇلفىد. كۈمۈش نانو زەررىچىلىرىنىڭ ئۆتكۈزۈشچانلىقى نىكېل سۇلفىدقا قارىغاندا مەنپىي بولغاچقا، كۈمۈش نانو زەررىچىلىرىنىڭ TS دىكى ئېلېكترونلار تېز سۈرئەتتە نىكېل سۇلفىدنىڭ TS غا ئايلىنىدۇ. نىكېل سۇلفىدنىڭ ئۆتكۈزۈشچانلىق پوتېنسىيالى تىتان دىئوكسىدنىڭكىدىن سەلبىي، شۇڭا نىكېل سۇلفىدنىڭ ئېلېكترونلىرى ۋە كۈمۈشنىڭ ئۆتكۈزۈشچانلىقى تىتان دىئوكسىدنىڭ CB دا تېز سۈرئەتتە توپلىنىدۇ. ھاسىل بولغان فوتو ھاسىل قىلىنغان ئېلېكترونلار تىتان ماترىتسىسى ئارقىلىق 304 داتلاشماس پولاتنىڭ يۈزىگە يېتىپ بارىدۇ، ھەمدە موللاشتۇرۇلغان ئېلېكترونلار 304 داتلاشماس پولاتنىڭ كاتود ئوكسىگېننى ئازايتىش جەريانىغا قاتنىشىدۇ. بۇ جەريان كاتود رېئاكسىيەسىنى ئازايتىدۇ، شۇنىڭ بىلەن بىر ۋاقىتتا 304 داتلاشماس پولاتنىڭ ئانود ئېرىتىش رېئاكسىيەسىنى باستۇرىدۇ، شۇنىڭ بىلەن داتلاشماس پولات 304 نىڭ كاتود قوغداش ئىقتىدارىنى ئەمەلگە ئاشۇرىدۇ. Ag/NiS/TiO2 نانوكومپوزىتىدا گېتېرو تۇتاشتۇرۇشنىڭ ئېلېكتر مەيدانىنىڭ شەكىللىنىشى سەۋەبىدىن، نانوكومپوزىتنىڭ ئۆتكۈزۈشچانلىق پوتېنسىيالى تېخىمۇ سەلبىي ئورۇنغا يۆتكىلىدۇ، بۇ 304 داتلاشماس پولاتنىڭ كاتود قوغداش ئۈنۈمىنى تېخىمۇ ئۈنۈملۈك ياخشىلايدۇ.
كۆرۈنگەن نۇر ئاستىدا Ag/NiS/TiO2 نانوكومپوزىتلىرىنىڭ فوتوئېلېكتروخىمىيىلىك چىرىشكە قارشى تۇرۇش جەريانىنىڭ سىخېما دىئاگراممىسى.
بۇ ئەسەردە، TiO2 نانو سىملىرىنىڭ يۈزىدە ئاددىي چىلاش ۋە فوتو قايتۇرۇش ئۇسۇلى ئارقىلىق نىكېل ۋە كۈمۈش سۇلفىد نانو زەررىچىلىرى سىنتېز قىلىندى. 304 داتلاشماس پولات ئۈستىدە Ag/NiS/TiO2 نانوكومپوزىتلىرىنىڭ كاتود قوغداش ئۇسۇلى توغرىسىدا بىر قاتار تەتقىقاتلار ئېلىپ بېرىلدى. مورفولوگىيىلىك ئالاھىدىلىكلەر، تەركىب ئانالىزى ۋە نۇر يۇتۇش ئالاھىدىلىكلىرىنى ئانالىز قىلىش ئاساسىدا، تۆۋەندىكى ئاساسلىق يەكۈنلەر چىقىرىلدى:
نىكېل سۇلفىدنىڭ بىر قاتار چىلاش-چۆكۈش دەۋرىيلىكى 6 ۋە فوتورېدكسىيە ئۈچۈن كۈمۈش نىتراتنىڭ قويۇقلۇقى 0.1 مول/لىتىر بولغاندا، نەتىجىدە ھاسىل بولغان Ag/NiS/TiO2 نانوكومپوزىتلىرى 304 داتلاشماس پولاتقا تېخىمۇ ياخشى كاتود قوغداش ئۈنۈمىگە ئىگە بولدى. تويۇنغان كالومېل ئېلېكترود بىلەن سېلىشتۇرغاندا، قوغداش پوتېنسىيالى -925 mV غا، قوغداش توكى 410 μA/cm2 غا يېتىدۇ.
Ag/NiS/TiO2 نانوكومپوزىت چېگرىسىدا گېتېروكومپوزىت ئېلېكتر مەيدانى شەكىللىنىدۇ، بۇ فوتو ھاسىل قىلىنغان ئېلېكترون ۋە تۆشۈكلەرنىڭ ئايرىش كۈچىنى ياخشىلايدۇ. شۇنىڭ بىلەن بىر ۋاقىتتا، نۇردىن پايدىلىنىش ئۈنۈمى ئاشىدۇ ۋە نۇرنى سۈمۈرۈش دائىرىسى ئۇلترابىنەفشە نۇر رايونىدىن كۆرۈنگەن رايونغىچە كېڭىيىدۇ. نانوكومپوزىت 4 قېتىملىق دەۋرىيلىكتىن كېيىنمۇ ئەسلىدىكى ھالىتىنى ساقلاپ، ياخشى مۇقىملىقنى ساقلايدۇ.
تەجرىبە ئارقىلىق تەييارلانغان Ag/NiS/TiO2 نانوكومپوزىتلىرىنىڭ يۈزى بىردەك ۋە زىچ. نىكېل سۇلفىد ۋە كۈمۈش نانو زەررىچىلىرى TiO2 نانو سىملىرىنىڭ يۈزىدە بىردەك بىرىكمە ھاسىل قىلىدۇ. كوبالت فېررىت ۋە كۈمۈش نانو زەررىچىلىرى يۇقىرى ساپلىققا ئىگە.
Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF & Shen, JN %3 NaCl ئېرىتمىسىدىكى TiO2 پەردىسىنىڭ كاربون پولات ئۈچۈن فوتوكاتود قوغداش ئۈنۈمى. Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF & Shen, JN %3 NaCl ئېرىتمىسىدىكى TiO2 پەردىسىنىڭ كاربون پولات ئۈچۈن فوتوكاتود قوغداش ئۈنۈمى. Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF & Shen, JN Эфтек фотокатодной защиты пленок TiO2 для углеродистой стали в 3% راستورۋا NaCl. Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF & Shen, JN %3 NaCl ئېرىتمىسىدىكى كاربون پولات ئۈچۈن TiO2 پەردىسىنىڭ فوتوكاتود قوغداش ئۈنۈمى. Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF & Shen, JN TiO2 薄膜在 3% NaCl 溶液中对碳钢的光阴极保护效果。 Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF & Shen, JN TiO2 薄膜在 3% NaCl 溶液中对碳钢的光阴极保护效果。 لى ، MC ، لو ، SZ ، ۋۇ ، PF & شېن ، JN Фотокатодная защита углеродистой стали якк пляками TiO2 - 3% راستورې NaCl. Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF & Shen, JN %3 NaCl ئېرىتمىسىدىكى TiO2 نېپىز پەردىسى بىلەن كاربون پولاتنىڭ فوتوكاتود بىلەن قوغدىلىشى.ئېلېكتروخىمىيە. Acta 50، 3401–3406 (2005).
Li, J., Lin, CJ, Lai, YK & Du, RG داتلاشماس پولات ئۈستىدە گۈلگە ئوخشاش، نانو قۇرۇلمىلىق، N قوشۇلغان TiO2 پەردىسىنىڭ فوتوگېنېراتورلۇق كاتود قوغداش ئۇسۇلى. Li, J., Lin, CJ, Lai, YK & Du, RG داتلاشماس پولات ئۈستىدە گۈلگە ئوخشاش، نانو قۇرۇلمىلىق، N قوشۇلغان TiO2 پەردىسىنىڭ فوتوگېنېراتورلۇق كاتود قوغداش ئۇسۇلى.لى، ج.، لىن، سج.، لاي، ي.ك. ۋە دۇ، ر.گ. داتلاشماس پولات ئۈستىدە گۈل شەكلىدە نانو قۇرۇلمىلىق، ئازوت قوشۇلغان TiO2 پەردىسىنىڭ فوتوگېنېراتورلۇق كاتود قوغداش ئۇسۇلى. Li, J., Lin, CJ, Lai, YK & Du, RG 花状纳米结构 N 掺杂 TiO2 薄膜在不锈钢上的光生阴极保护。 Li, J., Lin, CJ, Lai, YK & Du, RG.لى، ج.، لىن، سج.، لاي، يك ۋە دۇ، رگ. داتلاشماس پولات ئۈستىدە ئازوت قوشۇلغان TiO2 گۈل شەكىللىك نانو قۇرۇلمىلىق نېپىز پەردىلەرنىڭ فوتوگېنېراتورلۇق كاتود قوغداش ئۇسۇلى.سېرفىڭ A چاپان تېخنىكىسى 205، 557–564 (2010).
Zhou, MJ, Zeng, ZO & Zhong, L. نانو چوڭلۇقتىكى TiO2/WO3 قاپلىمىسىنىڭ فوتوگېنېراتورلۇق كاتود قوغداش خۇسۇسىيىتى. Zhou, MJ, Zeng, ZO & Zhong, L. نانو چوڭلۇقتىكى TiO2/WO3 قاپلىمىسىنىڭ فوتوگېنېراتورلۇق كاتود قوغداش خۇسۇسىيىتى.Zhou, MJ, Zeng, ZO ۋە Zhong, L. TiO2/WO3 نانو ئۆلچەملىك قاپلىمىسىنىڭ فوتوگېنېراتورلۇق كاتود قوغداش خۇسۇسىيىتى. جوۋ ، MJ ، زېڭ ، ZO & Zhong, L. 纳米 TiO2 / WO3 涂层的光生阴极保护性能。 جوۋ ، MJ ، زېڭ ، ZO & Zhong, L. 纳米 TiO2 / WO3 涂层的光生阴极保护性能。جوۋ MJ، زېڭ ZO ۋە جوڭ L. نانو-TiO2/WO3 قاپلىمىلىرىنىڭ فوتوگېنېراتورلۇق كاتود قوغداش خۇسۇسىيىتى.كوروس. ئىلىم-پەن. 51، 1386–1397 (2009).
پارك، خ.، كىم، ك.ي ۋە چوي، ۋ. يېرىم ئۆتكۈزگۈچ فوتوئانود ئارقىلىق مېتاللارنىڭ چىرىشىنىڭ ئالدىنى ئېلىشتىكى فوتوئېلېكتروخىمىيىلىك ئۇسۇلى. پارك، خ.، كىم، ك.ي ۋە چوي، ۋ. يېرىم ئۆتكۈزگۈچ فوتوئانود ئارقىلىق مېتاللارنىڭ چىرىشىنىڭ ئالدىنى ئېلىشتىكى فوتوئېلېكتروخىمىيىلىك ئۇسۇلى.پارك، خ.، كىم، ك.يۇ. ۋە چوي، ۋ. يېرىم ئۆتكۈزگۈچ فوتوئانود ئارقىلىق مېتاللارنىڭ چىرىشىنىڭ ئالدىنى ئېلىشتىكى فوتوئېلېكتروخىمىيىلىك ئۇسۇلى. Park, H., Kim, KY & Choi, W. 使用半导体光阳极防止金属腐蚀的光电化学方法。 پارك، خ.، كىم، KY ۋە چوي، ۋ.پارك خ.، كىم ك.يۇ. ۋە چوي ۋ. يېرىم ئۆتكۈزگۈچ فوتوئانود ئارقىلىق مېتاللارنىڭ چىرىشىنىڭ ئالدىنى ئېلىشنىڭ فوتوئېلېكتروخىمىيىلىك ئۇسۇللىرى.فىزىكا ژۇرنىلى. خىمىيە. 106-قىسىم، 4775–4781 (2002).
شېن، GX، چېن، YC، لىن، ل.، لىن، CJ ۋە سكانتلېبۇرى، د. مېتاللارنىڭ چىرىشتىن ساقلىنىشى ئۈچۈن گىدروفوب نانو-TiO2 قاپلىمىسىنى تەتقىق قىلىش. شېن، GX، چېن، YC، لىن، ل.، لىن، CJ ۋە سكانتلېبۇرى، د. مېتاللارنىڭ چىرىشتىن ساقلىنىشى ئۈچۈن گىدروفوب نانو-TiO2 قاپلىمىسىنى تەتقىق قىلىش. شېن ، GX ، چېن ، YC ، لىن ، ل. ، لىن ، CJ ۋە سكانتلېبۇرىي ، D. شېن، GX، چېن، YC، لىن، ل.، لىن، CJ ۋە سكانتلېبۇرى، د. مېتاللارنىڭ چىرىشتىن ساقلىنىشى ئۈچۈن گىدروفوب نانو-TiO2 قاپلىمىسىنى تەكشۈرۈش ۋە ئۇنىڭ خۇسۇسىيەتلىرى. شېن ، GX ، چېن ، YC ، لىن ، ل. ، لىن ، CJ & Scantlebury, D. 疏水纳米二氧化钛涂层及其金属腐蚀防护性能的研究。 شېن، GX، چېن، YC، لىن، ل.، لىن، CJ ۋە سكانتلېبۇرى، د. 疵水 نانو-تىتان دىئوكسىد قاپلىمىسىنىڭ تەتقىقاتى ۋە ئۇنىڭ مېتالنىڭ چىرىشتىن ساقلىنىش خۇسۇسىيىتى. شېن ، GX ، چېن ، YC ، لىن ، ل. ، لىن ، CJ & Scantlebury ، D. Shen, GX, Chen, YC, Lin, L., Lin, CJ & Scantlebury, D. نانو-TiO2 نىڭ سۇغا چىداملىق قاپلىمىلىرى ۋە ئۇلارنىڭ مېتاللارنىڭ چىرىشتىن ساقلىنىش خۇسۇسىيىتى.ئېلېكتروخىمىيە. Acta 50، 5083–5089 (2005).
يۈن، خ.، لى، ج.، چېن، HB ۋە لىن، CJ داتلاشماس پولاتنىڭ چىرىشتىن ساقلىنىشى ئۈچۈن N، S ۋە Cl ئۆزگەرتىلگەن نانو-TiO2 قاپلىمىلىرى توغرىسىدىكى تەتقىقات. يۈن، خ.، لى، ج.، چېن، HB ۋە لىن، CJ داتلاشماس پولاتنىڭ چىرىشتىن ساقلىنىشى ئۈچۈن N، S ۋە Cl ئۆزگەرتىلگەن نانو-TiO2 قاپلىمىلىرى توغرىسىدىكى تەتقىقات.يۈن، خ.، لى، ج.، چېن، HB ۋە لىن، سج. داتلاشماس پولاتنىڭ چىرىشتىن ساقلىنىشى ئۈچۈن ئازوت، كۈكىرت ۋە خىلور بىلەن ئۆزگەرتىلگەن نانو-TiO2 قاپلىمىلىرىنى تەكشۈرۈش. Yun, H., Li, J., Chen, HB & Lin, CJ N 、 S 和 Cl 改性纳米二氧化钛涂层用于不锈钢腐蚀防护的研究。 يۈن، خ.، لى، ج.، چېن، HB ۋە لىن، CJ N، S ۋە Cl يۈن ، ھ. ، لى ، ج. ، چېن ، HB & لىن ، CJ Покрытия N, S и Cl, модифицированные нано-TiO2, Yun, H., Li, J., Chen, HB & Lin, CJ داتلاشماس پولاتنىڭ چىرىشتىن ساقلىنىشى ئۈچۈن Nano-TiO2 ئۆزگەرتىلگەن N, S ۋە Cl قاپلىمىلىرى.ئېلېكتروخىمىيە. 52-توم، 6679–6685 (2007).
جۇ، يف، دۇ، رگ، چېن، ۋ.، چى، ھق ۋە لىن، سىيج. بىرلەشتۈرۈلگەن سول-گېل ۋە گىدروتېرمال ئۇسۇل ئارقىلىق تەييارلانغان ئۈچ ئۆلچەملىك تىتانات نانوسىم تور پەردىلىرىنىڭ فوتوكاتود قوغداش خۇسۇسىيىتى. جۇ، يف، دۇ، رگ، چېن، ۋ.، چى، ھق ۋە لىن، سىيج. بىرلەشتۈرۈلگەن سول-گېل ۋە گىدروتېرمال ئۇسۇل ئارقىلىق تەييارلانغان ئۈچ ئۆلچەملىك تىتانات نانوسىم تور پەردىلىرىنىڭ فوتوكاتود قوغداش خۇسۇسىيىتى. جۇ ، YF ، دۇ ، RG ، چېن ، ۋ. جۇ، يف، دۇ، رگ، چېن، ۋ.، چى، ھق ۋە لىن، سىيج. بىرلەشتۈرۈلگەن سول-گېل ۋە گىدروتېرمال ئۇسۇل ئارقىلىق تەييارلانغان تىتانات نانوسىملىرىنىڭ ئۈچ ئۆلچەملىك تور پەردىسىنىڭ فوتوكاتود قوغداش خۇسۇسىيىتى. جۇ ، YF ، Du ، RG ، چېن ، W. ، چى ، HQ & لىن ، CJ 溶胶 - 凝胶和水热法制备三维钛酸盐纳米线网络薄膜的光阴极保护性能。 جۇ ، YF ، دۇ ، RG ، چېن ، W. ، چى ، HQ & لىن ، CJ. Properties - The نىڭ قوغداش خۇسۇسىيىتى. جۇ ، YF ، دۇ ، RG ، چېن ، ۋ. جۇ، يف، دۇ، رگ، چېن، ۋ.، چى، ھق ۋە لىن، سىيج. سول-گېل ۋە گىدروتېرمال ئۇسۇللار بىلەن تەييارلانغان ئۈچ ئۆلچەملىك تىتانات نانوسىم تورى نېپىز پەردىلىرىنىڭ فوتوكاتود قوغداش خۇسۇسىيىتى.ئېلېكتروخىمىيە. ئالاقە ژۇرنىلى 12، 1626–1629 (2010).
لى، ج.ھ.، كىم، SI، پارك، SM ۋە كاڭ، م. كاربون تۆت ئوكسىدنى مېتانغا ئۈنۈملۈك فوتورېدۇكسىيە قىلىش ئۈچۈن pn ھېتېرو تۇتاشتۇرۇش NiS غا سەزگۈرلۈك بېرىلگەن TiO2 فوتوكاتالىزاتور سىستېمىسى. لى، ج.ھ.، كىم، SI، پارك، SM ۋە كاڭ، م. كاربون تۆت ئوكسىدنى مېتانغا ئۈنۈملۈك فوتورېداتسىيە قىلىش ئۈچۈن pn ​​ھېتېروكېڭىشىش NiS-سېزگۈرلۈككە ئىگە TiO2 فوتوكاتالىزاتور سىستېمىسى.لى، ج.ھ.، كىم، SI، پارك، SM، ۋە كاڭ، م. كاربون تۆت ئوكسىدنى مېتانغا ئۈنۈملۈك فوتورېداتسىيە قىلىش ئۈچۈن pn-ھېتېروكېسىشمە NiS سەزگۈرلۈككە ئىگە TiO2 فوتوكاتالىزاتور سىستېمىسى. Lee, JH, Kim, SI, Park, SM & Kang, M. 一种 pn 异质结 NiS 敏化 TiO2 光催化系统，用于将二氧化碳高效光还原为甲烷。 Lee, JH, Kim, SI, Park, SM & Kang, M.لى، ج.ھ.، كىم، SI، پارك، SM، ۋە كاڭ، م. كاربون تۆت ئوكسىدنى مېتانغا ئۈنۈملۈك فوتورېداتسىيە قىلىش ئۈچۈن pn-ھېتېروكېسىشمە NiS سەزگۈرلۈككە ئىگە TiO2 فوتوكاتالىزاتور سىستېمىسى.كېرامىكا. چۈشەندۈرۈش. 43، 1768–1774 (2017).
ۋاڭ، QZ قاتارلىقلار. CuS ۋە NiS TiO2 دىكى فوتوكاتالىزاتورلۇق ھىدروگېننىڭ ئېۋوليۇتسىيەسىنى كۈچەيتىشتە كوكاتالىزاتور رولىنى ئوينايدۇ. چۈشەندۈرۈش. J.Hydro. Energy 39, 13421–13428 (2014).
Liu, Y. & Tang, C. يۈزە يۈكلەنگەن NiS نانو زەررىچىلىرى ئارقىلىق TiO2 نانو قەغەز پىلاستىنكىلىرى ئۈستىدىن فوتوكاتالىزاتورلۇق H2 ئېۋولۇتسىيەسىنى كۈچەيتىش. Liu, Y. & Tang, C. يۈزە يۈكلەنگەن NiS نانو زەررىچىلىرى ئارقىلىق TiO2 نانو قەغەز پىلاستىنكىلىرى ئۈستىدىن فوتوكاتالىزاتورلۇق H2 ئېۋولۇتسىيەسىنى كۈچەيتىش.لىيۇ، ي. ۋە تاڭ، ك. NiS نانو زەررىچىلىرىنى يۈزىگە يۈكلەش ئارقىلىق TiO2 نانو قەغەز پىلاستىنكىلىرىدىكى فوتوكاتالىزاتورلۇق H2 نىڭ قويۇپ بېرىلىشىنى كۈچەيتىش. ليۇ ، Y. & تاڭ ، C. 通过表面负载 NiS 纳米颗粒增强 TiO2 纳米片薄膜上的光催化产氢。 ليۇ، ي. ۋە تاڭ، س.لىيۇ، ي. ۋە تاڭ، ك. يۈزىگە NiS نانو زەررىچىلىرىنى قويۇش ئارقىلىق TiO2 نانو قەغەزلىرىنىڭ نېپىز پەردىلىرىدە فوتوكاتالىزلىق ھىدروگېن ئىشلەپچىقىرىشنى ياخشىلىدى.لاس. فىزىكا. خىمىيە. A 90، 1042–1048 (2016).
خۇاڭ، XW ۋە ليۇ، ZJ ئانودلاشتۇرۇش ۋە خىمىيىلىك ئوكسىدلىنىش ئۇسۇللىرى ئارقىلىق تەييارلانغان Ti–O ئاساسلىق نانوسىم پەردىلىرىنىڭ قۇرۇلمىسى ۋە خۇسۇسىيەتلىرىنى سېلىشتۇرما تەتقىقاتى. خۇاڭ، XW ۋە ليۇ، ZJ ئانودلاشتۇرۇش ۋە خىمىيىلىك ئوكسىدلىنىش ئۇسۇللىرى ئارقىلىق تەييارلانغان Ti–O ئاساسلىق نانوسىم پەردىلىرىنىڭ قۇرۇلمىسى ۋە خۇسۇسىيەتلىرىنى سېلىشتۇرما تەتقىقاتى. خۇاڭ ، XW & لىيۇ ، ZJ Сравнительное исследование кыы и свойств пленок нанопро матов на основе Ti-O, полученnyх методами анодирования һәм хмического осисления. خۇاڭ، XW ۋە ليۇ، ZJ ئانودلاشتۇرۇش ۋە خىمىيىلىك ئوكسىدلىنىش ئۇسۇللىرى ئارقىلىق قولغا كەلتۈرۈلگەن Ti-O نانوسىم پەردىلىرىنىڭ قۇرۇلمىسى ۋە خۇسۇسىيەتلىرىنى سېلىشتۇرما تەتقىقاتى. خۇاڭ ، XW & ليۇ ، ZJ i Ti-O 基纳米线薄膜结构和性能的比较研究。 خۇاڭ ، XW & ليۇ ، ZJ 阳极 ئوكسىدلىنىش 法和 خىمىيىلىك ئوكسىدلىنىش 法 تەييارلىق i Ti-O 基基基小线 نېپىز پەردە قۇرۇلمىسى 和 مۈلۈك 的 سېلىشتۇرۇش تەتقىقاتى. خۇاڭ ، XW & لىيۇ ، ZJ Сравнительное исследование кыры и свойств чанких пленок из нанопроволоки на основе Ti-O, полученных анодированием и хччеческим осислением. خۇاڭ، XW ۋە ليۇ، ZJ ئانودلاشتۇرۇش ۋە خىمىيىلىك ئوكسىدلىنىش ئارقىلىق تەييارلانغان Ti-O نانوسىم نېپىز پەردىلىرىنىڭ قۇرۇلمىسى ۋە خۇسۇسىيەتلىرىنى سېلىشتۇرما تەتقىقاتى.J. Alma mater. پەن-تېخنىكا ژۇرنىلى 30، 878–883 (2014).
Li, H., Wang, XT, Liu, Y. & Hou, BR Ag ۋە SnO2 نى TiO2 فوتوئانودلىرى بىلەن بىرلىكتە سەزگۈرلەشتۈرۈپ، كۆرۈنگەن نۇر ئاستىدا 304SS نى قوغدىدى. Li, H., Wang, XT, Liu, Y. & Hou, BR Ag ۋە SnO2 نى TiO2 فوتوئانودلىرى بىلەن بىرلىكتە سەزگۈرلەشتۈرۈپ، كۆرۈنگەن نۇر ئاستىدا 304SS نى قوغدىدى. لى ، ھ. ، ۋاڭ ، XT ، ليۇ ، ي. Li, H., Wang, XT, Liu, Y. & Hou, BR Ag ۋە SnO2 TiO2 فوتوئانودلىرىنى بىرلىكتە سېزىمچانلاشتۇرۇپ، 304SS نى كۆرۈنگەن نۇر ئاستىدا قوغدىدى. Li, H., Wang, XT, Liu, Y. & Hou, BR Ag 和 SnO2 共敏化 TiO2 光阳极，用于在可见光下保护 304SS。 لى، خ.، ۋاڭ، XT، ليۇ، ي. ۋە خوۋ، BR ئاگ لى ، H. ، ۋاڭ ، XT ، لىيۇ ، Y. & Hou ، BR Фотоанод TiO2 Li, H., Wang, XT, Liu, Y. & Hou, BR 304SS نىڭ كۆرۈنگەن نۇردىن ساقلىنىشى ئۈچۈن Ag ۋە SnO2 بىلەن بىرلىكتە سەزگۈرلەشتۈرۈلگەن TiO2 فوتوئانودى.كوروس. ئىلىم-پەن. 82، 145–153 (2014).
ۋېن، ZH، ۋاڭ، N.، ۋاڭ، J. ۋە خوۋ، BR Ag ۋە CoFe2O4 بىرلىكتە TiO2 نانوسىمنى سېزىمچانلاشتۇرۇپ، كۆرۈنگەن نۇر ئاستىدا 304 SS نى فوتوكاتود قوغداش ئۈچۈن لايىھەلىدى. ۋېن، ZH، ۋاڭ، N.، ۋاڭ، J. ۋە خوۋ، BR Ag ۋە CoFe2O4 بىرلىكتە TiO2 نانوسىمنى سېزىمچانلاشتۇرۇپ، كۆرۈنگەن نۇر ئاستىدا 304 SS نى فوتوكاتود قوغداش ئۈچۈن لايىھەلىدى.ۋېن، ZH، ۋاڭ، N.، ۋاڭ، J. ۋە خوۋ، BR Ag ۋە CoFe2O4 نى TiO2 نانوسىم بىلەن بىرلىكتە سەزگۈرلەشتۈرۈپ، كۆرۈنگەن نۇر ئاستىدا 304 SS فوتوكاتودنى قوغدىدى. Wen, ZH, Wang, N., Wang, J. & Hou, BR Ag 和 CoFe2O4 共敏化 TiO2 纳米线，用于在可见光下对 304 SS 进行光阴极保护。 Wen, ZH, Wang, N., Wang, J. & Hou, BR Agۋېن، ZH، ۋاڭ، N.، ۋاڭ، J. ۋە خوۋ، BR Ag ۋە CoFe2O4 بىرلىكتە TiO2 نانوسىملىرىنى كۆرۈنگەن نۇر ئاستىدا 304 SS فوتوكاتود قوغداش ئۈچۈن سېزىمچانلاشتۇردى.چۈشەندۈرۈش. J. ئېلېكتروخىمىيە. پەن. 13، 752–761 (2018).
بۇ، YY ۋە Ao، JP مېتاللارنىڭ فوتوئېلېكتروخىمىيىلىك كاتود قوغداش يېرىم ئۆتكۈزگۈچ نېپىز پەردىلىرى توغرىسىدىكى باھا. بۇ، YY ۋە Ao، JP مېتاللارنىڭ يېرىم ئۆتكۈزگۈچ نېپىز پەردىلىرىنى فوتوئېلېكتروخىمىيىلىك كاتود قوغداش توغرىسىدا باھالاش. ب بۇ، YY ۋە Ao، JP مېتاللار ئۈچۈن يېرىم ئۆتكۈزگۈچ نېپىز پەردىلەرنىڭ فوتوئېلېكتروخىمىيىلىك كاتود قوغداش ئۇسۇلىنىڭ باھالىشى. Bu, YY & Ao, JP 金属光电化学阴极保护半导体薄膜综述。 Bu, YY & Ao, JP مېتاللاشتۇرۇش 光电视光阴极电影电影电影电视设计。 ب بۇ، YY ۋە Ao، JP نېپىز يېرىم ئۆتكۈزگۈچ پەردىلەرنىڭ مېتال فوتوئېلېكتروخىمىيىلىك كاتود قوغداش ئۇسۇلىنى باھالاش.يېشىل ئېنېرگىيە مۇھىتى. 2، 331–362 (2017).