Nature.com сайтына киргениңиз үчүн рахмат. Сиз колдонуп жаткан браузердин версиясында CSS колдоосу чектелүү. Эң жакшы тажрыйба алуу үчүн, жаңыртылган браузерди колдонууну сунуштайбыз (же Internet Explorerде шайкештик режимин өчүрүңүз). Ошол эле учурда, үзгүлтүксүз колдоону камсыз кылуу үчүн, биз сайтты стилдерсиз жана JavaScriptсиз көрсөтөбүз.
TiO2 – фотоэлектрдик конверсия үчүн колдонулган жарым өткөргүч материал. Жарыкты колдонууну жакшыртуу үчүн, TiO2 нанозумдарынын бетинде жөнөкөй чөмүлтүү жана фотокалыбына келтирүү ыкмасы менен никель жана күмүш сульфид нанобөлүкчөлөрү синтезделген. Ag/NiS/TiO2 нанокомпозиттеринин 304 дат баспас болотко катоддук коргоочу таасирин изилдөө боюнча бир катар изилдөөлөр жүргүзүлдү жана материалдардын морфологиясы, курамы жана жарыкты сиңирүү мүнөздөмөлөрү толукталды. Жыйынтыктар көрсөткөндөй, даярдалган Ag/NiS/TiO2 нанокомпозиттери никель сульфидинин сиңирүү-чөкмө циклдеринин саны 6 жана күмүш нитратынын фотокалыбына келтирүү концентрациясы 0,1 М болгондо 304 дат баспас болот үчүн эң жакшы катоддук коргоону камсыздай алат.
Акыркы жылдары күн нурун колдонуу менен фотокатодду коргоо үчүн n-типтеги жарым өткөргүчтөрдү колдонуу актуалдуу темага айланды. Күн нуру менен дүүлүккөндө, жарым өткөргүч материалдын валенттик зонасынан (VB) электрондор фотогенерацияланган электрондорду пайда кылуу үчүн өткөргүч зонага (CB) дүүлүктүрүлөт. Эгерде жарым өткөргүчтүн же нанокомпозиттин өткөргүч зонасынын потенциалы байланышкан металлдын өзүн-өзү оюу потенциалына караганда терс болсо, анда бул фотогенерацияланган электрондор байланышкан металлдын бетине өтөт. Электрондордун топтолушу металлдын катоддук поляризациясына алып келет жана байланышкан металлдын катоддук коргоосун камсыз кылат1,2,3,4,5,6,7. Жарым өткөргүч материал теориялык жактан курмандыкка чалынбаган фотоанод деп эсептелет, анткени аноддук реакция жарым өткөргүч материалдын өзүн эмес, фотогенерацияланган тешиктер же адсорбцияланган органикалык булгоочу заттар аркылуу суунун кычкылдануусун же фотогенерацияланган тешиктерди кармоо үчүн коллекторлордун болушун бузат. Эң негизгиси, жарым өткөргүч материал корголуп жаткан металлдын коррозия потенциалына караганда терс CB потенциалына ээ болушу керек. Ошондо гана фотогенерацияланган электрондор жарым өткөргүчтүн өткөргүч тилкесинен корголгон металлга өтө алышат. Фотохимиялык коррозияга туруктуулук боюнча изилдөөлөр жарыктын жеткиликтүүлүгүн азайтуучу, кең тилкелүү аралыктары (3.0–3.2EV)1,2,3,4,5,6,7 болгон органикалык эмес n-типтеги жарым өткөргүч материалдарга багытталган, алар ультрафиолет нурларына гана жооп берет (<400 нм). Фотохимиялык коррозияга туруктуулук боюнча изилдөөлөр жарыктын жеткиликтүүлүгүн азайтуучу, кең тилкелүү аралыктары (3.0–3.2EV)1,2,3,4,5,6,7 болгон органикалык эмес n-типтеги жарым өткөргүч материалдарга багытталган, алар ультрафиолет нурларына гана жооп берет (<400 нм). Исследования стойкости к фотохимической коррупционерлер менен сосредоточены на неорганических полупроводниковых материалдарах n-tipa с широкой запрещенной зоной (3,0-3,2 EV)1,2,3,4,5,6,7, которые реагируют на 40 нм), уменьшение доступности света. Фотохимиялык коррозияга туруктуулук боюнча изилдөөлөр жарыктын жеткиликтүүлүгүн азайткан, ультрафиолет нурлануусуна гана жооп берген (< 400 нм) кең тилкелүү (3.0–3.2 ЭВ)1,2,3,4,5,6,7 n-типтеги органикалык эмес жарым өткөргүч материалдарга багытталган.光化学耐腐蚀性研究主要集中在具有宽带隙(3.0–3.2EV)1,2,3,4,5,6,7 的无机n型半导体材料上，这些材料仅对紫外光（< 400 nm）有响应，减少光的可。用光 化学 耐腐 蚀性 研究 主要 在 具有 宽带隙 宽带隙 宽带隙 (3.0–3.2ev) 1.5, 6, 机 1.2, 6, 机n 型 材料 上 ， 这些 材料 仅 对 （<400 nm） 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有有 有 有响应，减少光的可用性。 Исследования стойкости к фотохимической иш-чаралардын негизги бөлүгүндө сосредоточены на неорганических полупроводниковыковых материалдарга n-tipa с широкой запрещенной зоной (3,0–3,2EV)1,2,3,4,5,6,7, которые чв400 нм). Фотохимиялык коррозияга туруктуулук боюнча изилдөөлөр негизинен ультрафиолет нурлануусуна гана сезгич (<400 нм) болгон кең тилкелүү тилкеге ​​(3.0–3.2EV)1,2,3,4,5,6,7 n-типтеги органикалык эмес жарым өткөргүч материалдарга багытталган.Натыйжада, жарыктын жеткиликтүүлүгү азаят.
Деңиз коррозиясынан коргоо жаатында фотоэлектрохимиялык катоддук коргоо технологиясы негизги ролду ойнойт. TiO2 - ультрафиолет нурларын эң сонун сиңирүүчү жана фотокаталитикалык касиеттерге ээ жарым өткөргүч материал. Бирок, жарыкты колдонуунун төмөн ылдамдыгынан улам, фотогенерацияланган электрондук тешиктер оңой рекомбинацияланат жана караңгы шарттарда корголбойт. Акылга сыярлык жана ишке ашырууга мүмкүн болгон чечимди табуу үчүн андан ары изилдөө жүргүзүү керек. TiO2нин фотосезгичтигин жакшыртуу үчүн көптөгөн беттик модификация ыкмаларын колдонсо болот, мисалы, Fe, N менен легирлөө жана Ni3S2, Bi2Se3, CdTe ж.б. менен аралаштыруу. Ошондуктан, фотоэлектрдик конверсиянын жогорку эффективдүүлүгүнө ээ материалдар менен TiO2 композити фотогенерацияланган катоддук коргоо жаатында кеңири колдонулат.
Никель сульфиди - бул 1,24 эВ8,9 гана кууш тилкелүү аралыгы бар жарым өткөргүч материал. Титан диоксидинин бети канчалык кууш болсо, жарык ошончолук күчтүү колдонулат. Никель сульфидин титан диоксидинин бети менен аралаштыргандан кийин, жарыкты пайдалануу даражасын жогорулатууга болот. Титан диоксиди менен айкалыштырып, ал фотогенерацияланган электрондордун жана тешиктердин бөлүү эффективдүүлүгүн натыйжалуу жакшырта алат. Никель сульфиди электрокаталитикалык суутек өндүрүүдө, батареяларда жана булгоочу заттардын ажыроосунда кеңири колдонулат8,9,10. Бирок, аны фотокатоддон коргоодо колдонуу жөнүндө азырынча кабарлана элек. Бул изилдөөдө TiO2 жарыкты пайдалануу эффективдүүлүгүнүн төмөндүгү көйгөйүн чечүү үчүн кууш тилкелүү жарым өткөргүч материал тандалып алынган. Никель жана күмүш сульфид нанобөлүкчөлөрү TiO2 нанозумдарынын бетине иммерсия жана фотокалыбына келтирүү ыкмалары менен байланган. Ag/NiS/TiO2 нанокомпозити жарыкты пайдалануу эффективдүүлүгүн жакшыртат жана жарыкты ультрафиолет аймагынан көрүнгөн аймакка чейин жутуу диапазонун кеңейтет. Ошол эле учурда, күмүш нанобөлүкчөлөрүн чөктүрүү Ag/NiS/TiO2 нанокомпозитине эң сонун оптикалык туруктуулукту жана туруктуу катоддук коргоону берет.
Алгач, эксперименттер үчүн 99,9% тазалыгы бар 0,1 мм калыңдыктагы титан фольгасы 30 мм × 10 мм өлчөмүнө чейин кесилген. Андан кийин титан фольгасынын ар бир бети 2500 дандуу кум кагаз менен 100 жолу жылмаланган, андан кийин ацетон, абсолюттук этанол жана дистилденген суу менен удаалаш жуулган. Титан пластинкасын 85 °C (натрий гидроксиди: натрий карбонаты: суу = 5:2:100) аралашмасына 90 мүнөт салып, алып, дистилденген суу менен чайкаңыз. Бети HF эритмеси (HF:H2O = 1:5) менен 1 мүнөт оюп, андан кийин ацетон, этанол жана дистилденген суу менен кезектешип жуулуп, акырында колдонуу үчүн кургатылган. Титан диоксидинин нано зымдары титан фольгасынын бетинде бир баскычтуу аноддоо процесси менен тездик менен жасалган. Аноддоо үчүн салттуу эки электроддуу система колдонулат, жумушчу электрод титан барак, ал эми каршы электрод платина электроду болуп саналат. Титан пластинасын электрод кыскычтары менен 400 мл 2 М NaOH эритмесине салыңыз. Туруктуу токтун тогу болжол менен 1,3 А деңгээлинде туруктуу. Системалык реакция учурунда эритменин температурасы 180 мүнөт бою 80°C температурада кармалып турду. Титан барак алынып, ацетон жана этанол менен жуулуп, дистилденген суу менен жуулуп, табигый жол менен кургатылган. Андан кийин үлгүлөр 450°C температурадагы муфель мешине салынып (ысытуу ылдамдыгы 5°C/мүн), 120 мүнөт туруктуу температурада кармалып, кургаткыч табакчага салынды.
Никель сульфиди-титан диоксидинин композити жөнөкөй жана оңой чөктүрүү ыкмасы менен алынган. Алгач, никель нитраты (0,03 М) этанолдо эритип, никель нитратынын этанол эритмесин алуу үчүн 20 мүнөт магниттик аралаштыруу астында кармалган. Андан кийин метанолдун аралаш эритмеси (метанол:суу = 1:1) менен натрий сульфидин (0,03 М) даярдашкан. Андан кийин, титан диоксидинин таблеткалары жогоруда даярдалган эритмеге салынып, 4 мүнөттөн кийин алынып, метанол менен суунун аралаш эритмеси (метанол:суу = 1:1) менен 1 мүнөт тез жуулган. Бети кургагандан кийин, таблеткалар муфель мешине салынып, 380°C температурада 20 мүнөт вакуумда ысытылып, бөлмө температурасына чейин муздатылган жана кургатылган. Циклдердин саны 2, 4, 6 жана 8.
Фоторедукция жолу менен модификацияланган Ag нанобөлүкчөлөрү12,13. Алынган Ag/NiS/TiO2 нанокомпозити эксперимент үчүн зарыл болгон күмүш нитратынын эритмесине салынган. Андан кийин үлгүлөр 30 мүнөт ультрафиолет нуру менен нурландырылган, алардын беттери деиондоштурулган суу менен тазаланган жана Ag/NiS/TiO2 нанокомпозиттери табигый кургатуу жолу менен алынган. Жогоруда сүрөттөлгөн эксперименталдык процесс 1-сүрөттө көрсөтүлгөн.
Ag/NiS/TiO2 нанокомпозиттери негизинен талаа эмиссиясын сканерлөөчү электрондук микроскопия (FESEM), энергияны дисперсиялык спектроскопия (EDS), рентген фотоэлектрондук спектроскопиясы (XPS) жана ультрафиолет жана көрүнүүчү диапазондордо диффузиялык чагылуу (UV-Vis) менен мүнөздөлгөн. FESEM Nova NanoSEM 450 микроскобу (FEI Corporation, АКШ) колдонулуп жүргүзүлдү. Ылдамдаткыч чыңалуу 1 кВ, тактын өлчөмү 2.0. Түзмөк топографиялык анализ үчүн экинчилик жана чачыраган электрондорду алуу үчүн CBS зондун колдонот. ЭКК 15 кВ ылдамдаткыч чыңалуу жана тактын өлчөмү 3.0 болгон Oxford X-Max N50 ЭКК системасын (Oxford Instruments Technology Co., Ltd.) колдонуу менен жүргүзүлдү. Мүнөздүү рентген нурларын колдонуу менен сапаттык жана сандык анализ. Рентген фотоэлектрондук спектроскопиясы козгоо күчү 150 Вт жана козгоо булагы катары монохроматтык Al Kα нурлануусу (1486,6 эВ) менен туруктуу энергия режиминде иштеген Escalab 250Xi спектрометринде (Thermo Fisher Scientific Corporation, АКШ) жүргүзүлдү. Байланыш энергиясынын зарядын коррекциялоочу шилтемелер катары толук сканерлөө диапазону 0–1600 эВ, жалпы энергиясы 50 эВ, кадамдын туурасы 1,0 эВ жана таза эмес көмүртек (~284,8 эВ) колдонулган. Кууш сканерлөө үчүн өткөрүү энергиясы 0,05 эВ кадам менен 20 эВ түзгөн. Ультрафиолет көрүнгөн аймактагы диффузиялык чагылдыруу спектроскопиясы 10–80° сканерлөө диапазонунда стандарттуу барий сульфаты пластинасы бар Cary 5000 спектрометринде (Varian, АКШ) жүргүзүлдү.
Бул иште 304 дат баспас болоттун курамы (салмактык пайызы) 0,08 C, 1,86 Mn, 0,72 Si, 0,035 P, 0,029 s, 18,25 Cr, 8,5 Ni, ал эми калганы Fe. 10мм x 10мм x 10мм 304 дат баспас болоттон жасалган, эпоксиддик чайыр менен идишке куюлган, бети 1 см2 ачык. Анын бети 2400 гранаттуу кремний карбидинин кум кагазы менен жылмаланып, этанол менен жуулган. Андан кийин дат баспас болот деиондоштурулган сууда 5 мүнөт ультраүн менен иштетилип, андан кийин меште сакталган.
OCP экспериментинде 304 дат баспас болоттон жасалган жана Ag/NiS/TiO2 фотоаноду тиешелүүлүгүнө жараша коррозия клеткасына жана фотоанод клеткасына жайгаштырылган (2-сүрөт). Коррозия клеткасы 3,5% NaCl эритмеси менен толтурулган жана 0,25 M Na2SO3 фотоанод клеткасына тешик тузак катары куюлган. Эки электролит аралашмадан нафтол мембранасын колдонуп бөлүнгөн. OCP электрохимиялык жумуш станциясында (P4000+, АКШ) өлчөнгөн. Салыштырма электрод каныккан каломель электроду (SCE) болгон. Жарык булагынын чыгышына жарык булагы (ксенон лампасы, PLS-SXE300C, Poisson Technologies Co., Ltd.) жана кесүүчү пластина 420 коюлган, бул көрүнгөн жарыктын кварц айнеги аркылуу фотоанодго өтүшүнө мүмкүндүк берген. 304 дат баспас болоттон жасалган электрод фотоанодго жез зым менен туташтырылган. Эксперименттин алдында, туруктуу абалды камсыз кылуу үчүн 304 дат баспас болоттон жасалган электрод 2 саат бою 3,5% NaCl эритмесине чыланган. Эксперименттин башында, жарык күйгүзүлүп жана өчүрүлгөндө, фотоаноддун дүүлүккөн электрондору зым аркылуу 304 дат баспас болоттон жасалган бетине жетет.
Фототоктун тыгыздыгы боюнча эксперименттерде 304SS жана Ag/NiS/TiO2 фотоаноддору тиешелүүлүгүнө жараша коррозия клеткаларына жана фотоанод клеткаларына жайгаштырылган (3-сүрөт). Фототоктун тыгыздыгы OCP менен бир эле түзүлүштө өлчөнгөн. 304 дат баспас болот менен фотоаноддун ортосундагы чыныгы фототоктун тыгыздыгын алуу үчүн, поляризацияланбаган шарттарда 304 дат баспас болотту жана фотоанодду туташтыруу үчүн нөлдүк каршылык амперметри катары потенциостат колдонулган. Бул үчүн эксперименталдык түзүлүштөгү эталондук жана каршы электроддор кыска туташтырылган, ошондуктан электрохимиялык жумуш бекети чыныгы токтун тыгыздыгын өлчөй алган нөлдүк каршылык амперметри катары иштеген. 304 дат баспас болоттон жасалган электрод электрохимиялык жумуш бекетинин жерге туташтырылган, ал эми фотоанод жумушчу электроддун кыскычына туташтырылган. Эксперименттин башында, жарык күйгүзүлүп жана өчүрүлгөндө, фотоаноддун дүүлүккөн электрондору зым аркылуу 304 дат баспас болоттун бетине жетет. Бул учурда, 304 дат баспас болоттун бетиндеги фототок тыгыздыгынын өзгөрүшүн байкоого болот.
304 дат баспас болоттон жасалган нанокомпозиттердин катоддук коргоо көрсөткүчтөрүн изилдөө үчүн 304 дат баспас болоттун жана нанокомпозиттердин фотоиондоштуруу потенциалынын өзгөрүшү, ошондой эле нанокомпозиттер менен 304 дат баспас болоттордун ортосундагы фотоиондоштуруу тогунун тыгыздыгынын өзгөрүшү сыналды.
4-сүрөттө 304 дат баспас болоттон жасалган жана нанокомпозиттердин ачык чынжыр потенциалынын көрүнгөн жарык нурлануусунда жана караңгы шарттарда өзгөрүшү көрсөтүлгөн. 4a-сүрөттө NiS чөктүрүү убактысынын ачык чынжыр потенциалына тийгизген таасири, ал эми 4b-сүрөттө фотокалыбына келтирүү учурунда күмүш нитратынын концентрациясынын ачык чынжыр потенциалына тийгизген таасири көрсөтүлгөн. 4a-сүрөттө 304 дат баспас болотко туташтырылган NiS/TiO2 нанокомпозитинин ачык чынжыр потенциалы никель сульфиддик композитке салыштырмалуу лампа күйгүзүлгөн учурда бир кыйла төмөндөгөнү көрсөтүлгөн. Мындан тышкары, ачык чынжыр потенциалы таза TiO2 нанозымдарына караганда терсирээк, бул никель сульфиддик композит көбүрөөк электрондорду пайда кылаарын жана TiO2ден фотокатодду коргоо эффектин жакшыртаарын көрсөтүп турат. Бирок, таасирдин аягында жүктөмсүз потенциал дат баспас болоттун жүктөмсүз потенциалына тез көтөрүлөт, бул никель сульфидинин энергияны сактоо эффектиси жок экенин көрсөтүп турат. Чөмүлүү чөктүрүү циклдеринин санынын ачык чынжыр потенциалына тийгизген таасирин 4a-сүрөттөн байкоого болот. 6 чөкмөлөө убактысында нанокомпозиттин экстремалдык потенциалы каныккан каломель электродуна салыштырмалуу -550 мВга жетет, ал эми 6 эсе чөкмөлөөчү нанокомпозиттин потенциалы башка шарттарда нанокомпозиттикине караганда бир кыйла төмөн. Ошентип, 6 чөкмөлөө циклинен кийин алынган NiS/TiO2 нанокомпозиттери 304 дат баспас болот үчүн эң жакшы катоддук коргоону камсыз кылды.
NiS/TiO2 нанокомпозиттери (а) жана Ag/NiS/TiO2 нанокомпозиттери (б) менен жарыктандырылган жана жарыктандырылбаган (λ > 400 нм) 304 дат баспас болоттон жасалган электроддордун ОБПсындагы өзгөрүүлөр.
4b-сүрөттө көрсөтүлгөндөй, 304 дат баспас болоттон жасалган жана Ag/NiS/TiO2 нанокомпозиттеринин ачык чынжыр потенциалы жарыкка дуушар болгондо бир кыйла төмөндөгөн. Күмүш нанобөлүкчөлөрүн бетке жайгаштыргандан кийин, таза TiO2 нанозымдарына салыштырмалуу ачык чынжыр потенциалы бир кыйла төмөндөгөн. NiS/TiO2 нанокомпозитинин потенциалы терсирээк, бул Ag нанобөлүкчөлөрү жайгаштырылгандан кийин TiO2нин катоддук коргоочу таасири бир кыйла жакшырганын көрсөтүп турат. Ачык чынжыр потенциалы таасирдин аягында тездик менен жогорулаган жана каныккан каломель электродуна салыштырмалуу ачык чынжыр потенциалы -580 мВга жетиши мүмкүн, бул 304 дат баспас болоттон (-180 мВ) төмөн болгон. Бул жыйынтык күмүш бөлүкчөлөрү анын бетине жайгаштырылгандан кийин нанокомпозиттин энергияны сактоочу таасири бар экенин көрсөтүп турат. 4b-сүрөттө күмүш нитратынын концентрациясынын ачык чынжыр потенциалына тийгизген таасири да көрсөтүлгөн. 0,1 М күмүш нитратынын концентрациясында каныккан каломель электродуна салыштырмалуу чектөөчү потенциал -925 мВга жетет. 4 колдонуу циклинен кийин потенциал биринчи колдонуудан кийинки деңгээлде калган, бул нанокомпозиттин эң сонун туруктуулугун көрсөтөт. Ошентип, 0,1 М күмүш нитратынын концентрациясында пайда болгон Ag/NiS/TiO2 нанокомпозити 304 дат баспас болотко эң жакшы катоддук коргоочу таасирге ээ.
TiO2 нанозымдарынын бетине NiS чөкмөсү NiS чөкмө убактысынын көбөйүшү менен акырындык менен жакшырат. Көрүнгөн жарык нанозымдын бетине түшкөндө, көбүрөөк никель сульфидинин активдүү борборлору электрондорду пайда кылуу үчүн дүүлүктүрүлөт жана фотоиондоштуруу потенциалы көбүрөөк төмөндөйт. Бирок, никель сульфидинин нанобөлүкчөлөрү бетке ашыкча чөккөндө, дүүлүккөн никель сульфиди азаят, бул жарыктын сиңишине өбөлгө түзбөйт. Күмүш бөлүкчөлөрү бетке чөккөндөн кийин, күмүш бөлүкчөлөрүнүн беттик плазмондук резонанстык эффектинен улам, пайда болгон электрондор 304 дат баспас болоттун бетине тез которулат, бул эң сонун катоддук коргоо эффектин берет. Бетке өтө көп күмүш бөлүкчөлөрү чөккөндө, күмүш бөлүкчөлөрү фотоэлектрондор жана тешиктер үчүн рекомбинация чекитине айланат, бул фотоэлектрондордун пайда болушуна өбөлгө түзбөйт. Жыйынтыктап айтканда, Ag/NiS/TiO2 нанокомпозиттери 0,1 М күмүш нитратынын астында 6 эсе никель сульфидинин чөкмөсүнөн кийин 304 дат баспас болот үчүн эң жакшы катоддук коргоону камсыздай алат.
Фототоктун тыгыздыгынын мааниси фотогенерацияланган электрондордун жана тешиктердин бөлүү күчүн билдирет жана фототоктун тыгыздыгы канчалык чоң болсо, фотогенерацияланган электрондордун жана тешиктердин бөлүү күчү ошончолук күчтүү болот. NiS материалдардын фотоэлектрдик касиеттерин жакшыртуу жана тешиктерди бөлүү үчүн фотокаталитикалык материалдарды синтездөөдө кеңири колдонулаарын көрсөткөн көптөгөн изилдөөлөр бар15,16,17,18,19,20. Чен жана башкалар NiS15 менен бирге модификацияланган асыл металлсыз графенди жана g-C3N4 композиттерин изилдешкен. Модификацияланган g-C3N4/0,25%RGO/3%NiSтин фототокунун максималдуу интенсивдүүлүгү 0,018 мкА/см2 түзөт. Чен жана башкалар болжол менен 10 мкА/см2 фототок тыгыздыгы менен CdSe-NiS изилдешкен.16. Лю жана башкалар 15 мкА/см218 фототок тыгыздыгы менен CdS@NiS композитин синтездеген. Бирок, фотокатодду коргоо үчүн NiS колдонулганы тууралуу азырынча кабарлана элек. Биздин изилдөөдө TiO2 фототок тыгыздыгы NiS модификациясы менен бир кыйла жогорулаган. 5-сүрөттө 304 дат баспас болоттон жасалган жана нанокомпозиттердин фототок тыгыздыгынын көрүнгөн жарык шарттарында жана жарыксыз өзгөрүшү көрсөтүлгөн. 5a-сүрөттө көрсөтүлгөндөй, NiS/TiO2 нанокомпозитинин фототок тыгыздыгы жарык күйгүзүлгөн учурда тездик менен жогорулайт жана фототок тыгыздыгы оң, бул электрохимиялык жумуш орду аркылуу нанокомпозиттен бетке электрондордун агымын көрсөтөт. 304 дат баспас болоттон жасалган. Никель сульфиддик композиттерин даярдагандан кийин, фототок тыгыздыгы таза TiO2 нанозымдарына караганда чоңураак. NiS фототок тыгыздыгы 220 мкА/см2ге жетет, бул NiS 6 жолу чөмүлдүрүлүп жана чөктүрүлгөндө TiO2 нанозымдарына караганда (32 мкА/см2) 6,8 эсе жогору. Сүрөттө көрсөтүлгөндөй. 5b-сүрөттө, ксенон лампасынын астында күйгүзүлгөндө Ag/NiS/TiO2 нанокомпозитинин жана 304 дат баспас болоттун ортосундагы фототоктун тыгыздыгы таза TiO2 менен NiS/TiO2 нанокомпозитинин ортосундагыга караганда бир кыйла жогору болгон. 5b-сүрөттө ошондой эле фотокалыбына келтирүү учурунда фототоктун тыгыздыгына AgNO концентрациясынын таасири көрсөтүлгөн. 0,1 М күмүш нитратынын концентрациясында анын фототоктун тыгыздыгы 410 мкА/см2ге жетет, бул TiO2 нанозумдарынан (32 мкА/см2) 12,8 эсе жана NiS/TiO2 нанокомпозиттеринен 1,8 эсе жогору. Ag/NiS/TiO2 нанокомпозитинин интерфейсинде гетероөткөрүлмө электр талаасы пайда болот, бул фотогенерацияланган электрондордун тешиктерден бөлүнүшүн жеңилдетет.
(a) NiS/TiO2 нанокомпозити жана (b) Ag/NiS/TiO2 нанокомпозити жарыктандырылган жана жарыктандырылбаган (λ > 400 нм) 304 дат баспас болоттон жасалган электроддун фототок тыгыздыгынын өзгөрүшү.
Ошентип, никель сульфидин 0,1 М концентрацияланган күмүш нитратына чөмүлдүрүүнүн 6 циклинен кийин, Ag/NiS/TiO2 нанокомпозиттери менен 304 дат баспас болоттун ортосундагы фототок тыгыздыгы 410 мкА/см2ге жетет, бул каныккан каломель электроддоруна караганда жогору. Мындай шарттарда, Ag/NiS/TiO2 менен айкалышкан 304 дат баспас болот эң жакшы катоддук коргоону камсыздай алат.
6-сүрөттө оптималдуу шарттарда таза титан диоксиди нанозымдарынын, курама никель сульфидинин нанобөлүкчөлөрүнүн жана күмүш нанобөлүкчөлөрүнүн беттик электрондук микроскоп сүрөттөрү көрсөтүлгөн. 6a, d сүрөттөрүндө бир баскычтуу аноддоо жолу менен алынган таза TiO2 нанозымдары көрсөтүлгөн. Титан диоксиди нанозымдарынын беттик таралышы бирдей, нанозымдардын түзүлүштөрү бири-бирине жакын жана тешикчелердин өлчөмүнүн таралышы бирдей. 6b жана e сүрөттөрү никель сульфидинин композиттеринин 6 эсе сиңирилишинен жана чөкмөсүнөн кийинки титан диоксидинин электрондук микрографиялары. 6e сүрөтүндө 200 000 эсе чоңойтулган электрондук микроскопиялык сүрөттөн никель сульфидинин курама нанобөлүкчөлөрү салыштырмалуу бир тектүү жана диаметри болжол менен 100–120 нм болгон чоң бөлүкчө өлчөмүнө ээ экенин көрүүгө болот. Айрым нанобөлүкчөлөрдү нанозымдардын мейкиндик абалында байкоого болот жана титан диоксиди нанозымдары даана көрүнүп турат. 6-сүрөттө. 6c,f сүрөттөрүндө AgNO концентрациясы 0,1 М болгон NiS/TiO2 нанокомпозиттеринин электрондук микроскопиялык сүрөттөрү көрсөтүлгөн. 6b жана 6e сүрөттөрү менен салыштырганда, 6c жана 6f сүрөттөрүндө Ag нанобөлүкчөлөрү композиттик материалдын бетине чөкмөлөнүп, Ag нанобөлүкчөлөрү диаметри болжол менен 10 нм болгон бирдей бөлүштүрүлгөнү көрсөтүлгөн. 7-сүрөттө AgNO3 концентрациясы 0,1 М болгон NiS чөкмөсүнүн 6 циклине дуушар болгон Ag/NiS/TiO2 нанопленкаларынын кесилиши көрсөтүлгөн. Жогорку чоңойтуу сүрөттөрүнөн өлчөнгөн пленканын калыңдыгы 240-270 нм болгон. Ошентип, никель жана күмүш сульфид нанобөлүкчөлөрү TiO2 нанозымдарынын бетине чогулган.
TiO2 нанокомпозиттеринин (c, e) 0,1 М AgNO3 SEM сүрөттөрүндө 6 цикл NiS чөктүрүү менен таза TiO2 (a, d), NiS/TiO2 нанокомпозиттери (b, e) жана 6 цикл NiS чөктүрүү менен Ag/NiS/NiS.
AgNO3 концентрациясы 0,1 М болгондо NiS чөктүрүүнүн 6 циклине дуушар болгон Ag/NiS/TiO2 нанофильмдеринин кесилиши.
8-сүрөттө 0,1 М күмүш нитратынын концентрациясында никель сульфидин 6 циклдик чөктүрүүдөн алынган Ag/NiS/TiO2 нанокомпозиттеринин бетиндеги элементтердин беттик таралышы көрсөтүлгөн. Элементтердин беттик таралышы Ti, O, Ni, S жана Ag аныкталганын көрсөтүп турат. Курамы боюнча, Ti жана O бөлүштүрүүдө эң көп кездешкен элементтер болуп саналат, ал эми Ni жана S болжол менен бирдей, бирок алардын курамы Agге караганда бир топ төмөн. Ошондой эле, беттик курама күмүш нанобөлүкчөлөрүнүн саны никель сульфидиндикине караганда көбүрөөк экенин далилдөөгө болот. Беттеги элементтердин бирдей таралышы никель жана күмүш сульфидинин TiO2 нанозымдарынын бетинде бирдей байланышта экенин көрсөтүп турат. Заттардын өзгөчө курамын жана байланыш абалын талдоо үчүн рентгендик фотоэлектрондук спектроскопиялык анализ кошумча жүргүзүлдү.
NiS чөкмөсүнүн 6 цикли үчүн AgNO3 концентрациясында 0,1 М Ag/NiS/TiO2 нанокомпозиттеринин элементтеринин (Ti, O, Ni, S жана Ag) таралышы.
Сүрөттө 9-сүрөттө 0,1 М AgNO3кө чөмүлүү менен никель сульфидин чөктүрүүнүн 6 циклин колдонуу менен алынган Ag/NiS/TiO2 нанокомпозиттеринин XPS спектрлери көрсөтүлгөн, мында 9а сүрөтү толук спектр, ал эми калган спектрлер элементтердин жогорку чечилиштеги спектрлери. 9а сүрөтүндөгү толук спектрден көрүнүп тургандай, нанокомпозитте Ti, O, Ni, S жана Ag сиңирүү чокулары табылган, бул бул беш элементтин бар экенин далилдейт. Сыноо жыйынтыктары EDSке ылайык келген. 9а сүрөтүндөгү ашыкча чоку - бул үлгүнүн байланыш энергиясын оңдоо үчүн колдонулган көмүртек чокусу. 9б сүрөтүндө Ti нин жогорку чечилиштеги энергия спектри көрсөтүлгөн. 2p орбиталдарынын сиңирүү чокулары 459,32 жана 465 эВде жайгашкан, бул Ti 2p3/2 жана Ti 2p1/2 орбиталдарынын сиңирүүсүнө туура келет. Эки абсорбциялык чоку титандын Ti4+ валенттүүлүгүнө ээ экенин далилдейт, ал TiO2деги Tiге туура келет.
Ag/NiS/TiO2 өлчөөлөрүнүн XPS спектрлери (a) жана Ti2p(b), O1s(c), Ni2p(d), S2p(e) жана Ag 3d(f) жогорку чечилиштеги XPS спектрлери.
9d-сүрөттө Ni 2p орбиталынын төрт абсорбциялык чокулары бар жогорку чечилиштеги Ni энергия спектри көрсөтүлгөн. 856 жана 873,5 эВ абсорбциялык чокулары Ni 2p3/2 жана Ni 2p1/2 8.10 орбиталдарына туура келет, мында абсорбциялык чокулар NiSке таандык. 881 жана 863 эВ абсорбциялык чокулары никель нитраты үчүн жана үлгү даярдоо учурунда никель нитраты реагенти тарабынан пайда болот. 9e-сүрөттө жогорку чечилиштеги S-спектр көрсөтүлгөн. S 2p орбиталдарынын абсорбциялык чокулары 161,5 жана 168,1 эВ чендерде жайгашкан, алар S 2p3/2 жана S 2p1/2 орбиталдарына 21, 22, 23, 24 чендерде туура келет. Бул эки чоку никель сульфид кошулмаларына таандык. 169,2 жана 163,4 эВ абсорбциялык чокулары натрий сульфид реагенти үчүн. 1-сүрөттө. 9f-сүрөттө күмүштүн 3d орбиталык сиңирүү чокулары тиешелүүлүгүнө жараша 368,2 жана 374,5 эВде жайгашкан жогорку чечилиштеги Ag спектри көрсөтүлгөн жана эки сиңирүү чокулары Ag 3d5/2 жана Ag 3d3/212, 13 сиңирүү орбиталарына туура келет. Бул эки жердеги чокулар күмүш нанобөлүкчөлөрүнүн элементардык күмүш абалында бар экенин далилдейт. Ошентип, нанокомпозиттер негизинен Ag, NiS жана TiO2ден турат, бул рентген фотоэлектрондук спектроскопия менен аныкталган, ал никель жана күмүш сульфид нанобөлүкчөлөрүнүн TiO2 нанозымдарынын бетинде ийгиликтүү айкалышканын далилдеген.
10-сүрөттө жаңы даярдалган TiO2 нанозымдарынын, NiS/TiO2 нанокомпозиттеринин жана Ag/NiS/TiO2 нанокомпозиттеринин UV-VIS диффузиялык чагылуу спектрлери көрсөтүлгөн. Сүрөттөн TiO2 нанозымдарынын жутуу босогосу болжол менен 390 нм экенин жана жутулган жарык негизинен ультрафиолет аймагында топтолгонун көрүүгө болот. Сүрөттөн көрүнүп тургандай, титан диоксидинин нанозымдарынын 21, 22 бетинде никель жана күмүш сульфид нанобөлүкчөлөрү айкалышкандан кийин, жутулган жарык көрүнгөн жарык аймагына тарайт. Ошол эле учурда, нанокомпозитте ультрафиолет сиңирүүсү жогорулаган, бул никель сульфидинин тар тилкелүү аралыгы менен байланыштуу. Тирелүү аралыгы канчалык тар болсо, электрондук өтүүлөр үчүн энергия тосмосу ошончолук төмөн жана жарыкты пайдалануу даражасы ошончолук жогору болот. NiS/TiO2 бетин күмүш нанобөлүкчөлөрү менен бириктиргенден кийин, жутуу интенсивдүүлүгү жана жарыктын толкун узундугу негизинен күмүш нанобөлүкчөлөрүнүн бетине плазмон резонансынын таасиринен улам олуттуу түрдө жогорулаган жок. TiO2 нанозымдарынын сиңирүү толкун узундугу курама NiS нанобөлүкчөлөрүнүн тар тилкелүү аралыгына салыштырмалуу олуттуу жакшырбайт. Кыскасы, курама никель сульфиди жана күмүш нанобөлүкчөлөрү титан диоксиди нанозымдарынын бетине киргенден кийин, анын жарыкты сиңирүү мүнөздөмөлөрү бир топ жакшырат жана жарыкты сиңирүү диапазону ультрафиолет нурларынан көрүнгөн жарыкка чейин кеңейет, бул титан диоксиди нанозымдарынын пайдалануу ылдамдыгын жакшыртат. Бул материалдын фотоэлектрондорду түзүү жөндөмүн жакшыртат.
Жаңы TiO2 нанозымдарынын, NiS/TiO2 нанокомпозиттеринин жана Ag/NiS/TiO2 нанокомпозиттеринин UV/Vis диффузиялык чагылуу спектрлери.
11-сүрөттө Ag/NiS/TiO2 нанокомпозиттеринин көрүнгөн жарык нурлануусунда фотохимиялык коррозияга туруктуулук механизми көрсөтүлгөн. Күмүш нанобөлүкчөлөрүнүн, никель сульфидинин жана титан диоксидинин өткөргүчтүк тилкесинин потенциалдык бөлүштүрүлүшүнө таянып, коррозияга туруктуулук механизминин мүмкүн болгон картасы сунушталат. Нанокүмүштүн өткөргүчтүк тилкесинин потенциалы никель сульфидине салыштырмалуу терс болгондуктан, ал эми никель сульфидинин өткөргүчтүк тилкесинин потенциалы титан диоксидине салыштырмалуу терс болгондуктан, электрон агымынын багыты болжол менен Ag→NiS→TiO2→304 дат баспас болоттон турат. Нанокөмүштүн бетине жарык нурланганда, нанокүмүштүн беттик плазмондук резонансынын таасиринен улам, нанокүмүш тез арада фотогенерацияланган тешиктерди жана электрондорду пайда кыла алат, ал эми фотогенерацияланган электрондор дүүлүктүрүүдөн улам валенттик тилке абалынан өткөргүчтүк тилке абалына тез өтөт. Титан диоксиди жана никель сульфиди. Күмүш нанобөлүкчөлөрүнүн өткөргүчтүгү никель сульфидине караганда терс болгондуктан, күмүш нанобөлүкчөлөрүнүн TSиндеги электрондор тез арада никель сульфидинин TSине айланат. Никель сульфидинин өткөргүчтүк потенциалы титан диоксидине караганда терс, ошондуктан никель сульфидинин электрондору жана күмүштүн өткөргүчтүгү титан диоксидинин CBсында тез топтолот. Түзүлгөн фотогенерацияланган электрондор титан матрицасы аркылуу 304 дат баспас болоттун бетине жетет, ал эми байытылган электрондор 304 дат баспас болоттун катоддук кычкылтек менен калыбына келтирүү процессине катышат. Бул процесс катоддук реакцияны азайтат жана ошол эле учурда 304 дат баспас болоттун аноддук эрүү реакциясын басат, ошону менен дат баспас болот 304түн катоддук коргоосун ишке ашырат. Ag/NiS/TiO2 нанокомпозитинде гетероөткөргүчтүн электр талаасынын пайда болушунан улам, нанокомпозиттин өткөргүчтүк потенциалы терс позицияга жылат, бул 304 дат баспас болоттун катоддук коргоо эффектин натыйжалуураак жакшыртат.
Көрүнгөн жарыкта Ag/NiS/TiO2 нанокомпозиттеринин фотоэлектрохимиялык коррозияга каршы процессинин схемалык диаграммасы.
Бул иште TiO2 нанозымдарынын бетинде жөнөкөй иммерсия жана фотокалыбына келтирүү ыкмасы менен никель жана күмүш сульфидинин нанобөлүкчөлөрү синтезделген. 304 дат баспас болоттогу Ag/NiS/TiO2 нанокомпозиттерин катоддук коргоо боюнча бир катар изилдөөлөр жүргүзүлдү. Морфологиялык мүнөздөмөлөрдүн, курамынын анализинин жана жарыкты сиңирүү мүнөздөмөлөрүнүн анализинин негизинде төмөнкү негизги тыянактар ​​чыгарылды:
Никель сульфидинин бир катар импрегнация-чөкмө циклдери 6 жана фотокалыбына келтирүү үчүн күмүш нитратынын концентрациясы 0,1 моль/л болгондо, натыйжада пайда болгон Ag/NiS/TiO2 нанокомпозиттери 304 дат баспас болотко жакшыраак катоддук коргоочу таасирге ээ болгон. Каныккан каломель электродуна салыштырмалуу коргоо потенциалы -925 мВ жетет, ал эми коргоо тогу 410 мкА/см2ге жетет.
Ag/NiS/TiO2 нанокомпозиттик интерфейсинде гетероөткөрүлмө электр талаасы пайда болот, бул фотогенерацияланган электрондордун жана тешиктердин бөлүү күчүн жакшыртат. Ошол эле учурда, жарыкты пайдалануу эффективдүүлүгү жогорулайт жана жарыкты жутуу диапазону ультрафиолет аймагынан көрүнгөн аймакка чейин кеңейет. Нанокомпозит 4 циклден кийин дагы эле баштапкы абалын жакшы туруктуулук менен сактап калат.
Эксперименталдык жол менен даярдалган Ag/NiS/TiO2 нанокомпозиттери бирдей жана тыгыз бетке ээ. TiO2 нанозымдарынын бетинде никель сульфиди жана күмүш нанобөлүкчөлөрү бирдей кошулган. Композиттик кобальт феррит жана күмүш нанобөлүкчөлөрү жогорку тазалыкка ээ.
Ли, MC, Луо, SZ, Wu, PF & Shen, JN 3% NaCl эритмелериндеги көмүртектүү болот үчүн TiO2 пленкаларынын фотокатоддук коргоо эффектиси. Ли, MC, Луо, SZ, Wu, PF & Shen, JN 3% NaCl эритмелериндеги көмүртектүү болот үчүн TiO2 пленкаларынын фотокатоддук коргоо эффектиси. Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF & Shen, JN Эффект фотокатодной защиты пленок TiO2 для углеродистой стали в 3% растворах NaCl. Ли, MC, Луо, SZ, Wu, PF & Shen, JN 3% NaCl эритмелериндеги көмүртектүү болот үчүн TiO2 пленкаларынын фотокатоддук коргоо эффектиси. Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF & Shen, JN TiO2 薄膜在3% NaCl 溶液中对碳钢的光阴极保护效果。 Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF & Shen, JN TiO2 薄膜在3% NaCl 溶液中对碳钢的光阴极保护效果。 Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF & Shen, JN Фотокатодная защита углеродистой стали тонкими пленками TiO2 в 3% растворе NaCl. Ли, MC, Луо, SZ, Wu, PF & Shen, JN 3% NaCl эритмесиндеги TiO2 жука пленкалары менен көмүртектүү болотту фотокатод менен коргоо.Электрохимиялык. Acta 50, 3401–3406 (2005).
Ли, Ж., Лин, Си Джей, Лай, Ю.К. жана Ду, Р.Г. Дат баспас болоттон жасалган гүл сымал, наноструктуралуу, N-легирленген TiO2 пленкасын фотогенерацияланган катоддук коргоо. Ли, Ж., Лин, Си Джей, Лай, Ю.К. жана Ду, Р.Г. Дат баспас болоттон жасалган гүл сымал, наноструктуралуу, N-легирленген TiO2 пленкасын фотогенерацияланган катоддук коргоо.Ли, Ж., Лин, СЖ, Лай, Ю.К. жана Ду, Р.Г. Дат баспас болоттон жасалган гүл түрүндөгү наноструктураланган, азот менен легирленген TiO2 пленкасынын фотогенерацияланган катоддук коргоосу. Li, J., Lin, CJ, Lai, YK & Du, RG 花状纳米结构N 掺杂TiO2 薄膜在不锈钢上的光生阴极保护。 Li, J., Lin, CJ, Lai, YK & Du, RG.Ли, Ж., Лин, СЖ, Лай, Ю.К. жана Ду, Р.Г. Дат баспас болоттон жасалган азот менен легирленген TiO2 гүл формасындагы наноструктураланган жука пленкаларды фотогенерацияланган катоддук коргоо.серфинг A пальто. технологиясы 205, 557–564 (2010).
Чжоу, МЖ, Зенг, ЗО жана Чжун, Л. Наноөлчөмдөгү TiO2/WO3 каптоосунун фотогенерацияланган катоддон коргоо касиеттери. Чжоу, МЖ, Зенг, ЗО жана Чжун, Л. Наноөлчөмдөгү TiO2/WO3 каптоосунун фотогенерацияланган катоддон коргоо касиеттери.Чжоу, МЖ, Зенг, ЗО жана Чжун, Л. TiO2/WO3 наноөлчөмдүү каптоосунун фотогенерацияланган катоддук коргоочу касиеттери. Zhou, MJ, Zeng, ZO & Zhong, L. 纳米TiO2/WO3 涂层的光生阴极保护性能。 Zhou, MJ, Zeng, ZO & Zhong, L. 纳米TiO2/WO3 涂层的光生阴极保护性能。Чжоу МЖ, Зенг ЗО жана Чжун Л. Нано-TiO2/WO3 каптамаларынын фотогенерацияланган катоддук коргоочу касиеттери.Корос. илим. 51, 1386–1397 (2009).
Парк, Х., Ким, KY жана Чой, В. Жарым өткөргүч фотоанодду колдонуу менен металлдын дат басышынын алдын алуу үчүн фотоэлектрохимиялык ыкма. Парк, Х., Ким, KY жана Чой, В. Жарым өткөргүч фотоанодду колдонуу менен металлдын дат басышынын алдын алуу үчүн фотоэлектрохимиялык ыкма.Парк, Х., Ким, К.Ю. жана Чой, В. Жарым өткөргүч фотоанодду колдонуу менен металлдын дат басышынын алдын алуунун фотоэлектрохимиялык ыкмасы. Park, H., Kim, KY & Choi, W. 使用半导体光阳极防止金属腐蚀的光电化学方法。 Парк, Х., Ким, Кентукки жана Чой, В.Парк Х., Ким К.Ю. жана Чой В. Жарым өткөргүч фотоаноддорду колдонуу менен металлдардын дат басышынын алдын алуунун фотоэлектрохимиялык ыкмалары.Физика. Химиялык. Т. 106, 4775–4781 (2002).
Шен, Г.Х., Чен, Ю.К., Лин, Л., Лин, К.Ж. жана Скантлбери, Д. Гидрофобдук нано-TiO2 каптоосун жана анын металлдарды коррозиядан коргоо үчүн касиеттерин изилдөө. Шен, Г.Х., Чен, Ю.К., Лин, Л., Лин, К.Ж. жана Скантлбери, Д. Гидрофобдук нано-TiO2 каптоосун жана анын металлдарды коррозиядан коргоо үчүн касиеттерин изилдөө. Shen, GX, Chen, YC, Lin, L., Lin, CJ & Scantlebury, D. Исследование нано-TiO2ден гидрофобного тазалоо жана металлдарды тазалоо үчүн өз алдынча. Шен, Г.Х., Чен, Ю.К., Лин, Л., Лин, К.Ж. жана Скантлбери, Д. Металлдарды коррозиядан коргоо үчүн гидрофобдук нано-TiO2 каптоосун жана анын касиеттерин изилдөө. Shen, GX, Chen, YC, Lin, L., Lin, CJ & Scantlebury, D. Шен, Г.Х., Чен, Й.К., Лин, Л., Лин, К.Ж. жана Скантлбери, Д. 疵水 нано-титан диоксидинин каптоосун жана анын металлдын коррозиядан коргоо касиеттерин изилдөө. Shen, GX, Chen, YC, Lin, L., Lin, CJ & Scantlebury, D. Гидрофобные покрытыя из нано-TiO2 жана алар защиты металлов от кора. Шен, Г.Х., Чен, Й.К., Лин, Л., Лин, К.Ж. жана Скантлбери, Д. Нано-TiO2 гидрофобдук каптоолору жана алардын металлдарды коррозиядан коргоо касиеттери.Электрохимиялык. Acta 50, 5083–5089 (2005).
Юн, Х., Ли, Ж., Чен, ХБ жана Лин, КЖ. Дат баспас болоттон жасалган коррозиядан коргоо үчүн N, S жана Cl менен модификацияланган нано-TiO2 каптоолору боюнча изилдөө. Юн, Х., Ли, Ж., Чен, ХБ жана Лин, КЖ. Дат баспас болоттон жасалган коррозиядан коргоо үчүн N, S жана Cl менен модификацияланган нано-TiO2 каптоолору боюнча изилдөө.Юн, Х., Ли, Ж., Чен, ХБ жана Лин, СЖ. Дат баспас болоттон жасалган коррозиядан коргоо үчүн азот, күкүрт жана хлор менен модификацияланган нано-TiO2 каптоолорун изилдөө. Yun, H., Li, J., Chen, HB & Lin, CJ N、S 和Cl 改性纳米二氧化钛涂层用于不锈钢腐蚀防护的砂 Юн, Х., Ли, Ж., Чен, ХБ жана Лин, СиЖ. Н., С. жана Кл. Yun, H., Li, J., Chen, HB & Lin, CJ Покрытия N, S и Cl, нано-TiO2 модифицированные, үчүн защиты от корзии нержавеющей стали. Юн, Х., Ли, Ж., Чен, ХБ жана Лин, CJ Дат баспас болоттон жасалган коррозиядан коргоо үчүн Nano-TiO2 менен модификацияланган N, S жана Cl каптамалары.Электрохим. 52-том, 6679–6685 (2007).
Жу, Ю.Ф., Ду, Р.Г., Чен, В., Ци, Х.К. жана Лин, К.Ж. Золь-гель жана гидротермалдык ыкма менен айкалышкан үч өлчөмдүү титанат нанозым тармактык пленкаларынын фотокатоддук коргоо касиеттери. Жу, Ю.Ф., Ду, Р.Г., Чен, В., Ци, Х.К. жана Лин, К.Ж. Золь-гель жана гидротермалдык ыкма менен айкалышкан үч өлчөмдүү титанат нанозым тармактык пленкаларынын фотокатоддук коргоо касиеттери. Zhu, YF, Du, RG, Chen, W., Qi, HQ & Lin, CJ Фотокатодные защитные свойства трехмерных сетчатых пленок титанатных нанопроволок, приготовленных комбинированных золь-гель жана гидротермические методом. Жу, Ю.Ф., Ду, Р.Г., Чен, В., Ци, Х.К. жана Лин, К.Ж. Золь-гель жана гидротермалдык ыкма менен айкалыштырылган титанат нанозымдарынын үч өлчөмдүү тор пленкаларынын фотокатоддук коргоочу касиеттери. Чжу, ЮФ, Ду, РГ, Чен, В., Ци, HQ & Lin, CJ溶胶-凝胶和水热法制备三维钛酸盐纳米线网络薄膜的光阴极保护性能。 Чжу, ЮФ, Ду, РГ, Чен, В., Ци, HQ & Lin, CJ.消铺-铲和水热法发气小水小水化用线线电视电器电影电影电影电影电影. Zhu, YF, Du, RG, Chen, W., Qi, HQ & Lin, CJ Фотокатодные защитные свойства трехмерных тонких пленок из сетки нанопроволок титаната, приготовленных золь-гель жана гидротермические методами. Жу, Ю.Ф., Ду, Р.Г., Чен, В., Ци, Х.К. жана Лин, К.Ж. Золь-гель жана гидротермалдык ыкмалар менен даярдалган үч өлчөмдүү титанат нанозым тармагынын жука пленкаларынын фотокатоддук коргоо касиеттери.Электрохимия. байланыш 12, 1626–1629 (2010).
Ли, Ж.Х., Ким, СИ, Парк, С.М. жана Канг, М. Көмүр кычкыл газын метанга чейин натыйжалуу фотокалыбына келтирүү үчүн pn гетероөткөргүч NiS-сезгичтүү TiO2 фотокаталитикалык системасы. Ли, Ж.Х., Ким, СИ, Парк, С.М. жана Канг, М. Көмүр кычкыл газын метанга чейин натыйжалуу фотокалыбына келтирүү үчүн pn ​​гетероөткөргүч NiS-сезгичтүү TiO2 фотокаталитикалык системасы.Ли, Ж.Х., Ким, СИ, Парк, С.М. жана Канг, М. Көмүр кычкыл газын метанга чейин натыйжалуу фотокалыбына келтирүү үчүн pn-гетероөткөргүч NiS сезгичтүү TiO2 фотокаталитикалык системасы. Lee, JH, Kim, SI, Park, SM & Kang, M. 一种pn 异质结NiS 敏化TiO2光催化系统，用于将二氧化碳高效光还原为甲烷。 Ли, Дж.Х., Ким, С.И., Пак, СМ жана Канг, М.Ли, Ж.Х., Ким, СИ, Парк, С.М. жана Канг, М. Көмүр кычкыл газын метанга чейин натыйжалуу фотокалыбына келтирүү үчүн pn-гетероөткөргүч NiS сезгичтүү TiO2 фотокаталитикалык системасы.керамика. Чечмелөө. 43, 1768–1774 (2017).
Wang, QZ ж.б. CuS жана NiS TiO2деги фотокаталитикалык суутек бөлүнүп чыгышын күчөтүү үчүн кокатализаторлор катары иштейт. Түшүндүрмө. J.Hydro. Energy 39, 13421–13428 (2014).
Liu, Y. & Tang, C. NiS нанобөлүкчөлөрүн беттик жүктөө менен TiO2 нанобаракча пленкаларынын үстүндө фотокаталитикалык H2 эволюциясын күчөтүү. Liu, Y. & Tang, C. NiS нанобөлүкчөлөрүн беттик жүктөө менен TiO2 нанобаракча пленкаларынын үстүндө фотокаталитикалык H2 эволюциясын күчөтүү.Liu, Y. жана Tang, K. NiS нанобөлүкчөлөрүн беттик жүктөө менен TiO2 нанобаракча пленкаларында фотокаталитикалык H2 бөлүнүп чыгышын күчөтүү. Liu, Y. & Tang, C. 通过表面负载NiS 纳米颗粒增强TiO2 纳米片薄膜上的光催化产氢。 Liu, Y. жана Tang, C.Liu, Y. жана Tang, K. TiO2 нанобаракчаларынын жука пленкаларында NiS нанобөлүкчөлөрүн бетине жайгаштыруу менен фотокаталитикалык суутек өндүрүшүн жакшыртуу.лас. J. Физика. Химиялык. A 90, 1042–1048 (2016).
Хуан, XW жана Лю, ZJ Аноддоо жана химиялык кычкылдануу ыкмалары менен даярдалган Ti–O негизиндеги нанозым пленкаларынын түзүлүшүн жана касиеттерин салыштырмалуу изилдөө. Хуан, XW жана Лю, ZJ Аноддоо жана химиялык кычкылдануу ыкмалары менен даярдалган Ti–O негизиндеги нанозым пленкаларынын түзүлүшүн жана касиеттерин салыштырмалуу изилдөө. Huang, XW & Liu, ZJ Сравнительное исследование структуралары жана өздүк пленок нанопроводов на основе Ti-O, полученных методами анодирования жана химического окисления. Хуан, XW жана Лю, ZJ Аноддоо жана химиялык кычкылдануу ыкмалары менен алынган Ti-O нанозым пленкаларынын түзүлүшүн жана касиеттерин салыштырмалуу изилдөө. Huang, XW & Liu, ZJ 阳极氧化法和化学氧化法制备的Ti-O 基纳米线薄膜结构和性能结构和性能结构。 Huang, XW & Liu, ZJ. Huang, XW & Liu, ZJ Сравнительное исследование структуралары жана өздүк тонких пленок нанопроволоки на основе Ti-O, полученных анодированием жана химическим окислением. Хуан, XW жана Лю, ZJ Аноддоо жана химиялык кычкылдануу жолу менен даярдалган Ti-O нанозымдарынын жука пленкаларынын түзүлүшүн жана касиеттерин салыштырмалуу изилдөө.J. Alma mater. science Technology 30, 878–883 (2014).
Li, H., Wang, XT, Liu, Y. & Hou, BR Ag жана SnO2 көрүнгөн жарыктын астында 304SS коргоо үчүн TiO2 фотоаноддорун биргелешип сезгичтештиришкен. Li, H., Wang, XT, Liu, Y. & Hou, BR Ag жана SnO2 көрүнгөн жарыктын астында 304SS коргоо үчүн TiO2 фотоаноддорун биргелешип сезгичтештиришкен. Li, H., Wang, XT, Liu, Y. & Hou, BR Ag и SnO2 сенсибилизировали фотоаноды TiO2 үчүн 304SS в видимом свете. Li, H., Wang, XT, Liu, Y. & Hou, BR Ag жана SnO2 304SS фотоаноддорун көрүнгөн жарыкта коргоо үчүн косенсибилизациялашкан. Li, H., Wang, XT, Liu, Y. & Hou, BR Ag 和SnO2 共敏化TiO2 光阳极，用于在可见光下保护304SS。 Ли, Х., Ван, ХТ, Лю, Ю. жана Хоу, БР Аг Li, H., Wang, XT, Liu, Y. & Hou, BR Фотоанод TiO2, совместно сенсибилизированный Ag и SnO2, 304SS в видимом свете үчүн. Li, H., Wang, XT, Liu, Y. & Hou, BR 304SS көрүнгөн жарыктан коргоо үчүн Ag жана SnO2 менен биргеликте сезгичтелген TiO2 фотоаноду.Корос. илим. 82, 145–153 (2014).
Вэн, Ж.Х., Ван, Н., Ван, Ж. жана Хоу, Б.Р. Ag ​​жана CoFe2O4 көрүнгөн жарыктын астында 304 SS фотокатоддук коргоо үчүн TiO2 нанозымын биргелешип сезгичтештиришти. Вэн, Ж.Х., Ван, Н., Ван, Ж. жана Хоу, Б.Р. Ag ​​жана CoFe2O4 көрүнгөн жарыктын астында 304 SS фотокатоддук коргоо үчүн TiO2 нанозымын биргелешип сезгичтештиришти.Вэн, Ж.Х., Ван, Н., Ван, Ж. жана Хоу, Б.Р. Ag ​​жана CoFe2O4 көрүнгөн жарыкта 304 SS фотокатодду коргоо үчүн TiO2 нанозымы менен биргеликте сезгичтештирилген. Wen, ZH, Wang, N., Wang, J. & Hou, BR Ag 和CoFe2O4 共敏化TiO2 纳米线，用于在可见光下对304 SS 进杂 Wen, ZH, Wang, N., Wang, J. & Hou, BR AgВэн, Ж.Х., Ван, Н., Ван, Ж. жана Хоу, Б.Р. Ag ​​жана CoFe2O4 көрүнгөн жарыкта 304 SS фотокатодду коргоо үчүн TiO2 нанозымдарын биргелешип сезгичтештиришкен.Чечмелөө. J. Электрохимия. илим. 13, 752–761 (2018).
Бу, YY жана Ао, JP Металлдар үчүн фотоэлектрохимиялык катоддук коргоочу жарым өткөргүчтүү жука пленкалар боюнча сереп. Бу, YY жана Ao, JP Металлдар үчүн жарым өткөргүч жука пленкаларды фотоэлектрохимиялык катоддук коргоо боюнча сереп. Bu, YY & Ao, JP Обзор фотоэлектрохимической катодной защиты тонких полупроводниковых пленок для металлов. Бу, YY жана Ao, JP Металлдар үчүн жарым өткөргүчтүү жука пленкаларды фотоэлектрохимиялык катоддук коргоого сереп. Bu, YY & Ao, JP 金属光电化学阴极保护半导体薄膜综述。 Bu, YY & Ao, JP metallization 光电视光阴极电影电影电影电视设计。 Bu, YY & Ao, JP Обзор металлической фотоэлектрохимической катодной защиты тонких полупроводниковых пленок. Бу, YY жана Ao, JP Жука жарым өткөргүч пленкаларды металлдык фотоэлектрохимиялык катоддук коргоого сереп.Жашыл энергия чөйрөсү. 2, 331–362 (2017).