Köszönjük, hogy felkereste a Nature.com weboldalt. Az Ön által használt böngészőverzió korlátozott CSS-támogatással rendelkezik. A legjobb élmény érdekében javasoljuk, hogy egy frissített böngészőt használjon (vagy tiltsa le a kompatibilitási módot az Internet Explorerben). Időközben a folyamatos támogatás biztosítása érdekében stílusok és JavaScript nélkül jelenítjük meg az oldalt.
A TiO2 egy félvezető anyag, amelyet fotoelektromos átalakításhoz használnak. A fényhasznosítás javítása érdekében nikkel- és ezüst-szulfid nanorészecskéket szintetizáltak TiO2 nanohuzalok felületén egyszerű mártási és fotoredukciós módszerrel. Egy sor tanulmányt végeztek az Ag/NiS/TiO2 nanokompozitok 304-es rozsdamentes acélon kifejtett katódos védőhatásának vizsgálatára, és kiegészítették az anyagok morfológiáját, összetételét és fényelnyelési jellemzőit. Az eredmények azt mutatják, hogy az előállított Ag/NiS/TiO2 nanokompozitok a legjobb katódos védelmet nyújtják a 304-es rozsdamentes acél számára, ha a nikkel-szulfid impregnálás-kicsapás ciklusok száma 6, az ezüst-nitrát fotoredukciós koncentrációja pedig 0,1 M.
Az n-típusú félvezetők alkalmazása fotokatódos védelemre napfény segítségével az utóbbi években forró téma lett. Napfény gerjesztésekor a félvezető anyag vegyértéksávjából (VB) származó elektronok a vezetési sávba (CB) gerjesztődnek, fotogenerált elektronokat generálva. Ha a félvezető vagy nanokompozit vezetési sávpotenciálja negatívabb, mint a kötött fém önmaratási potenciálja, ezek a fotogenerált elektronok a kötött fém felületére kerülnek. Az elektronok felhalmozódása a fém katódos polarizációjához vezet, és katódos védelmet biztosít a kapcsolódó fémnek1,2,3,4,5,6,7. A félvezető anyagot elméletileg nem feláldozható fotoanódnak tekintik, mivel az anódos reakció nem magát a félvezető anyagot bontja le, hanem a víz oxidációját a fotogenerált lyukakon vagy adszorbeált szerves szennyező anyagokon keresztül, vagy a fotogenerált lyukakat csapdába ejtő kollektorok jelenlétét. A legfontosabb, hogy a félvezető anyag CB potenciálja negatívabb legyen, mint a védett fém korróziós potenciálja. Csak ekkor tudnak a fotogenerált elektronok a félvezető vezetési sávjából a védett fémre átjutni. A fotokémiai korrózióállósági vizsgálatok széles sávú (3,0–3,2 EV)1,2,3,4,5,6,7 szervetlen n-típusú félvezető anyagokra összpontosítottak, amelyek csak az ultraibolya fényre (< 400 nm) érzékenyek, csökkentve a fény rendelkezésre állását. A fotokémiai korrózióállósági vizsgálatok széles sávú (3,0–3,2 EV)1,2,3,4,5,6,7 szervetlen n-típusú félvezető anyagokra összpontosítottak, amelyek csak az ultraibolya fényre (< 400 nm) érzékenyek, csökkentve a fény rendelkezésre állását. Исследования стойкости к фотохимической коррозии были сосредоточены на неорганических полупроводниковерих-лупроводниковерих-лупроводниковерих- широкой запрещенной зоной (3,0–3,2 EV)1,2,3,4,5,6,7, которые реагируют только на ультрафиолетовое излучение (<нм),4000 уменьшение доступности света. A fotokémiai korrózióállósággal kapcsolatos kutatások az n-típusú szervetlen félvezető anyagokra összpontosítottak, amelyek széles tiltott sávval (3,0–3,2 EV)1,2,3,4,5,6,7 rendelkeznek, és csak az ultraibolya sugárzásra (< 400 nm) reagálnak, csökkentve ezzel a fényhozamot.光化学耐腐蚀性研究主要集中在具有宽带隙(3,0–3,2EV)1,2,3,4,5,6,7 的无机n型半导体材料上，这些材料仅对紫外光（< 400 nm）有响应，减少光的姯用光 化学 耐腐 蚀性 研究 主要 在 具有 宽带隙 宽带隙 宽带隙 (3,0–3,2 ev) 1,0–3,2 ev. n 型 材料 上 ， 这些 材料 仅 对 （<400 nm） 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有有 有 有响应，减少光的可用性. Исследования стойкости к фотохимической коррозии в основном были сосредоточены на неорганических поникойкой полупрозии n-типа с широкой запрещенной зоной (3,0–3,2EV)1,2,3,4,5,6,7, которые чувствительны только к УФ-излущенной зоной (<400юн). A fotokémiai korrózióállósággal kapcsolatos kutatások főként a széles tiltott sávú (3,0–3,2 EV) 1,2,3,4,5,6,7 n-típusú szervetlen félvezető anyagokra összpontosítottak, amelyek csak az UV-sugárzásra (<400 nm) érzékenyek.Válaszul csökken a rendelkezésre álló fény mennyisége.
A tengeri korrózióvédelem területén a fotoelektrokémiai katódos védelmi technológia kulcsszerepet játszik. A TiO2 egy félvezető anyag, kiváló UV-fényelnyeléssel és fotokatalitikus tulajdonságokkal. Azonban az alacsony fényfelhasználási arány miatt a fotogenerált elektronlyukak könnyen rekombinálódnak, és sötét körülmények között nem árnyékolhatók. További kutatásokra van szükség egy ésszerű és megvalósítható megoldás megtalálásához. Jelentések szerint számos felületmódosítási módszer alkalmazható a TiO2 fényérzékenységének javítására, például Fe-vel, N-nel adalékolás, valamint Ni3S2-vel, Bi2Se3-mal, CdTe-vel stb. való keverés. Ezért a nagy fotoelektromos konverziós hatásfokú anyagokkal készült TiO2 kompozitot széles körben alkalmazzák a fotogenerált katódos védelem területén.
A nikkel-szulfid egy félvezető anyag, amelynek keskeny, mindössze 1,24 eV-os sávrése van8,9. Minél keskenyebb a sávrés, annál erősebb a fényhasznosítás. Miután a nikkel-szulfidot összekeverik a titán-dioxid felületével, a fényhasznosítás mértéke növelhető. Titán-dioxiddal kombinálva hatékonyan javíthatja a fotogenerált elektronok és lyukak elválasztási hatékonyságát. A nikkel-szulfidot széles körben használják elektrokatalitikus hidrogéntermelésben, akkumulátorokban és szennyező anyagok lebontásában8,9,10. Fotokatódvédelemben való alkalmazásáról azonban még nem számoltak be. Ebben a tanulmányban egy keskeny sávrésű félvezető anyagot választottak az alacsony TiO2 fényhasznosítási hatékonyság problémájának megoldására. Nikkel- és ezüst-szulfid nanorészecskéket kötöttek TiO2 nanohuzalok felületére immerziós, illetve fotoredukciós módszerekkel. Az Ag/NiS/TiO2 nanokompozit javítja a fényhasznosítás hatékonyságát, és kiterjeszti a fényelnyelési tartományt az ultraibolya tartománytól a látható tartományig. Eközben az ezüst nanorészecskék lerakódása kiváló optikai stabilitást és stabil katódos védelmet biztosít az Ag/NiS/TiO2 nanokompozitnak.
Először egy 0,1 mm vastag, 99,9%-os tisztaságú titánfóliát 30 mm × 10 mm méretűre vágtak a kísérletekhez. Ezután a titánfólia minden egyes felületét 100-szor polírozták 2500-as szemcseméretű csiszolópapírral, majd egymást követően acetonnal, abszolút etanollal és desztillált vízzel mosták. A titánlemezt 85 °C-os (nátrium-hidroxid:nátrium-karbonát:víz = 5:2:100) elegybe helyezték 90 percre, majd kivették és desztillált vízzel leöblítették. A felületet HF-oldattal (HF:H2O = 1:5) maratták 1 percig, majd felváltva acetonnal, etanollal és desztillált vízzel mosták, végül felhasználásra szárították. Titán-dioxid nanohuzalokat készítettek gyorsan titánfólia felületére egylépéses eloxálási eljárással. Az eloxáláshoz egy hagyományos kételektródás rendszert alkalmaztak, a munkaelektróda egy titánlemez, az ellenelektróda pedig egy platinaelektróda. A titánlemezt elektródaszorítókkal 400 ml 2 M NaOH oldatba helyezték. Az egyenáramú tápegység árama stabil, körülbelül 1,3 A. Az oldat hőmérsékletét 80 °C-on tartottuk 180 percig a szisztémás reakció során. A titánlemezt kivettük, acetonnal és etanollal mostuk, majd desztillált vízzel mostuk, és természetes úton megszárítottuk. Ezután a mintákat 450 °C-os kemencébe helyeztük (fűtési sebesség 5 °C/perc), állandó hőmérsékleten tartottuk 120 percig, majd egy szárítótálcára helyeztük.
A nikkel-szulfid-titán-dioxid kompozitot egyszerű és könnyen bemerítéses leválasztási módszerrel állították elő. Először nikkel-nitrátot (0,03 M) oldottak fel etanolban, és mágneses keverés alatt tartották 20 percig, így etanolos nikkel-nitrát oldatot kaptak. Ezután nátrium-szulfidot (0,03 M) készítettek metanol elegyéből (metanol:víz = 1:1). Ezután a titán-dioxid tablettákat a fent elkészített oldatba helyezték, 4 perc elteltével kivették, és gyorsan mosták metanol és víz elegyével (metanol:víz = 1:1) 1 percig. Miután a felület megszáradt, a tablettákat kemencébe helyezték, vákuumban 380 °C-on melegítették 20 percig, szobahőmérsékletre hűtötték és szárították. Ciklusok száma: 2, 4, 6 és 8.
Az ezüst nanorészecskék fotoredukcióval módosították az Ag/NiS/TiO2 nanokompozitokat12,13. A kapott Ag/NiS/TiO2 nanokompozitot a kísérlethez szükséges ezüst-nitrát oldatba helyezték. Ezután a mintákat 30 percig ultraibolya fénnyel besugározták, felületüket ioncserélt vízzel tisztították, és természetes szárítással Ag/NiS/TiO2 nanokompozitokat kaptak. A fent leírt kísérleti folyamatot az 1. ábra mutatja.
Az Ag/NiS/TiO2 nanokompozitokat főként téremissziós pásztázó elektronmikroszkópiával (FESEM), energiadiszperzív spektroszkópiával (EDS), röntgen-fotoelektron spektroszkópiával (XPS), valamint ultraibolya és látható tartományban mért diffúz reflexióval (UV-Vis) jellemezték. A FESEM vizsgálatot Nova NanoSEM 450 mikroszkóppal (FEI Corporation, USA) végezték. Gyorsítófeszültség 1 kV, foltméret 2,0. A készülék CBS szondát használ a másodlagos és visszaszórt elektronok vételére topográfiai elemzéshez. Az EMF vizsgálatot Oxford X-Max N50 EMF rendszerrel (Oxford Instruments Technology Co., Ltd.) végezték, 15 kV gyorsítófeszültséggel és 3,0 foltmérettel. Kvalitatív és kvantitatív elemzés karakterisztikus röntgensugarak segítségével. A röntgen-fotoelektron spektroszkópiát egy Escalab 250Xi spektrométeren (Thermo Fisher Scientific Corporation, USA) végeztük, amely fix energiaszinten működött, 150 W gerjesztőteljesítménnyel és monokromatikus Al Kα sugárzással (1486,6 eV) gerjesztőforrásként. Kötési energia töltéskorrekciós referenciaként 0–1600 eV teljes pásztázási tartományt, 50 eV összenergiát, 1,0 eV lépésközt és szennyezett szenet (~284,8 eV) használtunk. A keskeny pásztázás áteresztő energiája 20 eV volt, 0,05 eV lépésközzel. Az UV-látható tartományban végzett diffúz reflexiós spektroszkópiát Cary 5000 spektrométeren (Varian, USA) végeztük, standard bárium-szulfát lemezzel, 10–80° pásztázási tartományban.
Ebben a munkában a 304-es rozsdamentes acél összetétele (tömegszázalékban) a következő: 0,08 C, 1,86 Mn, 0,72 Si, 0,035 P, 0,029 s, 18,25 Cr, 8,5 Ni, a többi pedig Fe. 10 mm x 10 mm x 10 mm-es 304-es rozsdamentes acél, epoxigyantával kiöntőtt, 1 cm2 szabad felülettel. A felületét 2400-as szemcseméretű szilícium-karbid csiszolópapírral csiszolták meg, majd etanollal mosták le. A rozsdamentes acélt ezután ioncserélt vízben 5 percig ultrahanggal kezelték, majd sütőben tárolták.
Az OCP kísérletben 304-es rozsdamentes acélt és Ag/NiS/TiO2 fotoanódot helyeztek egy korróziós cellába, illetve egy fotoanód cellába (2. ábra). A korróziós cellát 3,5%-os NaCl-oldattal töltötték fel, és 0,25 M Na2SO3-at öntöttek a fotoanód cellába lyukfogóként. A két elektrolitot naftol membránnal választották el a keveréktől. Az OCP-t elektrokémiai munkaállomáson (P4000+, USA) mérték. A referencia elektróda egy telített kalomel elektróda (SCE) volt. Egy fényforrást (xenonlámpa, PLS-SXE300C, Poisson Technologies Co., Ltd.) és egy 420-as határlemezt helyeztek a fényforrás kimenetére, lehetővé téve, hogy a látható fény a kvarcüvegen keresztül a fotoanódhoz jusson. A 304-es rozsdamentes acél elektróda rézhuzallal van csatlakoztatva a fotoanódhoz. A kísérlet előtt a 304-es rozsdamentes acél elektródát 2 órán át 3,5%-os NaCl-oldatban áztatták az állandósult állapot biztosítása érdekében. A kísérlet elején, a fény be- és kikapcsoláskor a fotoanód gerjesztett elektronjai a huzalon keresztül elérik a 304-es rozsdamentes acél felületét.
A fotoáram-sűrűséggel végzett kísérletekben 304SS és Ag/NiS/TiO2 fotoanódokat helyeztek korróziós cellákba, illetve fotoanód cellákba (3. ábra). A fotoáram-sűrűséget ugyanazon a beállításon mérték, mint az OCP-t. A 304-es rozsdamentes acél és a fotoanód közötti tényleges fotoáram-sűrűség meghatározásához egy potenciosztátot használtak nulla ellenállású ampermérőként, amely nem polarizált körülmények között kötötte össze a 304-es rozsdamentes acélt és a fotoanódot. Ehhez a kísérleti beállításban a referencia- és ellenelektródákat rövidre zárták, így az elektrokémiai munkaállomás nulla ellenállású ampermérőként működött, és mérni tudta a valódi áramsűrűséget. A 304-es rozsdamentes acél elektróda az elektrokémiai munkaállomás földeléséhez, a fotoanód pedig a munkaelektróda bilincséhez volt csatlakoztatva. A kísérlet elején, amikor a fényt be- és kikapcsolják, a fotoanód gerjesztett elektronjai a vezetéken keresztül elérik a 304-es rozsdamentes acél felületét. Ekkor megfigyelhető a fotoáram-sűrűség változása a 304-es rozsdamentes acél felületén.
A nanokompozitok 304-es rozsdamentes acélon mutatott katódos védelmi teljesítményének vizsgálatához tesztelték a 304-es rozsdamentes acél és a nanokompozitok fotoionizációs potenciáljának változásait, valamint a nanokompozitok és a 304-es rozsdamentes acélok közötti fotoionizációs áramsűrűség változásait.
A 4. ábra a 304-es rozsdamentes acél és a nanokompozitok nyitott áramköri potenciáljának változását mutatja látható fénybesugárzás és sötét körülmények között. A 4a. ábra a NiS leválasztási idő bemerítés általi hatását mutatja a nyitott áramköri potenciálra, a 4b. ábra pedig az ezüst-nitrát koncentrációjának hatását a nyitott áramköri potenciálra fotoredukció során. A 4a. ábra azt mutatja, hogy a 304-es rozsdamentes acélhoz kötött NiS/TiO2 nanokompozit nyitott áramköri potenciálja jelentősen csökken a lámpa bekapcsolásának pillanatában a nikkel-szulfid kompozithoz képest. Ezenkívül a nyitott áramköri potenciál negatívabb, mint a tiszta TiO2 nanohuzalé, ami azt jelzi, hogy a nikkel-szulfid kompozit több elektront generál, és javítja a TiO2 fotokatódvédő hatását. Az expozíció végén azonban a terhelés nélküli potenciál gyorsan emelkedik a rozsdamentes acél üresjárati potenciáljára, ami azt jelzi, hogy a nikkel-szulfidnak nincs energiatároló hatása. A bemerítési leválasztási ciklusok számának a nyitott áramköri potenciálra gyakorolt ​​hatása a 4a. ábrán megfigyelhető. 6-os leválasztási időnél a nanokompozit szélső potenciálja eléri a -550 mV-ot a telített kalomel elektródhoz képest, és a 6-szoros faktorral lerakódott nanokompozit potenciálja jelentősen alacsonyabb, mint más körülmények között képződött nanokompozité. Így a 6 leválasztási ciklus után kapott NiS/TiO2 nanokompozitok biztosították a legjobb katódos védelmet a 304-es rozsdamentes acél számára.
304-es rozsdamentes acél elektródák OCP-változása NiS/TiO2 nanokompozitokkal (a) és Ag/NiS/TiO2 nanokompozitokkal (b) megvilágítással és anélkül (λ > 400 nm).
Amint a 4b. ábrán látható, a 304-es rozsdamentes acél és az Ag/NiS/TiO2 nanokompozitok nyitott áramköri potenciálja jelentősen csökkent fény hatására. Az ezüst nanorészecskék felületi leválasztása után a nyitott áramköri potenciál jelentősen csökkent a tiszta TiO2 nanohuzalokhoz képest. A NiS/TiO2 nanokompozit potenciálja negatívabb, ami azt jelzi, hogy a TiO2 katódos védőhatása jelentősen javul az Ag nanorészecskék leválasztása után. A nyitott áramköri potenciál gyorsan nőtt a megvilágítás végén, és a telített kalomel elektródához képest a nyitott áramköri potenciál elérhette a -580 mV-ot, ami alacsonyabb, mint a 304-es rozsdamentes acélé (-180 mV). Ez az eredmény azt jelzi, hogy a nanokompozit figyelemre méltó energiatároló hatással rendelkezik, miután ezüstrészecskék rakódnak le a felületére. A 4b. ábra az ezüst-nitrát koncentrációjának a nyitott áramköri potenciálra gyakorolt ​​hatását is mutatja. 0,1 M ezüst-nitrát koncentrációnál a telített kalomel elektródhoz viszonyított határpotenciál eléri a -925 mV-ot. 4 alkalmazási ciklus után a potenciál az első alkalmazás utáni szinten maradt, ami a nanokompozit kiváló stabilitását jelzi. Így 0,1 M ezüst-nitrát koncentrációnál a kapott Ag/NiS/TiO2 nanokompozit a legjobb katódos védőhatással rendelkezik a 304-es rozsdamentes acélon.
A TiO2 nanodrótok felületén a NiS lerakódás fokozatosan javul a NiS lerakódási idő növekedésével. Amikor látható fény éri a nanodrót felületét, több nikkel-szulfid aktív hely gerjesztődik elektronok generálására, és a fotoionizációs potenciál tovább csökken. Amikor azonban a nikkel-szulfid nanorészecskék túlzott mértékben rakódnak le a felületen, a gerjesztett nikkel-szulfid ehelyett redukálódik, ami nem járul hozzá a fényelnyeléshez. Miután az ezüstrészecskék lerakódtak a felületre, az ezüstrészecskék felületi plazmon rezonancia hatása miatt a keletkezett elektronok gyorsan átkerülnek a 304-es rozsdamentes acél felületére, ami kiváló katódos védőhatást eredményez. Amikor túl sok ezüstrészecske rakódik le a felületen, az ezüstrészecskék rekombinációs ponttá válnak a fotoelektronok és lyukak számára, ami nem járul hozzá a fotoelektronok keletkezéséhez. Összefoglalva, az Ag/NiS/TiO2 nanokompozitok biztosítják a legjobb katódos védelmet a 304-es rozsdamentes acél számára, miután 0,1 M ezüst-nitrát alatt 6-szoros nikkel-szulfidot leraktak.
A fotoáram-sűrűség értéke a fotogenerált elektronok és lyukak elválasztó képességét jelenti, és minél nagyobb a fotoáram-sűrűség, annál erősebb a fotogenerált elektronok és lyukak elválasztó ereje. Számos tanulmány kimutatta, hogy a NiS-t széles körben használják fotokatalitikus anyagok szintézisében az anyagok fotoelektromos tulajdonságainak javítására és a lyukak elválasztására15,16,17,18,19,20. Chen és munkatársai nemesfémmentes grafént és NiS-sel együtt módosított g-C3N4 kompozitokat vizsgáltak15. A módosított g-C3N4/0,25%RGO/3%NiS fotoáramának maximális intenzitása 0,018 μA/cm2. Chen és munkatársai CdSe-NiS-t vizsgáltak, amelynek fotoáram-sűrűsége körülbelül 10 µA/cm2.16 Liu és munkatársai egy 15 µA/cm2 fotoáram-sűrűségű CdS@NiS kompozitot szintetizáltak. A NiS fotokatódvédelemre való alkalmazását azonban még nem jelentették. Tanulmányunkban a TiO2 fotoáram-sűrűsége jelentősen megnőtt a NiS módosításával. Az 5. ábra a 304-es rozsdamentes acél és a nanokompozitok fotoáram-sűrűségének változását mutatja látható fényviszonyok között és megvilágítás nélkül. Amint az 5a. ábrán látható, a NiS/TiO2 nanokompozit fotoáram-sűrűsége gyorsan növekszik a fény bekapcsolásának pillanatában, és a fotoáram-sűrűség pozitív, ami az elektronok áramlását jelzi a nanokompozitból a felületre az elektrokémiai munkaállomáson keresztül. 304-es rozsdamentes acél. A nikkel-szulfid kompozitok előállítása után a fotoáram-sűrűség nagyobb, mint a tiszta TiO2 nanohuzalé. A NiS fotoáram-sűrűsége eléri a 220 μA/cm2-t, ami 6,8-szor magasabb, mint a TiO2 nanohuzalé (32 μA/cm2), amikor a NiS-t hatszor merítik és lerakják. Amint az 5a. ábrán látható. Az 5b. ábrán látható, hogy az Ag/NiS/TiO2 nanokompozit és a 304-es rozsdamentes acél közötti fotoáram-sűrűség szignifikánsan magasabb volt, mint a tiszta TiO2 és a NiS/TiO2 nanokompozit között, xenonlámpa alatt bekapcsolva. Az 5b. ábra az AgNO koncentrációjának a fotoáram-sűrűségre gyakorolt ​​hatását is mutatja a fotoredukció során. 0,1 M ezüst-nitrát koncentrációnál a fotoáram-sűrűsége eléri a 410 μA/cm2-t, ami 12,8-szor magasabb, mint a TiO2 nanohuzalé (32 μA/cm2), és 1,8-szor magasabb, mint a NiS/TiO2 nanokompozité. Az Ag/NiS/TiO2 nanokompozit határfelületén egy heteroátmenetes elektromos tér alakul ki, amely elősegíti a fotogenerált elektronok leválasztását a lyukakról.
304-es rozsdamentes acél elektróda fotoáram-sűrűségének változása (a) NiS/TiO2 nanokompozit és (b) Ag/NiS/TiO2 nanokompozit esetén megvilágítással és anélkül (λ > 400 nm).
Így 6 ciklusnyi nikkel-szulfidos bemerítéses leválasztás után 0,1 M tömény ezüst-nitrátban az Ag/NiS/TiO2 nanokompozitok és a 304-es rozsdamentes acél közötti fotoáram-sűrűség eléri a 410 μA/cm2 értéket, ami magasabb, mint a telített kalomel elektródáké, és eléri a -925 mV-ot. Ilyen körülmények között a 304-es rozsdamentes acél Ag/NiS/TiO2-vel kombinálva biztosítja a legjobb katódos védelmet.
A 6. ábra tiszta titán-dioxid nanohuzalok, kompozit nikkel-szulfid nanorészecskék és ezüst nanohuzalok felületi elektronmikroszkópos képeit mutatja optimális körülmények között. A 6a. és 6d. ábra egylépéses eloxálással előállított tiszta TiO2 nanohuzalokat mutat. A titán-dioxid nanohuzalok felületi eloszlása ​​egyenletes, a nanohuzalok szerkezete közel van egymáshoz, és a pórusméret-eloszlás is egyenletes. A 6b. és 6e. ábra a titán-dioxid elektronmikroszkópos képei a nikkel-szulfid kompozitok 6-szoros impregnálása és leválasztása után. A 6e. ábrán látható 200 000-szeresre nagyított elektronmikroszkópos képből látható, hogy a nikkel-szulfid kompozit nanorészecskék viszonylag homogének és nagy, körülbelül 100–120 nm átmérőjű részecskemérettel rendelkeznek. Néhány nanorészecskék megfigyelhetők a nanohuzalok térbeli helyzetében, és a titán-dioxid nanohuzalok jól láthatók. A 6c. és 6f. ábra a NiS/TiO2 nanokompozitok elektronmikroszkópos képeit mutatja 0,1 M AgNO koncentráció mellett. A 6b. és 6e. ábrákhoz képest a ... A 6c. és 6f. ábra azt mutatja, hogy az Ag nanorészecskék egyenletesen oszlanak el a kompozit anyag felületén, körülbelül 10 nm átmérővel. A 7. ábra Ag/NiS/TiO2 nanofilmek keresztmetszetét mutatja, amelyeket 6 ciklus NiS mártással történő leválasztásnak vetettek alá 0,1 M AgNO3 koncentrációban. A nagy nagyítású képek alapján a mért filmvastagság 240-270 nm volt. Így nikkel és ezüst-szulfid nanorészecskék rakódnak le a TiO2 nanohuzalok felületén.
Tiszta TiO2 (a, d), NiS/TiO2 nanokompozitok 6 ciklusos NiS mártásos leválasztással (b, e) és Ag/NiS/NiS 6 ciklusos NiS mártásos leválasztással 0,1 M AgNO3 koncentrációban. TiO2 nanokompozitok pásztázó elektronmikroszkópos (SEM) képei (c, e).
0,1 M AgNO3 koncentrációjú, 6 NiS mártással történő leválasztási ciklusnak alávetett Ag/NiS/TiO2 nanofilmek keresztmetszete.
A 8. ábra az elemek felületi eloszlását mutatja be Ag/NiS/TiO2 nanokompozitok felületén, amelyeket 6 ciklusnyi nikkel-szulfidos mártásos leválasztással kaptunk 0,1 M ezüst-nitrát koncentráció mellett. Az elemek felületi eloszlása ​​azt mutatja, hogy energiaspektroszkópiával Ti, O, Ni, S és Ag volt kimutatható. Tartalmat tekintve a Ti és az O a leggyakoribb elemek az eloszlásban, míg a Ni és az S körülbelül azonos, de tartalmuk jóval alacsonyabb, mint az Ag-é. Az is bizonyítható, hogy a felületi kompozit ezüst nanorészecskék mennyisége nagyobb, mint a nikkel-szulfigé. Az elemek egyenletes eloszlása ​​a felületen azt jelzi, hogy a nikkel és az ezüst-szulfid egyenletesen kötődik a TiO2 nanohuzalok felületéhez. Ezenkívül röntgen-fotoelektron-spektroszkópiai analízist végeztek az anyagok specifikus összetételének és kötési állapotának elemzésére.
Az Ag/NiS/TiO2 nanokompozitok elemeinek (Ti, O, Ni, S és Ag) eloszlása ​​0,1 M AgNO3 koncentrációnál 6 NiS mártásos leválasztási ciklus alatt.
A 9. ábra az Ag/NiS/TiO2 nanokompozitok XPS spektrumát mutatja, melyeket 6 ciklusos nikkel-szulfidos leválasztással, 0,1 M AgNO3-ba merítéssel kaptunk, ahol a 9a. ábra a teljes spektrumot, a spektrumok többi része pedig az elemek nagy felbontású spektruma. Amint a 9a. ábrán látható teljes spektrumból látható, a nanokompozitban Ti, O, Ni, S és Ag abszorpciós csúcsai találhatók, ami bizonyítja ezen öt elem létezését. A vizsgálati eredmények összhangban voltak az EDS-sel. A 9a. ábrán látható többletcsúcs a szén csúcs, amelyet a minta kötési energiájának korrigálására használtak. A 9b. ábra a Ti nagy felbontású energiaspektrumát mutatja. A 2p pályák abszorpciós csúcsai 459,32 és 465 eV-nál helyezkednek el, amelyek a Ti 2p3/2 és Ti 2p1/2 pályák abszorpciójának felelnek meg. Két abszorpciós csúcs bizonyítja, hogy a titán Ti4+ vegyértékkel rendelkezik, ami a TiO2-ban lévő Ti-nak felel meg.
Ag/NiS/TiO2 mérések XPS spektrumai (a) és Ti2p(b), O1s(c), Ni2p(d), S2p(e) és Ag 3d(f) nagy felbontású XPS spektrumai.
A 9d. ábra egy nagy felbontású Ni energiaspektrumot mutat négy abszorpciós csúccsal a Ni 2p pályára. A 856 és 873,5 eV-os abszorpciós csúcsok a Ni 2p3/2 és Ni 2p1/2 8,10 pályáknak felelnek meg, ahol az abszorpciós csúcsok a NiS-hez tartoznak. A 881 és 863 eV-os abszorpciós csúcsok a nikkel-nitráthoz tartoznak, és a nikkel-nitrát reagens okozza őket a minta előkészítése során. A 9e. ábra egy nagy felbontású S-spektrumot mutat. Az S 2p pályák abszorpciós csúcsai 161,5 és 168,1 eV-nál találhatók, amelyek az S 2p3/2 és S 2p1/2 pályáknak (21, 22, 23, 24) felelnek meg. Ez a két csúcs a nikkel-szulfid vegyületekhez tartozik. A 169,2 és 163,4 eV-os abszorpciós csúcsok a nátrium-szulfid reagensé. A 9e. ábra egy nagy felbontású S-spektrumot mutat. Az S 2p pályák abszorpciós csúcsai 161,5 és 168,1 eV-nál találhatók, amelyek az S 2p3/2 és S 2p1/2 pályáknak (21, 22, 23, 24) felelnek meg. Ez a két csúcs a nikkel-szulfid vegyületekhez tartozik. A 169,2 és 163,4 eV-os abszorpciós csúcsok a nátrium-szulfid reagensé. A 9f. ábra egy nagy felbontású Ag spektrumot mutat, amelyben az ezüst 3D orbitális abszorpciós csúcsai rendre 368,2 és 374,5 eV-nál helyezkednek el, és két abszorpciós csúcs az Ag 3d5/2 és Ag 3d3/212,13 abszorpciós pályáinak felel meg. Az ezen a két helyen található csúcsok azt bizonyítják, hogy az ezüst nanorészecskék elemi ezüst állapotban léteznek. Így a nanokompozitok főként Ag-ból, NiS-ből és TiO2-ból állnak, amit röntgenfotoelektron-spektroszkópiával határoztak meg, és igazolták, hogy a nikkel és az ezüst-szulfid nanorészecskék sikeresen kombinálódtak a TiO2 nanohuzalok felületén.
A 10. ábra frissen előállított TiO2 nanodrótok, NiS/TiO2 nanokompozitok és Ag/NiS/TiO2 nanokompozitok UV-VIS diffúz reflexiós spektrumait mutatja. Az ábrán látható, hogy a TiO2 nanodrótok abszorpciós küszöbértéke körülbelül 390 nm, és az elnyelt fény főként az ultraibolya tartományban koncentrálódik. Az ábrán látható, hogy a nikkel és ezüst-szulfid nanorészecskék titán-dioxid nanodrótok 21, 22 felületén történő kombinációja után az elnyelt fény a látható fény tartományába terjed. Ugyanakkor a nanokompozit megnövekedett UV-abszorpcióval rendelkezik, ami a nikkel-szulfid szűk sávszélességével jár. Minél szűkebb a sávszélesség, annál kisebb az elektronikus átmenetek energiagátja, és annál nagyobb a fényhasznosítás mértéke. Miután a NiS/TiO2 felületet ezüst nanorészecskékkel kombinálták, az abszorpciós intenzitás és a fény hullámhossza nem nőtt jelentősen, főként az ezüst nanorészecskék felületén fellépő plazmonrezonancia hatása miatt. A TiO2 nanodrótok abszorpciós hullámhossza nem javul jelentősen a kompozit NiS nanorészecskék szűk sávszélességéhez képest. Összefoglalva, a titán-dioxid nanohuzalok felületén lévő kompozit nikkel-szulfid és ezüst nanorészecskék után a fényelnyelési jellemzői jelentősen javulnak, és a fényelnyelési tartomány az ultraibolya fénytől a látható fényig terjed, ami javítja a titán-dioxid nanohuzalok kihasználtsági arányát, ami javítja az anyag fotoelektrongeneráló képességét.
Friss TiO2 nanodrótok, NiS/TiO2 nanokompozitok és Ag/NiS/TiO2 nanokompozitok UV/Vis diffúz reflexiós spektrumai.
A 11. ábra az Ag/NiS/TiO2 nanokompozitok fotokémiai korrózióállóságának mechanizmusát mutatja látható fény besugárzás alatt. Az ezüst nanorészecskék, a nikkel-szulfid és a titán-dioxid vezetési sávjának potenciáleloszlása ​​alapján javaslatot teszünk a korrózióállóság mechanizmusának egy lehetséges térképére. Mivel a nanoszezüst vezetési sávpotenciálja negatív a nikkel-szulfidhoz képest, és a nikkel-szulfid vezetési sávpotenciálja negatív a titán-dioxidhoz képest, az elektronáramlás iránya nagyjából Ag→NiS→TiO2→304 rozsdamentes acél. Amikor a nanokompozit felületére fényt besugárzunk, a nanoszezüst felületi plazmonrezonanciája miatt a nanoszezüst gyorsan fotogenerált lyukakat és elektronokat generálhat, és a fotogenerált elektronok a gerjesztés hatására gyorsan a vegyértéksáv pozíciójából a vezetési sáv pozíciójába mozognak. Titán-dioxid és nikkel-szulfid. Mivel az ezüst nanorészecskék vezetőképessége negatívabb, mint a nikkel-szulfipé, az ezüst nanorészecskék TS-ében lévő elektronok gyorsan nikkel-szulfid TS-sé alakulnak. A nikkel-szulfid vezetési potenciálja negatívabb, mint a titán-dioxidé, így a nikkel-szulfid elektronjai és az ezüst vezetőképessége gyorsan felhalmozódik a titán-dioxid CB-jében. A keletkezett fotogenerált elektronok a titán mátrixon keresztül érik el a 304 rozsdamentes acél felületét, és a dúsított elektronok részt vesznek a 304 rozsdamentes acél katódos oxigénredukciós folyamatában. Ez a folyamat csökkenti a katódos reakciót, és egyidejűleg elnyomja a 304 rozsdamentes acél anódos oldódási reakcióját, ezáltal megvalósítva a 304 rozsdamentes acél katódos védelmét. Az Ag/NiS/TiO2 nanokompozitban lévő heteroátmenet elektromos mezőjének kialakulása miatt a nanokompozit vezetési potenciálja negatívabb helyzetbe tolódik, ami hatékonyabban javítja a 304 rozsdamentes acél katódos védőhatását.
Az Ag/NiS/TiO2 nanokompozitok fotoelektrokémiai korróziógátló folyamatának vázlatos rajza látható fényben.
Ebben a munkában nikkel- és ezüst-szulfid nanorészecskéket szintetizáltak TiO2 nanohuzalok felületén egyszerű immerziós és fotoredukciós módszerrel. Egy sor tanulmányt végeztek az Ag/NiS/TiO2 nanokompozitok katódos védelméről 304-es rozsdamentes acélon. A morfológiai jellemzők, az összetétel elemzése és a fényelnyelési jellemzők elemzése alapján a következő főbb következtetésekre jutottak:
A nikkel-szulfid 6-os impregnálás-leválasztási ciklusszámával és 0,1 mol/l fotoredukciós ezüst-nitrát koncentrációval kapott Ag/NiS/TiO2 nanokompozitok jobb katódos védőhatást mutattak a 304-es rozsdamentes acélon. A telített kalomel elektródához képest a védőpotenciál elérte a -925 mV-ot, a védőáram pedig a 410 μA/cm2-t.
Az Ag/NiS/TiO2 nanokompozit határfelületén heteroátmenetes elektromos tér alakul ki, amely javítja a fotogenerált elektronok és lyukak elválasztási képességét. Ugyanakkor a fényhasznosítás hatékonysága is megnő, és a fényelnyelési tartomány az ultraibolya tartománytól a látható tartományig terjed. A nanokompozit 4 ciklus után is megőrzi eredeti állapotát jó stabilitással.
A kísérletileg előállított Ag/NiS/TiO2 nanokompozitok egyenletes és sűrű felülettel rendelkeznek. A nikkel-szulfid és az ezüst nanorészecskék egyenletesen vannak elrendezve a TiO2 nanohuzalok felületén. A kompozit kobaltferrit és ezüst nanorészecskék nagy tisztaságúak.
Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF és Shen, JN TiO2 filmek fotokatódos védőhatása szénacélon 3%-os NaCl oldatban. Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF és Shen, JN TiO2 filmek fotokatódos védőhatása szénacélon 3%-os NaCl oldatban. Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF & Shen, JN Эффект фотокатодной защиты пленок TiO2 для углеродистой стали в 3% растворах NaCl. Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF és Shen, JN TiO2 filmek fotokatódvédő hatása szénacél esetén 3%-os NaCl oldatban. Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF és Shen, JN TiO2 薄膜在3% NaCl 溶液中对碳钢的光阴极保护效果。 Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF és Shen, JN TiO2 薄膜在3% NaCl 溶液中对碳钢的光阴极保护效果。 Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF & Shen, JN Фотокатодная защита углеродистой стали тонкими пленками TiO2 в 3% растворе NaCl. Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF és Shen, JN Szénacél fotokatódos védelme TiO2 vékonyrétegekkel 3%-os NaCl oldatban.Elektrokémia. Acta 50, 3401–3406 (2005).
Li, J., Lin, CJ, Lai, YK és Du, RG Virágszerű, nanoszerkezetű, nitrogénnel adalékolt TiO2 film fotogenerált katódos védelme rozsdamentes acélon. Li, J., Lin, CJ, Lai, YK és Du, RG Virágszerű, nanoszerkezetű, nitrogénnel adalékolt TiO2 film fotogenerált katódos védelme rozsdamentes acélon.Lee, J., Lin, SJ, Lai, YK és Du, RG. Fotogenerált katódos védelem egy nanoszerkezetű, nitrogénnel adalékolt TiO2 filmen virág formájában rozsdamentes acélon. Li, J., Lin, CJ, Lai, YK & Du, RG 花状纳米结构N 掺杂TiO2 薄膜在不锈钢上的光生阴极保护。 Li, J., Lin, CJ, Lai, YK & Du, RG.Lee, J., Lin, SJ, Lai, YK és Du, RG Nitrogénnel adalékolt, virág alakú nanoszerkezetű TiO2 vékonyrétegek fotogenerált katódos védelme rozsdamentes acélon.Szörfözés Egy kabát. Technology 205, 557–564 (2010).
Zhou, MJ, Zeng, ZO és Zhong, L. Nanoméretű TiO2/WO3 bevonat fotogenerált katódvédelmi tulajdonságai. Zhou, MJ, Zeng, ZO és Zhong, L. Nanoméretű TiO2/WO3 bevonat fotogenerált katódvédelmi tulajdonságai.Zhou, MJ, Zeng, ZO és Zhong, L. TiO2/WO3 nanoskálájú bevonat fotogenerált katódos védő tulajdonságai. Zhou, MJ, Zeng, ZO & Zhong, L. 纳米TiO2/WO3 涂层的光生阴极保护性能. Zhou, MJ, Zeng, ZO & Zhong, L. 纳米TiO2/WO3 涂层的光生阴极保护性能.Zhou MJ, Zeng ZO és Zhong L. Nano-TiO2/WO3 bevonatok fotogenerált katódos védő tulajdonságai.Koros. A tudomány. 51, 1386–1397 (2009).
Park, H., Kim, KY és Choi, W. Fotoelektrokémiai megközelítés fémkorrózió megelőzésére félvezető fotoanód használatával. Park, H., Kim, KY és Choi, W. Fotoelektrokémiai megközelítés fémkorrózió megelőzésére félvezető fotoanód használatával.Park, H., Kim, K.Yu. és Choi, V. Fotoelektrokémiai megközelítés a fémek korrózióvédelmére félvezető fotoanód használatával. Park, H., Kim, KY & Choi, W. 使用半导体光阳极防止金属腐蚀的光电化学方法. Park, H., Kim, KY és Choi, W.Park H., Kim K.Yu. és Choi V. Fotoelektrokémiai módszerek fémek korróziójának megelőzésére félvezető fotoanódok használatával.J. Physics. Chemical. 106. kötet, 4775–4781 (2002).
Shen, GX, Chen, YC, Lin, L., Lin, CJ és Scantlebury, D. Tanulmány egy hidrofób nano-TiO2 bevonatról és tulajdonságairól fémek korrózióvédelmében. Shen, GX, Chen, YC, Lin, L., Lin, CJ és Scantlebury, D. Tanulmány egy hidrofób nano-TiO2 bevonatról és tulajdonságairól fémek korrózióvédelmében. Shen, GX, Chen, YC, Lin, L., Lin, CJ és Scantlebury, D. коррозии. Shen, GX, Chen, YC, Lin, L., Lin, CJ és Scantlebury, D. Hidrofób nano-TiO2 bevonat vizsgálata és tulajdonságai fémek korrózióvédelmében. Shen, GX, Chen, YC, Lin, L., Lin, CJ és Scantlebury, D. 疏水纳米二氧化钛涂层及其金属腐蚀防护性能綄砂 Shen, GX, Chen, YC, Lin, L., Lin, CJ és Scantlebury, D. A 疵水 nano-titán-dioxid bevonat és fémkorrózióvédelmi tulajdonságainak vizsgálata. Shen, GX, Chen, YC, Lin, L., Lin, CJ & Scantlebury, D. Гидрофобные покрытия из нано-TiO2 és их свойства защиты металлов от. Shen, GX, Chen, YC, Lin, L., Lin, CJ és Scantlebury, D. Nano-TiO2 hidrofób bevonatok és korrózióvédő tulajdonságaik fémeken.Elektrokémia. Acta 50, 5083–5089 (2005).
Yun, H., Li, J., Chen, HB és Lin, CJ Tanulmány a rozsdamentes acél korrózióvédelmére szolgáló N, S és Cl-módosított nano-TiO2 bevonatokról. Yun, H., Li, J., Chen, HB és Lin, CJ Tanulmány a rozsdamentes acél korrózióvédelmére szolgáló N, S és Cl-módosított nano-TiO2 bevonatokról.Yun, H., Li, J., Chen, HB és Lin, SJ Nitrogénnel, kénnel és klórral módosított nano-TiO2 bevonatok vizsgálata rozsdamentes acél korrózióvédelmére. Yun, H., Li, J., Chen, HB & Lin, CJ N、S 和Cl 改性纳米二氧化钛涂层用于不锈钢腐蚀防护綄研 Yun, H., Li, J., Chen, HB és Lin, CJ N, S és Cl Yun, H., Li, J., Chen, HB & Lin, CJ Покрытия N, S и Cl, модифицированные нано-TiO2, для защиты от коррозии нержай. Yun, H., Li, J., Chen, HB és Lin, CJ Nano-TiO2 módosított N, S és Cl bevonatok rozsdamentes acél korrózióvédelmére.Elektrokémia. 52. kötet, 6679–6685 (2007).
Zhu, YF, Du, RG, Chen, W., Qi, HQ és Lin, CJ Kombinált szol-gél és hidrotermikus módszerrel előállított háromdimenziós titanát nanohuzal hálózati filmek fotokatódos védelmi tulajdonságai. Zhu, YF, Du, RG, Chen, W., Qi, HQ és Lin, CJ Kombinált szol-gél és hidrotermikus módszerrel előállított háromdimenziós titanát nanohuzal hálózati filmek fotokatódos védelmi tulajdonságai. Zhu, YF, Du, RG, Chen, W., Qi, HQ & Lin, CJ Фотокатодные защитные свойства трехмерных сетчатых пленок титанатных приготовленных комбинированным золь-гель и гидротермическим методом. Zhu, YF, Du, RG, Chen, W., Qi, HQ és Lin, CJ Kombinált szol-gél és hidrotermikus módszerrel előállított titanát nanohuzalok háromdimenziós hálófilmjeinek fotokatódos védő tulajdonságai. Zhu, YF, Du, RG, Chen, W., Qi, HQ és Lin, CJ溶胶-凝胶和水热法制备三维钛酸盐纳米线网络薄膜的光阴极保护性能. Zhu, YF, Du, RG, Chen, W., Qi, HQ és Lin, CJ. A 消铺-铲和水热法发气小水小水化用线线电视电器电影电影电影电影电影电影电 védő tulajdonságai. Zhu, YF, Du, RG, Chen, W., Qi, HQ & Lin, CJ. приготовленных золь-гель и гидротермическими методами. Zhu, YF, Du, RG, Chen, W., Qi, HQ és Lin, CJ: Szol-gél és hidrotermikus módszerekkel előállított háromdimenziós titanát nanohuzal hálózat vékonyrétegeinek fotokatódos védelmi tulajdonságai.Elektrokémia. communicate 12, 1626–1629 (2010).
Lee, JH, Kim, SI, Park, SM és Kang, M. Egy pn heteroátmenetes NiS-szenzibilizált TiO2 fotokatalitikus rendszer a szén-dioxid metánná történő hatékony fotoredukciójához. Lee, JH, Kim, SI, Park, SM és Kang, M. Egy pn heteroátmenetes NiS-szenzibilizált TiO2 fotokatalitikus rendszer a szén-dioxid metánná történő hatékony fotoredukciójához.Lee, JH, Kim, SI, Park, SM és Kang, M. Egy pn-heteroátmenetű NiS szenzibilizált TiO2 fotokatalitikus rendszer a szén-dioxid metánná történő hatékony fotoredukciójához. Lee, JH, Kim, SI, Park, SM & Kang, M. 一种pn 异质结NiS 敏化TiO2光催化系统，用于将二氧化碳高效光还原为甲烷. Lee, JH, Kim, SI, Park, SM és Kang, M.Lee, JH, Kim, SI, Park, SM és Kang, M. Egy pn-heteroátmenetű NiS szenzibilizált TiO2 fotokatalitikus rendszer a szén-dioxid metánná történő hatékony fotoredukciójához.kerámia. Értelmezés. 43, 1768–1774 (2017).
Wang, QZ és munkatársai. A CuS és a NiS kokatalizátorként működnek a TiO2-n történő fotokatalitikus hidrogénfejlődés fokozásában. Értelmezés. J.Hydro. Energy 39, 13421–13428 (2014).
Liu, Y. és Tang, C. A fotokatalitikus H2-fejlődés fokozása TiO2 nano-rétegek felett NiS nanorészecskék felületi feltöltésével. Liu, Y. és Tang, C. A fotokatalitikus H2-fejlődés fokozása TiO2 nano-rétegek felett NiS nanorészecskék felületi feltöltésével.Liu, Y. és Tang, K. A fotokatalitikus H2-felszabadulás fokozása TiO2 nanosíkos filmekben NiS nanorészecskék felületi betöltésével. Liu, Y. & Tang, C. 通过表面负载NiS 纳米颗粒增强TiO2 纳米片薄膜上的光催化产氢。 Liu, Y. és Tang, C.Liu, Y. és Tang, K. Javított fotokatalitikus hidrogéntermelés TiO2 nanoszálak vékony rétegein NiS nanorészecskék felületre történő leválasztásával.las. J. Physics. Chemical. A 90, 1042–1048 (2016).
Huang, XW és Liu, ZJ Anodizálással és kémiai oxidációs módszerekkel előállított Ti-O alapú nanohuzal filmek szerkezetének és tulajdonságainak összehasonlító vizsgálata. Huang, XW és Liu, ZJ Anodizálással és kémiai oxidációs módszerekkel előállított Ti-O alapú nanohuzal filmek szerkezetének és tulajdonságainak összehasonlító vizsgálata. Huang, XW és Liu, ZJ Сравнительное исследование структуры и свойств пленок нанопроводов на основе Ti-O, полученных менияда химического окисления. Huang, XW és Liu, ZJ Eloxálással és kémiai oxidációs módszerekkel előállított Ti-O nanohuzal filmek szerkezetének és tulajdonságainak összehasonlító vizsgálata. Huang, XW és Liu, ZJ 阳极氧化法和化学氧化法制备的Ti-O 基纳米线薄膜结构和性胔辄悌性胔辄悁 Huang, XW & Liu, ZJ 阳极oxidation法和kémiai oxidáció法preparation的Ti-O基基基小线thin film structure, property 的összehasonlító kutatás. Huang, XW & Liu, ZJ Сравнительное исследование структуры и свойств тонких пленок из нанопроволоки на оснопроволоки на оснопроволоки на основамнове Ti-O, получе химическим окислением. Huang, XW és Liu, ZJ Eloxálással és kémiai oxidációval előállított Ti-O nanodrót vékonyrétegek szerkezetének és tulajdonságainak összehasonlító vizsgálata.J. Alma Mater. Tudomány és technológia 30, 878–883 (2014).
Li, H., Wang, XT, Liu, Y. és Hou, BR Ag és SnO2 együttesen szenzibilizált TiO2 fotoanódok 304SS védelmére látható fény alatt. Li, H., Wang, XT, Liu, Y. és Hou, BR Ag és SnO2 együttesen szenzibilizált TiO2 fotoanódok 304SS védelmére látható fény alatt. Li, H., Wang, XT, Liu, Y. & Hou, BR Ag и SnO2 совместно сенсибилизировали фотоаноды TiO2 для защиты 304SS в видимом светем. Li, H., Wang, XT, Liu, Y. és Hou, BR Ag és SnO2 koszenzibilizált TiO2 fotoanódokat alkalmaztak a 304SS látható fényben való védelmére. Li, H., Wang, XT, Liu, Y. & Hou, BR Ag 和SnO2 共敏化TiO2 光阳极，用于在可见光下保护304SS. Li, H., Wang, XT, Liu, Y. és Hou, BR Ag Li, H., Wang, XT, Liu, Y. & Hou, BR Фотоанод TiO2, совместно сенсибилизированный Ag и SnO2, для защиты 304SS в висветем. Li, H., Wang, XT, Liu, Y. és Hou, BR. Ag-vel és SnO2-vel együtt érzékenyített TiO2 fotoanód a 304SS látható fény elleni árnyékolásához.Koros. A tudomány. 82., 145–153. (2014).
Wen, ZH, Wang, N., Wang, J. és Hou, BR Ag és CoFe2O4 együttesen szenzibilizált TiO2 nanodrót 304-es SS fotokatódos védelmére látható fény alatt. Wen, ZH, Wang, N., Wang, J. és Hou, BR Ag és CoFe2O4 együttesen szenzibilizált TiO2 nanodrót 304-es SS fotokatódos védelmére látható fény alatt.Wen, ZH, Wang, N., Wang, J. és Howe, BR Ag és CoFe2O4 együttes szenzibilizálása TiO2 nanodróttal 304 SS fotokatóddal látható fényben történő védelem érdekében. Wen, ZH, Wang, N., Wang, J. & Hou, BR Ag 和CoFe2O4 共敏化TiO2 纳米线，用于在可见光下抌夞 进股抴夞 进迡对304 SS Wen, ZH, Wang, N., Wang, J. & Hou, BR AgWen, ZH, Wang, N., Wang, J. és Howe, BR Ag és CoFe2O4 együttesen szenzibilizált TiO2 nanohuzalok 304 SS fotokatódos védelemhez látható fényben.Értelmezés. J. Electrochemistry. The Science. 13, 752–761 (2018).
Bu, YY és Ao, JP Áttekintés a fémek fotoelektrokémiai katódos védelmét szolgáló félvezető vékonyrétegekről. Bu, YY és Ao, JP Áttekintés a fémek félvezető vékonyrétegeinek fotoelektrokémiai katódos védelméről. Bu, YY & Ao, JP Обзор фотоэлектрохимической катодной защиты тонких полупроводниковых пленок для металлов. Bu, YY és Ao, JP: Félvezető vékonyrétegek fotoelektrokémiai katódos védelmének áttekintése fémek esetében. Bu, YY & Ao, JP 金属光电化学阴极保护半导体薄膜综述. Bu, YY & Ao, JP fémezés 光电视光阴极电影电影电影电视设计. Bu, YY & Ao, JP Обзор металлической фотоэлектрохимической катодной защиты тонких полупроводниковых пленок. Bu, YY és Ao, JP. Áttekintés a vékony félvezető filmek fémes fotoelektrokémiai katódos védelméről.Zöld energiakörnyezet. 2, 331–362 (2017).