Nature.com भ्रमण गर्नुभएकोमा धन्यवाद।तपाईंले प्रयोग गरिरहनुभएको ब्राउजर संस्करणमा सीमित CSS समर्थन छ।उत्तम अनुभवको लागि, हामी तपाईंलाई अपडेट गरिएको ब्राउजर प्रयोग गर्न सिफारिस गर्छौं (वा इन्टरनेट एक्सप्लोररमा अनुकूलता मोड असक्षम गर्नुहोस्)।यस बीचमा, निरन्तर समर्थन सुनिश्चित गर्न, हामी शैली र जाभास्क्रिप्ट बिना साइट रेन्डर गर्नेछौं।
व्यापक रूपमा प्रयोग गरिएको स्टेनलेस स्टील र यसको गढिएको संस्करणहरू क्रोमियम अक्साइड समावेश भएको निष्क्रिय तहको कारण परिवेशको अवस्थाहरूमा क्षरण प्रतिरोधी छन्।स्टिलको जंग र क्षरण परम्परागत रूपमा यी तहहरूको विनाशसँग सम्बन्धित छ, तर विरलै माइक्रोस्कोपिक स्तरमा, सतह असंगतताको उत्पत्तिको आधारमा।यस कार्यमा, स्पेक्ट्रोस्कोपिक माइक्रोस्कोपी र केमोमेट्रिक विश्लेषण द्वारा पत्ता लगाएको नानोस्केल सतह रासायनिक विषमताले अप्रत्याशित रूपमा कोल्ड रोल्ड सेरियम परिमार्जित सुपर डुप्लेक्स स्टेनलेस स्टील 2507 (SDSS) को तातो विकृति व्यवहारको क्रममा विघटन र जंगमा हावी गर्दछ।अर्को तर्फ।यद्यपि एक्स-रे फोटोइलेक्ट्रोन माइक्रोस्कोपीले प्राकृतिक Cr2O3 तहको तुलनात्मक रूपमा समान कभरेज देखाएको छ, कोल्ड रोल्ड SDSS ले Fe/Cr अक्साइड तहमा Fe3+ रिच न्यानोस्ल्यान्डहरूको स्थानीयकृत वितरणको कारणले खराब निष्क्रियता परिणामहरू देखायो।आणविक स्तर मा यो ज्ञान स्टेनलेस स्टील जंग को एक गहिरो समझ प्रदान गर्दछ र समान उच्च मिश्र धातु धातुहरु को क्षरण को लडाई मा मद्दत गर्न को लागी आशा गरिन्छ।
स्टेनलेस स्टीलको आविष्कार भएदेखि, फेरोक्रोमियम मिश्रहरूको जंग प्रतिरोधलाई क्रोमियमलाई श्रेय दिइएको छ, जसले धेरै वातावरणहरूमा निष्क्रिय व्यवहार प्रदर्शन गर्ने बलियो अक्साइड/अक्सिहाइड्रोक्साइड बनाउँछ।परम्परागत (अस्टेनिटिक र फेरिटिक) स्टेनलेस स्टील्सको तुलनामा, राम्रो क्षरण प्रतिरोधका साथ सुपर डुप्लेक्स स्टेनलेस स्टील्स (SDSS) मा उत्कृष्ट मेकानिकल गुणहरू छन् 1,2,3।बढेको मेकानिकल बलले हल्का र थप कम्प्याक्ट डिजाइनहरूको लागि अनुमति दिन्छ।यसको विपरित, किफायती SDSS मा पिटिङ् र क्राइभस क्षरणको उच्च प्रतिरोध छ, जसले गर्दा लामो सेवा जीवन र प्रदूषण नियन्त्रण, रासायनिक कन्टेनरहरू, र अपतटीय तेल र ग्यास उद्योगमा व्यापक अनुप्रयोगहरू छन्।यद्यपि, तातो उपचार तापमानको साँघुरो दायरा र कमजोर ढाँचाले यसको व्यापक व्यावहारिक प्रयोगमा बाधा पुर्‍याउँछ।तसर्थ, SDSS माथिको गुणहरू सुधार गर्न परिमार्जन गरिएको छ।उदाहरणका लागि, 2507 SDSS (Ce-2507) मा N 6, 7, 8 को Ce परिमार्जन र उच्च थपहरू पेश गरिएको थियो।0.08 wt.% दुर्लभ पृथ्वी तत्व (Ce) को उपयुक्त एकाग्रताले DSS को मेकानिकल गुणहरूमा लाभकारी प्रभाव पार्छ, किनकि यसले अन्नको परिष्करण र अन्न सीमा बलमा सुधार गर्दछ।पहिरन र जंग प्रतिरोध, तन्य शक्ति र उपज शक्ति, र तातो कार्यशीलता पनि सुधार गरिएको छ।नाइट्रोजनको ठूलो मात्राले महँगो निकल सामग्रीलाई प्रतिस्थापन गर्न सक्छ, SDSS लाई थप लागत-प्रभावी बनाउँछ10।
भर्खरै, उत्कृष्ट यान्त्रिक गुणहरू प्राप्त गर्न SDSS विभिन्न तापक्रम (कम तापक्रम, चिसो र तातो) मा प्लास्टिक रूपमा विकृत गरिएको छ 6,7,8।जे होस्, SDSS को उत्कृष्ट जंग प्रतिरोध सतहमा पातलो अक्साइड फिल्मको उपस्थितिको कारण हो, जुन धेरै कारकहरूद्वारा प्रभावित हुन्छ, जस्तै विभिन्न अन्न सीमाहरू, अवांछित अवक्षेपणहरू र विभिन्न प्रतिक्रियाहरूसँग धेरै चरणहरूको उपस्थिति।विभिन्न austenitic र ferritic चरणहरु को आन्तरिक inhomogeneous माइक्रोस्ट्रक्चर विकृत छ 7।त्यसकारण, इलेक्ट्रोनिक संरचनाको स्तरमा त्यस्ता चलचित्रहरूको माइक्रोडोमेन गुणहरूको अध्ययन SDSS क्षरण बुझ्नको लागि महत्त्वपूर्ण महत्त्वको हुन्छ र जटिल प्रयोगात्मक प्रविधिहरू आवश्यक पर्दछ।अहिले सम्म, सतह-संवेदनशील विधिहरू जस्तै Auger इलेक्ट्रोन स्पेक्ट्रोस्कोपी11 र एक्स-रे फोटोइलेक्ट्रोन स्पेक्ट्रोस्कोपी 12,13,14,15 साथै हार्ड एक्स-रे फोटोइलेक्ट्रोन फोटोइलेक्ट्रोन प्रणाली फरक पार्छ, तर प्रायः अलग गर्न असफल हुन्छ, नानोस्केलमा अन्तरिक्षमा विभिन्न बिन्दुहरूमा एउटै तत्वको रासायनिक अवस्थाहरू।हालैका धेरै अध्ययनहरूले क्रोमियमको स्थानीय अक्सिडेशनलाई 17 अस्टेनिटिक स्टेनलेस स्टील्स, 18 मार्टेन्सिटिक स्टेनलेस स्टील्स, र SDSS 19, 20 को अवलोकन गरिएको जंग व्यवहारसँग जोडेको छ। यद्यपि, यी अध्ययनहरूले मुख्य रूपमा Cr heterogeneity को प्रभावमा केन्द्रित छन् (उदाहरणका लागि, Cr.3+ corristation)तत्वहरूको ओक्सीकरण अवस्थाहरूमा पार्श्व विषमता एउटै घटक तत्वहरू, जस्तै फलामको अक्साइडहरू भएका विभिन्न यौगिकहरूको कारणले हुन सक्छ।यी यौगिकहरूले थर्मोमेकानिकली प्रशोधन गरिएको सानो आकारलाई एकअर्कासँग नजिकै राख्छन्, तर संरचना र ओक्सीकरण अवस्थामा भिन्न हुन्छन् 16,21।त्यसकारण, अक्साइड फिल्महरूको विनाश प्रकट गर्न र त्यसपछि पिटिङ्लाई माइक्रोस्कोपिक स्तरमा सतह असंगतताको बुझाइ आवश्यक छ।यी आवश्यकताहरूको बावजुद, मात्रात्मक मूल्याङ्कनहरू जस्तै पार्श्व अक्सीकरण विषमता, विशेष गरी न्यानो/परमाणु स्केलमा फलामको, अझै पनि अभाव छ र क्षरण प्रतिरोधको लागि तिनीहरूको महत्त्व खोजिएको छैन।भर्खरै सम्म, विभिन्न तत्वहरूको रासायनिक अवस्था, जस्तै Fe र Ca, नानोस्केल सिन्क्रोट्रोन विकिरण सुविधाहरूमा सफ्ट एक्स-रे फोटोइलेक्ट्रोन माइक्रोस्कोपी (X-PEEM) प्रयोग गरेर स्टील नमूनाहरूमा मात्रात्मक रूपमा वर्णन गरिएको थियो।रासायनिक रूपमा संवेदनशील एक्स-रे अवशोषण स्पेक्ट्रोस्कोपी (XAS) प्रविधिहरूसँग मिलेर, X-PEEM ले उच्च स्थानिय र स्पेक्ट्रल रिजोल्युसनको साथ XAS मापनलाई सक्षम बनाउँछ, मौलिक संरचना र यसको रासायनिक अवस्थाको न्यानोमिटर स्केल 23 सम्म स्थानिय रिजोल्युसनको साथ रासायनिक जानकारी प्रदान गर्दछ।माइक्रोस्कोप अन्तर्गत प्रारम्भको साइटको यो स्पेक्ट्रोस्कोपिक अवलोकनले स्थानीय रासायनिक प्रयोगहरूलाई सुविधा दिन्छ र फे लेयरमा पहिले अनपेक्षित रासायनिक परिवर्तनहरू स्थानिक रूपमा प्रदर्शन गर्न सक्छ।
यस अध्ययनले नानोस्केलमा रासायनिक भिन्नताहरू पत्ता लगाउन PEEM को फाइदाहरू विस्तार गर्दछ र Ce-2507 को जंग व्यवहार बुझ्नको लागि एक अन्तरदृष्टिपूर्ण परमाणु-स्तर सतह विश्लेषण विधि प्रस्तुत गर्दछ।यसले K-means क्लस्टर chemometric data24 प्रयोग गर्दछ समावेश तत्वहरूको विश्वव्यापी रासायनिक संरचना (विषमता) नक्सा गर्न, तिनीहरूको रासायनिक अवस्थाहरू एक सांख्यिकीय प्रतिनिधित्वमा प्रस्तुत गरिएको छ।क्रोमियम अक्साइड फिल्म ब्रेकडाउनको कारणले हुने परम्परागत क्षरणको विपरीत, हालको खराब निष्क्रियता र खराब जंग प्रतिरोधको श्रेय Fe/Cr अक्साइड तह नजिकैको स्थानीयकृत Fe3+ रिच नानोइसल्याण्डहरूलाई दिइएको छ, जुन सुरक्षात्मक अक्साइडद्वारा आक्रमण हुन सक्छ।यसले ठाउँमा फिल्म बनाउँछ र क्षरण निम्त्याउँछ।
विकृत SDSS 2507 को संक्षारक व्यवहार पहिलो इलेक्ट्रोकेमिकल मापन प्रयोग गरेर मूल्याङ्कन गरिएको थियो।अंजीर मा।चित्र १ ले कोठाको तापक्रममा FeCl3 को अम्लीय (pH = 1) जलीय समाधानहरूमा चयन गरिएका नमूनाहरूको लागि Nyquist र Bode curves देखाउँछ।चयन गरिएको इलेक्ट्रोलाइटले एक बलियो अक्सिडाइजिंग एजेन्टको रूपमा कार्य गर्दछ, निष्क्रियता फिल्मको विघटन गर्ने प्रवृत्तिलाई चित्रण गर्दछ।यद्यपि सामग्री स्थिर कोठाको तापक्रम पिटिङ्बाट गुज्रिएको थिएन, यी विश्लेषणहरूले सम्भावित विफलता घटनाहरू र पोस्ट-क्षरण प्रक्रियाहरूमा अन्तरदृष्टि प्रदान गरे।इलेक्ट्रोकेमिकल इम्पेडेन्स स्पेक्ट्रोस्कोपी (EIS) स्पेक्ट्रा फिट गर्नको लागि समतुल्य सर्किट (Fig. 1d) प्रयोग गरिएको थियो, र सम्बन्धित फिटिङ परिणामहरू तालिका 1 मा देखाइएको छ। समाधान गरिएको र तातो काम गरिएको नमूनाहरूको परीक्षण गर्दा अपूर्ण आधा सर्कलहरू देखा पर्यो, जबकि सम्बन्धित कम्प्रेस गरिएको आधा सर्कलहरू (Fig1) कोल्ड सर्कलहरू थिए।EIS स्पेक्ट्रममा, अर्धवृत्त त्रिज्यालाई ध्रुवीकरण प्रतिरोध (Rp) 25,26 को रूपमा मान्न सकिन्छ।तालिका 1 मा समाधान उपचार गरिएको SDSS को Rp लगभग 135 kΩ cm-2 छ, यद्यपि तातो काम र चिसो रोल्ड SDSS को लागि हामीले क्रमशः 34.7 र 2.1 kΩ cm-2 को धेरै कम मानहरू देख्न सक्छौं।Rp मा यो महत्त्वपूर्ण कमीले निष्क्रियता र जंग प्रतिरोधमा प्लास्टिक विकृतिको हानिकारक प्रभावलाई संकेत गर्दछ, जुन अघिल्लो रिपोर्ट 27, 28, 29, 30 मा देखाइएको छ।
एक Nyquist, b, c Bode प्रतिबाधा र चरण रेखाचित्रहरू, र d को लागि बराबर सर्किट मोडेल, जहाँ RS इलेक्ट्रोलाइट प्रतिरोध हो, Rp ध्रुवीकरण प्रतिरोध हो, र QCPE गैर-आदर्श क्यापेसिटन्स (n) मोडल गर्न प्रयोग गरिने स्थिर चरण तत्व अक्साइड हो।EIS मापन नो-लोड क्षमतामा गरिएको थियो।
पहिलो अर्डर स्थिरांक बोडे रेखाचित्रमा देखाइएको छ र उच्च आवृत्ति पठारले इलेक्ट्रोलाइट प्रतिरोध RS26 को प्रतिनिधित्व गर्दछ।फ्रिक्वेन्सी घट्दै जाँदा, प्रतिबाधा बढ्छ र नकारात्मक चरण कोण पाइन्छ, क्यापेसिटन्स प्रभुत्व संकेत गर्दछ।चरण कोण बढ्छ, यसको अधिकतम मान अपेक्षाकृत फराकिलो फ्रिक्वेन्सी दायरामा राख्छ, र त्यसपछि घट्छ (चित्र 1c)।यद्यपि, सबै तीन अवस्थामा यो अधिकतम मान अझै पनि 90° भन्दा कम छ, क्यापेसिटिव फैलावटको कारणले गैर-आदर्श क्यापेसिटिव व्यवहारलाई संकेत गर्दछ।तसर्थ, QCPE स्थिर चरण तत्व (CPE) को सतह खुरदरापन वा inhomogeneity बाट व्युत्पन्न इन्टरफेसियल क्यापेसिटन्स वितरण को प्रतिनिधित्व गर्न प्रयोग गरिन्छ, विशेष गरी आणविक स्केल, फ्र्याक्टल ज्यामिति, इलेक्ट्रोड पोरोसिटी, गैर-एकसमान क्षमता, र सतह निर्भर वर्तमान वितरण को मामला मा।इलेक्ट्रोड ज्यामिति 31,32।CPE प्रतिबाधा:
जहाँ j काल्पनिक संख्या हो र ω कोणीय आवृत्ति हो।QCPE इलेक्ट्रोलाइट को सक्रिय खुला क्षेत्र को लागि एक आवृत्ति स्वतन्त्र स्थिर समानुपातिक छ।n एक आयामरहित पावर नम्बर हो जसले क्यापेसिटरको आदर्श क्यापेसिटिभ व्यवहारबाट विचलनलाई वर्णन गर्दछ, अर्थात् n 1 को नजिक छ, CPE शुद्ध क्यापेसिटन्सको नजिक छ, र यदि n शून्यको नजिक छ भने, यो प्रतिरोध हो।n को सानो विचलन, 1 को नजिक, ध्रुवीकरण परीक्षण पछि सतहको गैर-आदर्श क्यापेसिटिव व्यवहारलाई संकेत गर्दछ।कोल्ड रोल्ड SDSS को QCPE समान उत्पादनहरू भन्दा धेरै उच्च छ, जसको अर्थ सतहको गुणस्तर कम समान छ।
स्टेनलेस स्टील्सको धेरैजसो जंग प्रतिरोधी गुणहरूसँग मिल्दोजुल्दो, SDSS को अपेक्षाकृत उच्च Cr सामग्रीले सामान्यतया सतहमा निष्क्रिय सुरक्षात्मक अक्साइड फिल्मको उपस्थितिको कारण SDSS को उच्च जंग प्रतिरोधमा परिणाम दिन्छ।यो निष्क्रिय फिलिम सामान्यतया Cr3+ अक्साइड र/वा हाइड्रोक्साइडमा धनी हुन्छ, मुख्यतया Fe2+, Fe3+ अक्साइडहरू र/वा (ओक्सी) हाइड्रोक्साइडहरू 33 लाई एकीकृत गर्ने।समान सतह एकरूपता, निष्क्रिय अक्साइड तह, र सतहमा कुनै देखिने क्षति नभएको भएता पनि, माइक्रोस्कोपिक छविहरूले निर्धारण गरे अनुसार, 6,7 हट-वर्क गरिएको र चिल्ड-रोल्ड SDSS को जंग व्यवहार फरक छ र त्यसैले विरूपण माइक्रोस्ट्रक्चर र स्टिलको संरचनात्मक विशेषताको गहन अध्ययन आवश्यक छ।
विकृत स्टेनलेस स्टीलको माइक्रोस्ट्रक्चर मात्रात्मक रूपमा आन्तरिक र सिन्क्रोट्रोन उच्च-ऊर्जा एक्स-रेहरू (पूरक चित्रहरू 1, 2) प्रयोग गरेर जाँच गरिएको थियो।विस्तृत विश्लेषण पूरक जानकारीमा प्रदान गरिएको छ।यद्यपि तिनीहरू धेरै हदसम्म मुख्य चरणको प्रकारसँग मेल खान्छ, चरण भोल्युम अंशहरूमा भिन्नताहरू भेटिन्छन्, जुन पूरक तालिका 1 मा सूचीबद्ध छन्। यी भिन्नताहरू सतहमा असंगत चरण अंशहरू, साथै विभिन्न गहिराइहरूमा प्रदर्शन गरिएको भोल्युमेट्रिक चरण अंशहरूसँग सम्बन्धित हुन सक्छ।एक्स-रे विवर्तन द्वारा पत्ता लगाउने।(XRD) घटना फोटन्स को विभिन्न ऊर्जा स्रोतहरु संग।प्रयोगशाला स्रोतबाट XRD द्वारा निर्धारित कोल्ड रोल्ड नमूनाहरूमा अस्टेनाइटको तुलनात्मक रूपमा उच्च अनुपातले राम्रो निष्क्रियता र पछि राम्रो जंग प्रतिरोध35 संकेत गर्दछ, जबकि अधिक सटीक र सांख्यिकीय परिणामहरूले चरण अनुपातमा विपरीत प्रवृत्तिहरू संकेत गर्दछ।थप रूपमा, स्टिलको जंग प्रतिरोध पनि अनाज परिष्करणको डिग्री, अन्नको आकार घटाउने, माइक्रोडिफर्मेसनमा वृद्धि र थर्मोमेकानिकल उपचारको क्रममा हुने विस्थापन घनत्वमा निर्भर गर्दछ36,37,38।तातो काम गरिएका नमूनाहरूले अधिक दानायुक्त प्रकृतिको प्रदर्शन गर्दछ, माइक्रोन आकारको अन्नको सङ्केत गर्छ, जबकि चिसो-रोल्ड नमूनाहरूमा अवलोकन गरिएको चिल्लो छल्ले (पूरक चित्र 3) ले अघिल्लो कार्य6 मा नानोस्केलमा महत्त्वपूर्ण ग्रेन रिफाइनमेन्टलाई सङ्केत गर्छ, जसले चलचित्र निष्क्रियतामा योगदान गर्नुपर्छ।गठन र जंग प्रतिरोध को वृद्धि।उच्च विस्थापन घनत्व सामान्यतया पिटिङ्को कम प्रतिरोधसँग सम्बन्धित हुन्छ, जुन इलेक्ट्रोकेमिकल मापनसँग राम्रोसँग सहमत हुन्छ।
प्राथमिक तत्वहरूको माइक्रोडोमेनको रासायनिक अवस्थाहरूमा परिवर्तनहरू X-PEEM प्रयोग गरेर व्यवस्थित रूपमा अध्ययन गरिएको छ।मिश्रित तत्वहरूको प्रचुरताको बावजुद, Cr, Fe, Ni र Ce39 यहाँ छनोट गरिएको थियो, किनकि Cr एक प्यासिभेसन फिल्मको निर्माणको लागि मुख्य तत्व हो, Fe स्टीलको मुख्य तत्व हो, र Ni ले प्यासिभेसनलाई बढाउँछ र फेराइट-अस्टेनिटिक चरण संरचना र Ce परिमार्जनको उद्देश्यलाई सन्तुलनमा राख्छ।सिन्क्रोट्रोन विकिरणको ऊर्जा समायोजन गरेर, आरएएसलाई Cr (एज L2.3), Fe (एज L2.3), नि (एज L2.3) र Ce (एज M4.5) को मुख्य विशेषताहरूसँग सतहबाट लेपित गरिएको थियो।तातो बनाउने र चिसो रोलिङ Ce-2507 SDSS।उपयुक्त डाटा विश्लेषण प्रकाशित डाटा (जस्तै XAS 40, Fe L2 मा 41, 3 किनाराहरू) सँग ऊर्जा क्यालिब्रेसन समावेश गरेर प्रदर्शन गरिएको थियो।
अंजीर मा।चित्र २ ले व्यक्तिगत रूपमा चिन्हित स्थानहरूमा हट-वर्क गरिएको (चित्र 2a) र कोल्ड-रोल्ड (चित्र 2d) Ce-2507 SDSS र Cr र Fe L2,3 को सम्बन्धित XAS किनाराहरूको X-PEEM छविहरू देखाउँछ।XAS को L2,3 किनाराले स्पिन-अर्बिट विभाजन स्तर 2p3/2 (L3 किनारा) र 2p1/2 (L2 किनारा) मा इलेक्ट्रोन फोटोएक्सिटेशन पछि खाली 3d अवस्थाहरूको जाँच गर्दछ।Cr को भ्यालेन्स अवस्था बारे जानकारी XAS बाट चित्र 2b, e मा L2,3 किनारामा प्राप्त गरिएको थियो।न्यायाधीशहरु संग तुलना।42,43 ले देखाएको छ कि चार चुचुराहरू L3 किनारा नजिकै अवलोकन गरिएको थियो, जसलाई A (578.3 eV), B (579.5 eV), C (580.4 eV) र D (582.2 eV) नाम दिइएको थियो, Cr2O3 आयनसँग मिल्दोजुल्दो अक्टाहेड्रल Cr3+ प्रतिबिम्बित गर्दछ।प्रयोगात्मक स्पेक्ट्रा 2.0 eV44 को क्रिस्टल फिल्ड प्रयोग गरेर Cr L2.3 इन्टरफेसमा क्रिस्टल फिल्डको बहु गणनाबाट प्राप्त प्यानल b र e मा देखाइएको सैद्धान्तिक गणनाहरूसँग सहमत छ।तातो-कार्य र चिसो-रोल्ड SDSS को दुवै सतहहरू Cr2O3 को अपेक्षाकृत समान तहले लेपित छन्।
थर्मल रूपमा विकृत SDSS को एक X-PEEM थर्मल छवि b Cr L2.3 किनारा र c Fe L2.3 किनारा, d X-PEEM कोल्ड रोल्ड SDSS को थर्मल छवि e Cr L2.3 किनारा र f Fe L2.3 किनारा पक्ष (f) सँग सम्बन्धित।XAS स्पेक्ट्रालाई थर्मल छविहरू (a, d) मा चिन्ह लगाइएका विभिन्न स्थानिय स्थानहरूमा प्लट गरिएको छ, (b) र (e) मा सुन्तला रंगको थोपा रेखाहरूले 2.0 eV को क्रिस्टल फिल्ड मानको साथ Cr3+ को सिमुलेटेड XAS स्पेक्ट्रा प्रतिनिधित्व गर्दछ।X-PEEM छविहरूको लागि, छवि पढ्न योग्यता सुधार गर्न थर्मल प्यालेट प्रयोग गर्नुहोस्, जहाँ नीलो देखि रातो रङहरू एक्स-रे अवशोषणको तीव्रता (कम देखि उच्च) को समानुपातिक हुन्छन्।
यी धातु तत्वहरूको रासायनिक वातावरणको बावजुद, दुवै नमूनाहरूको लागि Ni र Ce मिश्र धातु तत्वहरूको थपको रासायनिक अवस्था अपरिवर्तित रह्यो।अतिरिक्त रेखाचित्र।आंकडा 5-9 ले X-PEEM छविहरू र Ni र Ce को लागि सम्बन्धित XAS स्पेक्ट्रा हट-वर्क गरिएको र चिसो-रोल्ड नमूनाहरूको सतहमा विभिन्न स्थानहरूमा देखाउँदछ।Ni XAS ले हट-वर्क गरिएको र चिसो-रोल्ड नमूनाहरूको सम्पूर्ण मापन गरिएको सतहमा Ni2+ को अक्सीकरण अवस्थाहरू देखाउँछ (पूरक छलफल)।यो ध्यान दिनुपर्छ कि, हट-वर्क गरिएको नमूनाहरूको मामलामा, Ce को XAS संकेत अवलोकन गरिएको थिएन, जबकि कोल्ड-रोल्ड नमूनाहरूको मामलामा, Ce3+ को स्पेक्ट्रम अवलोकन गरिएको थियो।कोल्ड-रोल्ड नमूनाहरूमा Ce स्पटहरूको अवलोकनले देखायो कि Ce मुख्य रूपमा अवक्षेपणको रूपमा देखा पर्दछ।
थर्मली रूपले विकृत SDSS मा, Fe L2,3 किनारामा XAS मा कुनै स्थानीय संरचनात्मक परिवर्तन देखिएन (चित्र 2c)।यद्यपि, फे म्याट्रिक्स माइक्रो-क्षेत्रीय रूपमा कोल्ड-रोल्ड SDSS को सात अनियमित रूपमा चयन गरिएको बिन्दुहरूमा यसको रासायनिक अवस्था परिवर्तन गर्दछ, चित्र 2f मा देखाइएको छ।थप रूपमा, चित्र 2f मा चयन गरिएका स्थानहरूमा Fe को स्थितिमा भएका परिवर्तनहरूको सही विचार प्राप्त गर्नको लागि, स्थानीय सतह अध्ययनहरू (चित्र 3 र पूरक चित्र 10) गरिएको थियो जसमा साना गोलाकार क्षेत्रहरू चयन गरिएका थिए।α-Fe2O3 प्रणालीहरूको Fe L2,3 किनाराको XAS स्पेक्ट्रा र Fe2+ अक्टाहेड्रल अक्साइडहरू 1.0 (Fe2+) र 1.0 (Fe3+) 44 को क्रिस्टल फिल्डहरू प्रयोग गरेर बहु ​​क्रिस्टल फिल्ड गणनाहरूद्वारा मोडेल गरिएको थियो। हामी नोट गर्छौं कि α-Fe2O3 र γ-Fe2O3 सँग विभिन्न स्थानीय सममितिहरू छन् 45,46, Fe3O4 सँग Fe2+ र Fe3+,47, र FeO45 दुवैको संयोजन औपचारिक रूपमा द्विभायित Fe2+ अक्साइड (3d6) को रूपमा छ। हामी नोट गर्छौं कि α-Fe2O3 र γ-Fe2O3 सँग विभिन्न स्थानीय सममितिहरू छन् 45,46, Fe3O4 सँग दुवै Fe2+ र Fe3+,47, र FeO45 को एक औपचारिक रूपमा divalent Fe2+ अक्साइड (3d6) को संयोजन छ।ध्यान दिनुहोस् कि α-Fe2O3 र γ-Fe2O3 सँग विभिन्न स्थानीय सममितिहरू छन्।ध्यान दिनुहोस् कि α-Fe2O3 र γ-Fe2O3 सँग विभिन्न स्थानीय सममितिहरू छन् 45,46, Fe3O4 सँग Fe2+ र Fe3+,47 को संयोजन छ र FeO45 ले औपचारिक द्विभाजक Fe2+ अक्साइड (3d6) को रूपमा कार्य गर्दछ।α-Fe2O3 मा सबै Fe3+ आयनहरूमा Oh पोजिसनहरू मात्र हुन्छन्, जबकि γ-Fe2O3 लाई सामान्यतया Fe3+ t2g [Fe3+5/3V1/3] जस्तै O4 स्पिनल जस्तै पदहरूमा रिक्त स्थानहरूद्वारा प्रतिनिधित्व गरिन्छ।त्यसकारण, γ-Fe2O3 मा Fe3+ आयनहरूमा Td र Oh दुवै स्थानहरू छन्।अघिल्लो पेपरमा उल्लेख गरिएझैं, ४५ यी दुईको तीव्रता अनुपात फरक भए तापनि तिनीहरूको तीव्रता अनुपात उदाहरण/t2g ≈1 हो, जबकि यस अवस्थामा अवलोकन गरिएको तीव्रता अनुपात उदाहरण/t2g लगभग 1 हो। यसले वर्तमान परिस्थितिमा Fe3+ मात्र रहेको सम्भावनालाई हटाउँछ।Fe2+ ​​र Fe3+ दुवैसँग Fe3O4 को मामलालाई विचार गर्दा, Fe को लागि कमजोर (बलियो) L3 किनारा भएको पहिलो विशेषताले सानो (ठूलो) अव्यवस्थित अवस्था t2g संकेत गर्छ।यो Fe2+ (Fe3+) मा लागू हुन्छ, जसले वृद्धिको पहिलो विशेषताले Fe2+47 को सामग्रीमा वृद्धि भएको देखाउँछ।यी परिणामहरूले Fe2+ र γ-Fe2O3, α-Fe2O3 र/वा Fe3O4 को सह-अस्तित्व कम्पोजिटहरूको चिसो-रोल्ड सतहमा हावी रहेको देखाउँछ।
XAS स्पेक्ट्रा (a, c) र (b, d) को विस्तारित फोटोइलेक्ट्रोन थर्मल इमेजिङ छविहरू फिगमा चयन गरिएका क्षेत्रहरू 2 र E भित्र विभिन्न स्थानिय स्थानहरूमा Fe L2,3 किनारा पार गर्दै।२d।
प्राप्त प्रायोगिक डेटा (चित्र 4a र पूरक चित्र 11) शुद्ध यौगिकहरू 40, 41, 48 को लागि डेटासँग तुलना गरीएको छ। तीन फरक प्रकारका प्रयोगात्मक रूपमा अवलोकन गरिएका Fe L-edge XAS स्पेक्ट्रा (XAS- 1, XAS-2 र XAS-3: Fig. 4a)।विशेष गरी, चित्र 3b मा स्पेक्ट्रम 2-a (XAS-1 को रूपमा चिनिन्छ) त्यसपछि स्पेक्ट्रम 2-b (XAS-2 लेबल गरिएको) सम्पूर्ण पत्ता लगाउने क्षेत्रमा अवलोकन गरिएको थियो, जबकि E-3 जस्तै स्पेक्ट्रा फिगर 3d मा अवलोकन गरिएको थियो (XAS-3 लेबल गरिएको) विशिष्ट स्थानहरूमा अवलोकन गरियो।एक नियमको रूपमा, अध्ययन अन्तर्गत नमूनामा अवस्थित भ्यालेन्स अवस्थाहरू पहिचान गर्न चार प्यारामिटरहरू प्रयोग गरियो: (1) वर्णक्रमीय विशेषताहरू L3 र L2, (2) L3 र L2 विशेषताहरूको ऊर्जा स्थिति, (3) ऊर्जा भिन्नता L3-L2।, (4) L2/L3 तीव्रता अनुपात।दृश्य अवलोकनका अनुसार (चित्र 4a), सबै तीन Fe कम्पोनेन्टहरू, अर्थात्, Fe0, Fe2+, र Fe3+, अध्ययन अन्तर्गत SDSS सतहमा अवस्थित छन्।गणना गरिएको तीव्रता अनुपात L2/L3 ले पनि सबै तीन घटकहरूको उपस्थितिलाई संकेत गर्‍यो।
अवलोकन गरिएको तीन फरक प्रयोगात्मक डेटा (ठोस रेखाहरू XAS-1, XAS-2 र XAS-3 चित्र 2 र 3 मा 2-a, 2-b र E-3 सँग मिल्दोजुल्दो छ) तुलना , Octahedrons Fe2+, Fe3+ क्रिस्टल फिल्ड मानहरू र 11 को V e5 मापन गरिएको डेटाको साथ, Fe3+ मापन गरिएको छ। XAS-1, XAS-2, XAS-3) र सम्बन्धित अनुकूलित LCF डेटा (ठोस कालो रेखा), र XAS-3 स्पेक्ट्राको रूपमा Fe3O4 (Fe को मिश्रित अवस्था) र Fe2O3 (शुद्ध Fe3+) मापदण्डहरू।
40, 41, 48 को तीन मापदण्डहरूको रैखिक संयोजन फिट (LCF) फलामको अक्साइड संरचना परिमाण गर्न प्रयोग गरिएको थियो।Fig. 4b–d मा देखाइए अनुसार, XAS-1, XAS-2 र XAS-3 नामक उच्चतम कन्ट्रास्ट देखाउने तीन चयन गरिएका Fe L-edge XAS स्पेक्ट्राको लागि LCF लागू गरिएको थियो।LCF फिटिङ्सका लागि, 10% Fe0 सबै केसहरूमा ध्यानमा राखिएको थियो किनभने हामीले सबै डेटामा सानो धार देख्यौं, र यो तथ्यको कारणले कि धातुको फलाम स्टिलको मुख्य भाग हो। वास्तवमा, Fe (~ 6 nm) 49 को लागि X-PEEM को प्रोबेशन गहिराई अनुमानित ओक्सीकरण तह मोटाई (थोरै > 4 nm) भन्दा ठूलो छ, जसले passivation लेयर मुनि फलामको म्याट्रिक्स (Fe0) बाट संकेत पत्ता लगाउन अनुमति दिन्छ। वास्तवमा, Fe (~ 6 nm) 49 को लागि X-PEEM को प्रोबेशन गहिराई अनुमानित ओक्सीकरण तह मोटाई (थोरै > 4 nm) भन्दा ठूलो छ, जसले passivation लेयर मुनि फलामको म्याट्रिक्स (Fe0) बाट संकेत पत्ता लगाउन अनुमति दिन्छ। Действительно, пробная глубина X-PEEM для Fe (~ 6 нм) 49 больше, чем предполагаемая толщина слоя окисления (немного > немного > 4 ь сигнал от железной матрицы (Fe0) под пассивирующим слоем। वास्तवमा, Fe (~ 6 nm) 49 को लागि प्रोब X-PEEM गहिराई ओक्सीकरण तह (थोरै> 4 nm) को अनुमानित मोटाई भन्दा ठूलो छ, जसले यसलाई passivation तह अन्तर्गत फलामको म्याट्रिक्स (Fe0) बाट संकेत पत्ता लगाउन सम्भव बनाउँछ।事实上，X-PEEM 对Fe（~6 nm）49 的检测深度大于估计的氧化层厚度（略> 4 nm），允若渂渇方的铁基体（Fe0）的信号।事实上, X-PEEM 对 Fe （~ 6 nm） 49 的 检测 深度 大于 的 氧化层 厚度 略 略> 4 एनएम层 下方 铁基体 （fe0） 的。 信号 信号 信号 信号 信号 信号 信号 信号 信号 信号 信号Фактически, глубина обнаружения Fe (~ 6 нм) 49 с помощью X-PEEM больше, чем предполагаемая толщина оксидного (~ 6 нм) яет обнаруживать сигнал от железной матрицы (Fe0) ниже пассивирующего слоя। वास्तवमा, X-PEEM द्वारा Fe (~6 nm) 49 को पत्ता लगाउने गहिराइ अक्साइड तह (थोरै > 4 nm) को अपेक्षित मोटाई भन्दा ठूलो छ, जसले फलामको म्याट्रिक्स (Fe0) बाट passivation लेयर मुनि संकेत पत्ता लगाउन अनुमति दिन्छ। .Fe2+ ​​र Fe3+ को विभिन्न संयोजनहरू अवलोकन गरिएको प्रयोगात्मक डेटाको लागि उत्तम सम्भावित समाधान खोज्न प्रदर्शन गरियो।अंजीर मा।4b ले Fe2+ र Fe3+ को संयोजनको लागि XAS-1 स्पेक्ट्रम देखाउँछ, जहाँ Fe2+ र Fe3+ को अनुपात लगभग 45% ले मिल्दोजुल्दो थियो, Fe को मिश्रित ओक्सीकरण अवस्थाहरू संकेत गर्दछ।जबकि XAS-2 स्पेक्ट्रमको लागि, Fe2+ र Fe3+ को प्रतिशत क्रमशः ~30% र 60% हुन्छ।Fe2+ ​​Fe3+ भन्दा कम छ।Fe2+ ​​र Fe3 को अनुपात, 1:2 को बराबर, यसको मतलब Fe3O4 Fe आयनहरू बीचको समान अनुपातमा गठन गर्न सकिन्छ।थप रूपमा, XAS-3 स्पेक्ट्रमको लागि, Fe2+ र Fe3+ को प्रतिशत ~10% र 80% हुन्छ, जसले Fe2+ को Fe3+ मा उच्च रूपान्तरणलाई संकेत गर्छ।माथि उल्लेख गरिए अनुसार, Fe3+ α-Fe2O3, γ-Fe2O3 वा Fe3O4 बाट आउन सक्छ।Fe3+ को सबैभन्दा सम्भावित स्रोत बुझ्नको लागि, XAS-3 स्पेक्ट्रम चित्र 4e मा विभिन्न Fe3+ मापदण्डहरूसँग प्लट गरिएको थियो, B शिखरलाई विचार गर्दा दुवै मापदण्डहरूसँग समानता देखाउँदै।यद्यपि, काँधका चुचुराहरूको तीव्रता (A: Fe2+ बाट) र B/A तीव्रता अनुपातले XAS-3 को स्पेक्ट्रम नजिक छ, तर γ-Fe2O3 को स्पेक्ट्रमसँग मेल खाँदैन भनेर संकेत गर्छ।बल्क γ-Fe2O3 को तुलनामा, A SDSS को Fe 2p XAS शिखरमा थोरै उच्च तीव्रता छ (चित्र 4e), जसले Fe2+ को उच्च तीव्रतालाई संकेत गर्दछ।यद्यपि XAS-3 को स्पेक्ट्रम γ-Fe2O3 सँग मिल्दोजुल्दो छ, जहाँ Fe3+ Oh र Td स्थितिहरूमा अवस्थित छ, L2,3 किनारा वा L2/L3 तीव्रता अनुपातको साथ मात्र विभिन्न भ्यालेन्स अवस्थाहरूको पहिचान र समन्वय निरन्तर अनुसन्धानको विषय बनेको छ।अन्तिम स्पेक्ट्रमलाई असर गर्ने विभिन्न कारकहरूको जटिलताका कारण छलफल।
माथि वर्णित रुचिका चयन गरिएका क्षेत्रहरूको रासायनिक अवस्थाको वर्णक्रमीय भिन्नताहरूको अतिरिक्त, K-means क्लस्टरिङ विधि प्रयोग गरेर नमूना सतहमा प्राप्त सबै XAS स्पेक्ट्रालाई वर्गीकरण गरेर मुख्य तत्वहरू Cr र Fe को विश्वव्यापी रासायनिक विषमता पनि मूल्याङ्कन गरिएको थियो।Cr L किनारा प्रोफाइलहरूले फिगमा देखाइएको तातो-कार्य र चिसो-रोल्ड नमूनाहरूमा दुई स्थानिय रूपमा वितरित इष्टतम क्लस्टरहरू बनाउँदछ।5. XAS Cr स्पेक्ट्राका दुई सेन्ट्रोइडहरू तुलना गर्न मिल्ने भएकाले कुनै पनि स्थानीय संरचनात्मक परिवर्तनहरू उस्तै मानिएको छैन भन्ने कुरा स्पष्ट छ।यी दुई क्लस्टरहरूको वर्णक्रमीय आकारहरू लगभग Cr2O342 सँग मिल्दोजुल्दो छन्, जसको मतलब Cr2O3 तहहरू SDSS मा तुलनात्मक रूपमा समान दूरीमा छन्।
Cr L K- भनेको किनारा क्षेत्र क्लस्टरहरू, र b सम्बन्धित XAS सेन्ट्रोइडहरू हुन्।K-means को X-PEEM कोल्ड-रोल्ड SDSS को तुलनाको परिणाम: C Cr L2.3 K-means क्लस्टरहरूको किनारा क्षेत्र र d सम्बन्धित XAS सेन्ट्रोइडहरू।
थप जटिल FeL किनारा नक्साहरू चित्रण गर्न, क्रमशः तातो-कार्य र चिसो-रोल्ड नमूनाहरूको लागि चार र पाँच अनुकूलित क्लस्टरहरू र तिनीहरूसँग सम्बन्धित सेन्ट्रोइडहरू (स्पेक्ट्रल प्रोफाइलहरू) प्रयोग गरियो।तसर्थ, चित्र ४ मा देखाइएको LCF फिट गरेर Fe2+ र Fe3+ को प्रतिशत (%) प्राप्त गर्न सकिन्छ।Fe0 को प्रकार्यको रूपमा स्यूडोइलेक्ट्रोड सम्भावित एप्स्यूडो सतह अक्साइड फिल्मको माइक्रोकेमिकल असंगतता प्रकट गर्न प्रयोग गरिएको थियो।Epseudo लगभग मिश्रण नियम द्वारा अनुमानित छ,
जहाँ \(\rm{E}_{\rm{Fe}/\rm{Fe}^{2 + (3 + )}}\) बराबर \(\rm{Fe} + 2e^ – \ to \rm { Fe}^{2 + (3 + )}\), 0.440 र 0.036 V, क्रमशः।कम सम्भावना भएका क्षेत्रहरूमा Fe3+ कम्पाउन्डको उच्च सामग्री हुन्छ।थर्मल रूपमा विकृत नमूनाहरूमा सम्भावित वितरण लगभग 0.119 V (चित्र 6a, b) को अधिकतम परिवर्तनको साथ स्तरित क्यारेक्टर हुन्छ।यो सम्भावित वितरण सतह टोपोग्राफी (चित्र 6a) सँग नजिकबाट सम्बन्धित छ।अन्तर्निहित लामिनार भित्री भागमा कुनै अन्य स्थिति-निर्भर परिवर्तनहरू अवलोकन गरिएन (चित्र 6b)।यसको विपरित, कोल्ड-रोल्ड SDSS मा Fe2+ र Fe3+ को विभिन्न सामग्रीहरूसँग भिन्न अक्साइडहरूको जडानको लागि, कसैले स्यूडोपोटेन्शियल (चित्र 6c, d) को गैर-एकसमान प्रकृति अवलोकन गर्न सक्छ।Fe3+ अक्साइड र/वा (ओक्सी) हाइड्रोक्साइडहरू स्टिलमा खियाका मुख्य घटक हुन् र अक्सिजन र पानीमा पारगम्य हुन्छन्।यस अवस्थामा, Fe3+ मा धनी टापुहरूलाई स्थानीय रूपमा वितरण गरिएको मानिन्छ र क्षरणित क्षेत्रहरू मान्न सकिन्छ।एकै समयमा, सम्भावित क्षेत्रको ढाँचा, सम्भाव्यताको निरपेक्ष मानको सट्टा, सक्रिय क्षरण साइटहरूको स्थानीयकरणको लागि सूचकको रूपमा प्रयोग गर्न सकिन्छ।कोल्ड रोल्ड SDSS को सतहमा Fe2+ र Fe3+ को यो असमान वितरणले स्थानीय रसायन परिवर्तन गर्न सक्छ र अक्साइड फिल्म ब्रेकडाउन र क्षरण प्रतिक्रियाहरूको समयमा थप व्यावहारिक सक्रिय सतह क्षेत्र प्रदान गर्न सक्छ, अन्तर्निहित धातु म्याट्रिक्सलाई क्षरण गर्न जारी राख्न अनुमति दिन्छ, परिणामस्वरूप आन्तरिक विषमता।गुणहरू र निष्क्रिय तहको सुरक्षात्मक गुणहरू कम गर्दछ।
K- भनेको तातो-विकृत X-PEEM ac र कोल्ड-रोल्ड SDSS को df को Fe L2.3 किनारा क्षेत्रमा क्लस्टरहरू र सम्बन्धित XAS सेन्ट्रोइडहरू हुन्।a, d K- अर्थ X-PEEM छविहरूमा ओभरलेड क्लस्टर प्लटहरू।गणना गरिएको स्यूडोइलेक्ट्रोड सम्भाव्यता (Epseudo) K-means क्लस्टर प्लटसँगै उल्लेख गरिएको छ।X-PEEM छविको चमक, चित्र 2 मा रंग जस्तै एक्स-रे अवशोषण तीव्रता समानुपातिक छ।
तुलनात्मक रूपमा समान Cr तर Fe को फरक रासायनिक अवस्थाले तातो काम र चिसो-रोल्ड Ce-2507 मा विभिन्न अक्साइड फिल्म क्षति र क्षरण ढाँचाहरू निम्त्याउँछ।कोल्ड रोल्ड Ce-2507 को यो सम्पत्ति राम्रोसँग अध्ययन गरिएको छ।यस लगभग तटस्थ कार्यमा परिवेशको हावामा फेको अक्साइड र हाइड्रोक्साइडको गठनको सन्दर्भमा, प्रतिक्रियाहरू निम्नानुसार छन्:
माथिका प्रतिक्रियाहरू X-PEEM विश्लेषणको आधारमा निम्न परिदृश्यहरूमा देखा पर्दछ।Fe0 सँग सम्बन्धित सानो काँध अन्तर्निहित धातु फलामसँग सम्बन्धित छ।वातावरणसँग धातुको Fe को प्रतिक्रियाले Fe(OH)2 तह (समीकरण (5)) को गठनमा परिणाम दिन्छ, जसले Fe L-edge XAS मा Fe2+ संकेतलाई बढाउँछ।हावामा लामो समयसम्म सम्पर्क गर्दा Fe(OH)252,53 पछि Fe3O4 र/वा Fe2O3 अक्साइडहरू बन्न सक्छ।Fe3O4 र Fe2O3 को दुई स्थिर रूपहरू, Cr3+ रिच सुरक्षात्मक तहमा पनि बन्न सक्छन्, जसमध्ये Fe3O4 ले एक समान र टाँसिने संरचनालाई प्राथमिकता दिन्छ।मिश्रित ओक्सीकरण अवस्था (XAS-1 स्पेक्ट्रम) मा दुवै परिणामहरूको उपस्थिति।XAS-2 स्पेक्ट्रम मुख्यतया Fe3O4 सँग मेल खान्छ।धेरै ठाउँमा XAS-3 स्पेक्ट्राको अवलोकनले γ-Fe2O3 मा पूर्ण रूपान्तरणलाई संकेत गरेको छ।अनफोल्ड गरिएको एक्स-रेहरूको प्रवेश गहिराई लगभग 50 एनएम भएकोले, तल्लो तहबाट आएको संकेतले A शिखरको उच्च तीव्रतामा परिणाम दिन्छ।
XPA स्पेक्ट्रमले देखाउँछ कि अक्साइड फिल्मको Fe कम्पोनेन्टमा Cr अक्साइड तहसँग मिलाएर तहको संरचना हुन्छ।क्षरणको समयमा Cr2O3 को स्थानीय असंगतताको कारणले निष्क्रियताको लक्षणहरूको विपरीत, यस कार्यमा Cr2O3 को एकसमान तहको बावजुद, यस अवस्थामा, विशेष गरी चिसो-रोल्ड नमूनाहरूको लागि कम जंग प्रतिरोध अवलोकन गरिन्छ।अवलोकन गरिएको व्यवहारलाई माथिल्लो तह (Fe) मा रासायनिक अक्सीकरण अवस्थाको विषमताको रूपमा बुझ्न सकिन्छ, जसले क्षरण प्रदर्शनलाई असर गर्छ।माथिल्लो तह (आइरन अक्साइड) र तल्लो तह (क्रोमियम अक्साइड) 52,53 को समान स्टोइचियोमेट्रीको कारण तिनीहरू बीचको राम्रो अन्तरक्रिया (आसंजन) ले जालीमा धातु वा अक्सिजन आयनहरूको ढिलो ढुवानीमा जान्छ, जसले फलस्वरूप, जंग प्रतिरोधमा वृद्धि हुन्छ।त्यसकारण, एक निरन्तर स्टोइचियोमेट्रिक अनुपात, अर्थात् Fe को एक ओक्सीकरण अवस्था, अचानक स्टोइचियोमेट्रिक परिवर्तनहरू भन्दा राम्रो हुन्छ।तातो-विकृत SDSS मा अधिक समान सतह, एक घन सुरक्षात्मक तह, र राम्रो जंग प्रतिरोध छ।जहाँ कोल्ड-रोल्ड SDSS को लागि, सुरक्षात्मक तह अन्तर्गत Fe3+-धनी टापुहरूको उपस्थितिले सतहको अखण्डतालाई उल्लङ्घन गर्छ र नजिकैको सब्सट्रेटमा ग्याल्भेनिक क्षरण निम्त्याउँछ, जसले Rp (तालिका 1) मा तीव्र गिरावट निम्त्याउँछ।EIS स्पेक्ट्रम र यसको जंग प्रतिरोध कम छ।यो देख्न सकिन्छ कि प्लास्टिक विकृतिको कारण Fe3+ समृद्ध टापुहरूको स्थानीय वितरणले मुख्यतया जंग प्रतिरोधलाई असर गर्छ, जुन यो काममा एक सफलता हो।तसर्थ, यस अध्ययनले प्लास्टिक विरूपण विधिद्वारा अध्ययन गरिएको SDSS नमूनाहरूको जंग प्रतिरोधमा कमीको स्पेक्ट्रोस्कोपिक माइक्रोस्कोपिक छविहरू प्रस्तुत गर्दछ।
थप रूपमा, यद्यपि डुअल फेज स्टिलहरूमा दुर्लभ पृथ्वी मिश्र धातुले राम्रो प्रदर्शन देखाउँदछ, स्पेक्ट्रोस्कोपिक माइक्रोस्कोपी अनुसार जंग व्यवहारको सर्तमा व्यक्तिगत स्टील म्याट्रिक्ससँग यस अतिरिक्त तत्वको अन्तर्क्रिया मायावी रहन्छ।Ce सिग्नलहरूको उपस्थिति (XAS M-edges मार्फत) कोल्ड रोलिङको समयमा केही ठाउँहरूमा मात्र देखिन्छ, तर SDSS को तातो विरूपणको समयमा गायब हुन्छ, स्टिल म्याट्रिक्समा Ce को स्थानीय वर्षाको संकेत गर्दछ, एकरूप मिश्र धातुको सट्टा।SDSS6,7 को मेकानिकल गुणहरूलाई उल्लेखनीय रूपमा सुधार नगर्दा, दुर्लभ पृथ्वी तत्वहरूको उपस्थितिले समावेशहरूको आकार घटाउँछ र प्रारम्भिक क्षेत्रमा पिटिङलाई रोक्छ भन्ने सोचाइ छ54।
निष्कर्षमा, यो कामले 2507 SDSS को क्षरणमा नानोस्केल कम्पोनेन्टको रासायनिक सामग्री परिमार्जन गरेर सेरियमसँग परिमार्जन गरिएको सतह विषमताको प्रभावलाई खुलासा गर्दछ।हामी प्रश्नको जवाफ दिन्छौं कि किन स्टेनलेस स्टील सुरक्षात्मक अक्साइड तह मुनि पनि यसको माइक्रोस्ट्रक्चर, सतह रसायन विज्ञान, र K-means क्लस्टरिङ प्रयोग गरेर संकेत प्रशोधन को मात्रा मापन गरेर कोर्रोड हुन्छ।यो स्थापित गरिएको छ कि Fe3+ मा धनी टापुहरू, मिश्रित Fe2+/Fe3+ को सम्पूर्ण विशेषता सहित तिनीहरूको अष्टहेड्रल र टेट्राहेड्रल समन्वय सहित, कोल्ड-रोल्ड अक्साइड फिल्म SDSS को क्षति र क्षरणको स्रोत हो।Fe3+ द्वारा हावी भएको Nanoislands ले पर्याप्त stoichiometric Cr2O3 passivating लेयरको उपस्थितिमा पनि खराब जंग प्रतिरोधको नेतृत्व गर्दछ।जंगमा नानोस्केल रासायनिक विषमताको प्रभाव निर्धारण गर्न विधिगत प्रगतिको अतिरिक्त, चलिरहेको कामले इस्पात निर्माणको क्रममा स्टेनलेस स्टील्सको जंग प्रतिरोध सुधार गर्न ईन्जिनियरिङ् प्रक्रियाहरूलाई प्रेरित गर्ने अपेक्षा गरिएको छ।
यस अध्ययनमा प्रयोग गरिएको Ce-2507 SDSS इन्गट तयार गर्न, शुद्ध फलामको ट्युबले सिल गरिएको Fe-Ce मास्टर मिश्र धातु सहितको मिश्रित संरचनालाई 150 kg मध्यम फ्रिक्वेन्सी इन्डक्सन फर्नेसमा पगालिएको स्टिल उत्पादन गर्न र मोल्डमा खन्याइयो।मापन गरिएको रासायनिक संरचनाहरू (wt%) पूरक तालिका २ मा सूचीबद्ध छन्। इन्गटहरू पहिले तातो नक्कली ब्लकहरूमा बनाइन्छ।त्यसपछि यसलाई ठोस समाधानको अवस्थामा स्टिल प्राप्त गर्न 60 मिनेटको लागि 1050 डिग्री सेल्सियसमा एनेल गरियो, र त्यसपछि कोठाको तापक्रममा पानीमा निभाइयो।अध्ययन गरिएका नमूनाहरू चरणहरू, अन्नको आकार र आकारविज्ञान अध्ययन गर्न TEM र DOE प्रयोग गरी विस्तृत रूपमा अध्ययन गरियो।नमूनाहरू र उत्पादन प्रक्रिया बारे थप विस्तृत जानकारी अन्य स्रोतहरूमा फेला पार्न सकिन्छ 6,7।
तातो कम्प्रेसनको लागि बेलनाकार नमूनाहरू (φ10 mm × 15 mm) प्रशोधन गरियो ताकि सिलिन्डरको अक्ष ब्लकको विरूपण दिशाको समानान्तर थियो।0.01-10 s-1 को दायरामा स्थिर तनाव दरमा ग्लेबल-3800 थर्मल सिम्युलेटर प्रयोग गरेर 1000-1150 डिग्री सेल्सियसको दायरामा विभिन्न तापमानहरूमा उच्च-तापमान कम्प्रेसन गरिएको थियो।विरूपण हुनु अघि, नमूनाहरूलाई 10 °C s-1 को दरमा 2 मिनेटको लागि चयन गरिएको तापमानमा तापमान ढाँचा हटाउनको लागि तताइएको थियो।तापक्रम एकरूपता हासिल गरेपछि, नमूना ०.७ को साँचो स्ट्रेन मानमा विकृत भयो।विरूपण पछि, विकृत संरचना जोगाउन नमूनाहरू तुरुन्तै पानीले निभाइयो।कडा नमूना त्यसपछि कम्प्रेसन दिशामा समानान्तर काटिएको छ।यस विशेष अध्ययनको लागि, हामीले 1050 ° C, 10 s-1 को तातो तनाव अवस्था भएको नमूना छान्यौं किनभने अवलोकन गरिएको माइक्रोहार्डनेस अन्य नमूनाहरू भन्दा बढी थियो।
Ce-2507 ठोस समाधानको विशाल (80 × 10 × 17 mm3) नमूनाहरू LG-300 थ्री-फेज एसिन्क्रोनस दुई-रोल मिलमा अन्य सबै विरूपण स्तरहरू बीच उत्कृष्ट मेकानिकल गुणहरू सहित प्रयोग गरिएको थियो।प्रत्येक मार्गको लागि स्ट्रेन दर र मोटाई घटाइ क्रमशः 0.2 m·s-1 र 5% हो।
एक Autolab PGSTAT128N इलेक्ट्रोकेमिकल वर्कस्टेशन SDSS इलेक्ट्रोकेमिकल मापनको लागि प्रयोग गरिएको थियो मोटाईमा 90% कमी (1.0 बराबर ट्रु स्ट्रेन) मा कोल्ड रोलिंग पछि र 10 s-1 को लागि 0.7 को साँचो स्ट्रेनमा 1050 ° C मा तातो थिचे पछि।वर्कस्टेशनमा तीन-इलेक्ट्रोड सेल छ जसमा संतृप्त क्यालोमेल इलेक्ट्रोड सन्दर्भ इलेक्ट्रोडको रूपमा, ग्रेफाइट काउन्टर इलेक्ट्रोड, र काम गर्ने इलेक्ट्रोडको रूपमा SDSS नमूना छ।नमूनाहरू 11.3 मिमी व्यासको सिलिन्डरहरूमा काटिएका थिए, जसको छेउमा तामाको तारहरू सोल्डर गरिएको थियो।नमूनाहरू त्यसपछि इपक्सीसँग फिक्स गरियो, काम गर्ने इलेक्ट्रोडको रूपमा १ सेमी २ को खुला क्षेत्र छोडेर (बेलनाकार नमूनाको तल्लो भाग)।इपोक्सीको उपचार गर्दा र त्यसपछि स्यान्डिङ र पालिसिङ गर्दा क्र्याक हुनबाट जोगिन सावधान रहनुहोस्।काम गर्ने सतहहरू 1 μm को कण आकारको साथ हीरा पालिश गर्ने सस्पेन्सनले भुइँमा र पालिश गरिएको थियो, डिस्टिल्ड पानी र इथेनोलले धोइयो, र चिसो हावामा सुकाइयो।इलेक्ट्रोकेमिकल मापन अघि, पालिश गरिएको नमूनाहरू प्राकृतिक अक्साइड फिल्म बनाउनको लागि धेरै दिनसम्म हावामा पर्दान्थे।FeCl3 (6.0 wt%) को एक जलीय समाधान, ASTM सिफारिसहरू अनुसार HCl सँग pH = 1.0 ± 0.01 मा स्थिर, स्टेनलेस स्टील 55 को क्षरणलाई गति दिन प्रयोग गरिन्छ किनभने यो बलियो अक्सिडाइजिंग क्षमता र कम pH32 मानक G492 मानकको साथ क्लोराइड आयनहरूको उपस्थितिमा संक्षारक हुन्छ।कुनै पनि मापन गर्नु अघि स्थिर स्थितिमा पुग्न नमूनालाई 1 घण्टाको लागि परीक्षण समाधानमा डुबाउनुहोस्।ठोस-समाधान, तातो-गठित, र चिसो-रोल्ड नमूनाहरूका लागि, प्रतिबाधा मापनहरू क्रमशः 0.39, 0.33, र 0.25 V को खुला सर्किट क्षमताहरू (OPC) मा 1 105 देखि 0.1 Hz सम्मको आवृत्ति दायरामा 5 mV को आयामको साथमा गरियो।सबै रासायनिक परीक्षणहरू डाटा पुन: उत्पादन योग्यता सुनिश्चित गर्न समान अवस्थाहरूमा कम्तिमा 3 पटक दोहोर्याइएको थियो।
HE-SXRD मापनको लागि, 1 × 1 × 1.5 mm3 नाप्ने आयताकार डुप्लेक्स स्टिल ब्लकहरू सीएलएस, क्यानडा56 मा ब्रोकहाउस उच्च-ऊर्जा विगलरको बीम चरण संरचनाको मात्रा मापन गर्न मापन गरियो।डेटा सङ्कलन कोठाको तापक्रममा डेबी-शेरर ज्यामिति वा प्रसारण ज्यामितिमा गरिएको थियो।LaB6 क्यालिब्रेटरसँग क्यालिब्रेट गरिएको एक्स-रे तरंग दैर्ध्य ०.२१२५६१ Å हो, जुन ५८ केभीसँग मेल खान्छ, जुन प्रयोगशाला एक्स-रे स्रोतको रूपमा प्रयोग हुने Cu Kα (8 keV) भन्दा धेरै बढी हो।नमूना डिटेक्टर देखि 740 मिमी को दूरी मा स्थित थियो।प्रत्येक नमूनाको पत्ता लगाउने भोल्युम 0.2 × 0.3 × 1.5 mm3 हो, जुन किरण आकार र नमूना मोटाई द्वारा निर्धारण गरिन्छ।सबै डेटा पर्किन एल्मर एरिया डिटेक्टर, फ्ल्याट प्यानल एक्स-रे डिटेक्टर, 200 µm पिक्सेल, 40 × 40 cm2 0.3 s र 120 फ्रेमको एक्सपोजर समय प्रयोग गरेर सङ्कलन गरिएको थियो।
दुई चयन गरिएको मोडेल प्रणालीहरूको X-PEEM मापन MAX IV प्रयोगशाला (लुन्ड, स्वीडेन) मा Beamline MAXPEEM PEEM अन्तिम स्टेशनमा गरिएको थियो।नमूनाहरू इलेक्ट्रोकेमिकल मापनको लागि जस्तै रूपमा तयार गरिएको थियो।तयार गरिएका नमूनाहरूलाई धेरै दिनसम्म हावामा राखिएको थियो र सिन्क्रोट्रोन फोटानहरूसँग विकिरण गर्नु अघि अल्ट्राहाई भ्याकुम चेम्बरमा डिगास गरिएको थियो।बीम रेखाको ऊर्जा रिजोल्युसन N 1 s बाट 1\(\pi _g^ \ast\) नजिकैको hv = 401 eV को E3/2 मा फोटोन ऊर्जाको निर्भरताको साथ N 1 s देखि 1\(\pi _g^ \ast\) मा आयन उपज स्पेक्ट्रम मापन गरेर प्राप्त गरिएको थियो। ऊर्जा दायरा। तसर्थ, बिमलाइन ऊर्जा रिजोल्युसन E/∆E = 700 eV/0.3 eV > 2000 र फ्लक्स ≈1012 ph/s हुने अनुमान गरिएको थियो एक परिमार्जित SX-700 मोनोक्रोमेटर प्रयोग गरी Si 1200-लाइन mm−1 को लागि ग्रेटिंग, 2p L2p L2p, C3p, 2,3 किनारा, र Ce M4,5 किनारा। तसर्थ, Fe 2p. L2p L2p L3ge, 2p L3ge, 2p L3ge, को लागि Si 1200-line mm−1 ग्रेटिंगको साथ परिमार्जित SX-700 मोनोक्रोमेटर प्रयोग गरेर बिमलाइन ऊर्जा रिजोलुसन E/∆E = 700 eV/0.3 eV > 2000 र फ्लक्स ≈1012 ph/s हुने अनुमान गरिएको थियो। 2.3 किनारा, र Ce M4.5 किनारा। Таким образом, энергетическое разрешение канала пучка было оценено как E/∆E = 700 эВ/0,3 эВ > 2000 и поток ≈1010 ицированного монохроматора SX-700 с решеткой Si 1200 штрихов/мм для Fe кромка 2p L2,3, кромка Cr 2p L2,3, кромка Ni 2p L2,4мка,3. यसरी, बिम च्यानलको उर्जा रिजोल्युसन E/∆E = 700 eV/0.3 eV > 2000 र flux ≈1012 f/s को रूपमा परिमार्जित SX-700 मोनोक्रोमेटरको Si grating को 1200 लाइनहरू/mm को Fe edge, 2p L2p L2edge, Nip L2edge, 2p L2ed. .3, र Ce edge M4.5।因此，光束线能量分辨率估计为E/ΔE = 700 eV/0.3 eV > 2000 和通量≈1012 ph/s 1012 ph/s, 通过佸翦 1mm栅的改进的SX-700 单色器用于Fe 2p L2,3 边缘、Cr 2p L2,3 边缘、Ni 2p L2,3 边缘和Ce M4,5.因此, 光束线 能量 分辨率 为 为 为 δe = 700 EV/0.3 EV> 2000 和 ≈1012 PH/S, 分辨率mm-1 光栅 改进 的 SX-700 单色器 于 于 于 用 用Fe 2p L2.3 边缘、Cr 2p L2.3 边i缘单 2p L2.3边缘।यसरी, १२०० लाइन Si grating को साथ परिमार्जित SX-700 मोनोक्रोमेटर प्रयोग गर्दा।3, Cr edge 2p L2.3, Ni edge 2p L2.3 र Ce edge M4.5।०.२ eV चरणहरूमा फोटोन ऊर्जा स्क्यान गर्नुहोस्।प्रत्येक उर्जामा, PEEM छविहरू 2 x 2 बिनहरूसँग TVIPS F-216 फाइबर-कपल्ड CMOS डिटेक्टर प्रयोग गरेर रेकर्ड गरियो, जसले दृश्यको 20 µm फिल्डमा 1024 × 1024 पिक्सेलको रिजोल्युसन प्रदान गर्दछ।छविहरूको एक्सपोजर समय 0.2 s थियो, औसत 16 फ्रेमहरू।फोटोइलेक्ट्रोन छवि ऊर्जा अधिकतम माध्यमिक इलेक्ट्रोन संकेत प्रदान गर्न को लागी यस तरीकाले छनोट गरिएको छ।सबै मापन एक रैखिक ध्रुवीकृत फोटोन बीम प्रयोग गरेर सामान्य घटनाहरूमा गरिएको थियो।मापनको बारेमा थप जानकारी अघिल्लो अध्ययनमा फेला पार्न सकिन्छ।कुल इलेक्ट्रोन यील्ड (TEY) पत्ता लगाउने मोड र X-PEEM49 मा यसको प्रयोगको अध्ययन गरेपछि, यस विधिको परीक्षण गहिराई Cr संकेतको लागि लगभग 4-5 nm र Fe को लागि लगभग 6 nm हुने अनुमान गरिएको छ।Cr गहिराई अक्साइड फिल्मको मोटाई (~ 4 nm) 60,61 को धेरै नजिक छ जबकि Fe गहिराई मोटाई भन्दा ठूलो छ।Fe L को किनारमा सङ्कलन गरिएको XRD फलामको अक्साइडको XRD र म्याट्रिक्सबाट Fe0 को मिश्रण हो।पहिलो अवस्थामा, उत्सर्जित इलेक्ट्रोनहरूको तीव्रता TEY मा योगदान गर्ने सबै सम्भावित प्रकारका इलेक्ट्रोनहरूबाट आउँछ।यद्यपि, शुद्ध फलामको संकेतलाई इलेक्ट्रोनहरू अक्साइड तहबाट सतहमा जान र विश्लेषकद्वारा सङ्कलन गर्न उच्च गतिज ऊर्जा चाहिन्छ।यस अवस्थामा, Fe0 संकेत मुख्यतया LVV Auger इलेक्ट्रोनहरू, साथै तिनीहरूद्वारा उत्सर्जित माध्यमिक इलेक्ट्रोनहरूको कारणले हो।थप रूपमा, यी इलेक्ट्रोनहरूद्वारा योगदान गरिएको TEY तीव्रताले इलेक्ट्रोन एस्केप पथको समयमा क्षय गर्छ, फलामको XAS नक्सामा Fe0 स्पेक्ट्रल प्रतिक्रियालाई थप घटाउँछ।
डाटा क्यूब (X-PEEM डाटा) मा डाटा खनन एकीकृत गर्नु बहुआयामिक दृष्टिकोणमा सान्दर्भिक जानकारी (रासायनिक वा भौतिक गुणहरू) निकाल्नको लागि एक प्रमुख चरण हो।K- मतलब क्लस्टरिङ धेरै क्षेत्रहरूमा व्यापक रूपमा प्रयोग गरिन्छ, मेशिन दृष्टि, छवि प्रशोधन, unsupervised ढाँचा पहिचान, कृत्रिम बुद्धि, र वर्गीकरण विश्लेषण सहित।उदाहरणका लागि, K- मतलब क्लस्टरिङले हाइपरस्पेक्ट्रल छवि डेटा क्लस्टरिङमा राम्रो प्रदर्शन गरेको छ।सिद्धान्तमा, बहु-सुविधा डेटाको लागि, K- मतलब एल्गोरिथ्मले तिनीहरूलाई तिनीहरूको विशेषताहरू (फोटोन ऊर्जा गुणहरू) बारे जानकारीको आधारमा सजिलै समूहबद्ध गर्न सक्छ।K- मतलब क्लस्टरिङ भनेको K गैर-ओभरल्यापिङ समूहहरू (क्लस्टरहरू) मा डाटा विभाजन गर्नको लागि पुनरावृत्ति एल्गोरिथ्म हो, जहाँ प्रत्येक पिक्सेल स्टील माइक्रोस्ट्रक्चरल संरचनामा रासायनिक असंगतताको स्थानिय वितरणको आधारमा एक विशिष्ट क्लस्टरसँग सम्बन्धित छ।K- मतलब एल्गोरिथ्मले दुई चरणहरू समावेश गर्दछ: पहिलो चरणमा, K सेन्ट्रोइडहरू गणना गरिन्छ, र दोस्रो चरणमा, प्रत्येक बिन्दुलाई छिमेकी सेन्ट्रोइडहरूसँग क्लस्टर तोकिएको हुन्छ।क्लस्टरको गुरुत्वाकर्षण केन्द्रलाई त्यो क्लस्टरको लागि डेटा बिन्दुहरू (XAS स्पेक्ट्रम) को अंकगणितीय माध्यको रूपमा परिभाषित गरिएको छ।छिमेकी सेन्ट्रोइडहरूलाई इक्लिडियन दूरीको रूपमा परिभाषित गर्न विभिन्न दूरीहरू छन्।px,y को इनपुट छविको लागि (जहाँ x र y पिक्सेलमा रिजोल्युसन हो), CK क्लस्टरको गुरुत्वाकर्षणको केन्द्र हो;यस छविलाई K-means63 प्रयोग गरेर K क्लस्टरहरूमा विभाजन गर्न सकिन्छ (क्लस्टर गरिएको)।K-means क्लस्टरिङ एल्गोरिथ्मको अन्तिम चरणहरू हुन्:
चरण 2. हालको सेन्ट्रोइड अनुसार सबै पिक्सेलको सदस्यता गणना गर्नुहोस्।उदाहरणका लागि, यो केन्द्र र प्रत्येक पिक्सेल बीचको इक्लिडियन दूरी d बाट गणना गरिन्छ:
चरण 3 प्रत्येक पिक्सेललाई नजिकको सेन्ट्रोइडमा असाइन गर्नुहोस्।त्यसपछि निम्न रूपमा K सेन्ट्रोइड स्थितिहरू पुन: गणना गर्नुहोस्:
चरण 4. प्रक्रिया दोहोर्याउनुहोस् (समीकरण (7) र (8)) सेन्ट्रोइडहरू अभिसरण नभएसम्म।अन्तिम क्लस्टरिङ गुणस्तरका नतिजाहरू प्रारम्भिक सेन्ट्रोइडहरूको उत्तम छनोटसँग जोडिएका छन्।स्टील छविहरूको PEEM डेटा संरचनाको लागि, सामान्यतया X (x × y × λ) 3D एरे डेटाको घन हो, जबकि x र y अक्षहरूले स्थानिय जानकारी (पिक्सेल रिजोल्युसन) को प्रतिनिधित्व गर्दछ र λ अक्ष फोटोनसँग मेल खान्छ।ऊर्जा वर्णक्रमीय चित्र।K-means एल्गोरिथ्म X-PEEM डेटामा रुचि भएका क्षेत्रहरू पत्ता लगाउन प्रयोग गरिन्छ पिक्सेलहरू (क्लस्टर वा उप-ब्लकहरू) तिनीहरूको स्पेक्ट्रल सुविधाहरू अनुसार अलग गरेर र प्रत्येक विश्लेषकको लागि उत्कृष्ट सेन्ट्रोइडहरू (XAS स्पेक्ट्रल प्रोफाइलहरू) निकालेर।क्लस्टर)।यो स्थानिक वितरण, स्थानीय वर्णक्रमीय परिवर्तन, अक्सीकरण व्यवहार, र रासायनिक अवस्थाहरू अध्ययन गर्न प्रयोग गरिन्छ।उदाहरणका लागि, K-means क्लस्टरिङ एल्गोरिथ्म Fe L-edge र Cr L-edge क्षेत्रहरूमा हट-वर्क र चिल्ड-रोल्ड X-PEEM को लागि प्रयोग गरिएको थियो।इष्टतम क्लस्टरहरू र सेन्ट्रोइडहरू फेला पार्नको लागि K क्लस्टरहरू (माइक्रोस्ट्रक्चरका क्षेत्रहरू) को विभिन्न संख्याहरू परीक्षण गरियो।जब यी संख्याहरू प्रदर्शित हुन्छन्, पिक्सेलहरू सम्बन्धित क्लस्टर सेन्ट्रोइडहरूमा पुन: नियुक्त हुन्छन्।प्रत्येक रङ वितरणले रासायनिक वा भौतिक वस्तुहरूको स्थानिय व्यवस्था देखाउँदै क्लस्टरको केन्द्रसँग मेल खान्छ।निकालिएका सेन्ट्रोइडहरू शुद्ध स्पेक्ट्राको रैखिक संयोजन हुन्।
यस अध्ययनको नतिजालाई समर्थन गर्ने डाटा सम्बन्धित WC लेखकको उचित अनुरोधमा उपलब्ध छ।
Sieurin, H. & Sandström, R. एक वेल्डेड डुप्लेक्स स्टेनलेस स्टीलको फ्र्याक्चर कठोरता। Sieurin, H. & Sandström, R. एक वेल्डेड डुप्लेक्स स्टेनलेस स्टीलको फ्र्याक्चर कठोरता। Sieurin, H. & Sandström, R. Вязкость разрушения сварной дуплексной нержавеющей стали। Sieurin, H. & Sandström, R. वेल्डेड डुप्लेक्स स्टेनलेस स्टीलको फ्र्याक्चर कठोरता। Sieurin, H. & Sandström, R. 焊接双相不锈钢的断裂韧性। Sieurin, H. & Sandstrom, R. 焊接双相不锈钢的断裂韧性। Sieurin, H. & Sandstrom, R. Вязкость разрушения сварных дуплексных нержавеющих сталей। Sieurin, H. & Sandström, R. वेल्डेड डुप्लेक्स स्टेनलेस स्टील्स को फ्र्याक्चर कठोरता।ब्रिटानिया।आंशिक भाग।फर।७३, ३७७–३९० (२००६)।
Adams, FV, Olubambi, PA, Potgieter, JH & Van Der Merwe, J. चयन गरिएका अर्गानिक एसिड र अर्गानिक एसिड/क्लोराइड वातावरणमा डुप्लेक्स स्टेनलेस स्टील्सको जंग प्रतिरोध। Adams, FV, Olubambi, PA, Potgieter, JH & Van Der Merwe, J. चयन गरिएका अर्गानिक एसिड र अर्गानिक एसिड/क्लोराइड वातावरणमा डुप्लेक्स स्टेनलेस स्टील्सको जंग प्रतिरोध।एडम्स, FW, Olubambi, PA, Potgieter, J. Kh.र भ्यान डेर मर्वे, जे. केही जैविक अम्ल र अर्गानिक एसिड/क्लोराइड भएको वातावरणमा डुप्लेक्स स्टेनलेस स्टील्सको जंग प्रतिरोध। Adams, FV, Olubambi, PA, Potgieter, JH & Van Der Merwe, J. 双相不锈钢在选定的有机酸和有机酸/氯化物环境腸。 Adams, FV, Olubambi, PA, Potgieter, JH & Van Der Merwe, J. 双相स्टेनलेस स्टील在特定的जैविक酸和जैविक 酸/क्लोरीनयुक्त वातावरण 耐过性性।एडम्स, FW, Olubambi, PA, Potgieter, J. Kh.र भ्यान डेर मर्वे, जे. जैविक एसिड र अर्गानिक एसिड/क्लोराइडहरूको चयन गरिएको वातावरणमा डुप्लेक्स स्टेनलेस स्टील्सको जंग प्रतिरोध।संरक्षक।सामग्री विधि 57, 107-117 (2010)।
Barrera, S. et al।Fe-Al-Mn-C डुप्लेक्स मिश्र धातुहरूको जंग-अक्सिडेटिभ व्यवहार।सामग्री १२, २५७२ (२०१९)।
Levkov, L., Shurygin, D., Dub, V., Kosyrev, K. & Balikoev, A. उपकरण ग्यास र तेल उत्पादनको लागि सुपर डुप्लेक्स स्टील्सको नयाँ पुस्ता। Levkov, L., Shurygin, D., Dub, V., Kosyrev, K. & Balikoev, A. उपकरण ग्यास र तेल उत्पादनको लागि सुपर डुप्लेक्स स्टील्सको नयाँ पुस्ता।Levkov L., Shurygin D., Dub V., Kosyrev K., Balikoev A. तेल र ग्यास उत्पादन उपकरणहरूको लागि सुपर डुप्लेक्स स्टील्सको नयाँ पुस्ता।Levkov L., Shurygin D., Dub V., Kosyrev K., Balikoev A. ग्यास र तेल उत्पादन उपकरणहरूको लागि सुपर डुप्लेक्स स्टील्सको नयाँ पुस्ता।वेबिनार E3S 121, 04007 (2019)।
Kingklang, S. & Uthaisangsuk, V. डुप्लेक्स स्टेनलेस स्टील ग्रेड 2507 को हट विरूपण व्यवहार को अनुसन्धान। धातु। Kingklang, S. & Uthaisangsuk, V. डुप्लेक्स स्टेनलेस स्टील ग्रेड 2507 को हट विरूपण व्यवहार को अनुसन्धान। धातु। Kingklang, S. & Uthaisangsuk, V. Исследование поведения горячей деформации дуплексной нержавеющей стали марки 2507। धातु। Kingklang, S. & Uthaisangsuk, V. A Study of Hot Deformation Behavior of Type 2507 Duplex Stainless Steel।धातु। Kingklang, S. & Uthaisangsuk, V. 双相不锈钢2507 级热变形行为的研究। Kingklang, S. & Uthaisangsuk, V. 2507 级热变形行为的研究।Kingklang, S. and Utaisansuk, V. Investigation of the Hot Deformation Behavior of Type 2507 Duplex Stainless Steel।धातु।अल्मा mater।ट्रान्स।४८, ९५–१०८ (२०१७)।
Zhou, T. et al।सेरियम-परिमार्जित सुपर-डुप्लेक्स SAF 2507 स्टेनलेस स्टीलको माइक्रोस्ट्रक्चर र मेकानिकल गुणहरूमा नियन्त्रित कोल्ड रोलिङको प्रभाव।अल्मा mater।विज्ञान।ब्रिटानिया।A 766, 138352 (2019)।
Zhou, T. et al।सेरियम-परिमार्जित सुपर-डुप्लेक्स SAF 2507 स्टेनलेस स्टीलको थर्मल विरूपण द्वारा प्रेरित संरचनात्मक र मेकानिकल गुणहरू।जे अल्मा मेटर।भण्डारण ट्याङ्की।प्रविधि।९, ८३७९–८३९० (२०२०)।
Zheng, Z., Wang, S., Long, J., Wang, J. & Zheng, K. अस्टेनिटिक स्टीलको उच्च तापमान अक्सीकरण व्यवहारमा दुर्लभ पृथ्वी तत्वहरूको प्रभाव। Zheng, Z., Wang, S., Long, J., Wang, J. & Zheng, K. अस्टेनिटिक स्टीलको उच्च तापमान अक्सीकरण व्यवहारमा दुर्लभ पृथ्वी तत्वहरूको प्रभाव।Zheng Z., Wang S., Long J., Wang J. र Zheng K. उच्च तापमान ओक्सीकरण अन्तर्गत अस्टेनिटिक स्टीलको व्यवहारमा दुर्लभ पृथ्वी तत्वहरूको प्रभाव। Zheng, Z., Wang, S., Long, J., Wang, J. & Zheng, K. 稀土元素对奥氏体钢高温氧化行为的影响। Zheng, Z., Wang, S., Long, J., Wang, J. and Zheng, K.Zheng Z., Wang S., Long J., Wang J. र Zheng K. उच्च तापमान अक्सिडेशनमा अस्टेनिटिक स्टील्सको व्यवहारमा दुर्लभ पृथ्वी तत्वहरूको प्रभाव।कोरोस।विज्ञान।१६४, १०८३५९ (२०२०)।
Li, Y., Yang, G., Jiang, Z., Chen, C. & Sun, S. माइक्रोस्ट्रक्चर र 27Cr-3.8Mo-2Ni सुपर-फेरिटिक स्टेनलेस स्टील्सको गुणहरूमा Ce को प्रभावहरू। Li, Y., Yang, G., Jiang, Z., Chen, C. & Sun, S. माइक्रोस्ट्रक्चर र 27Cr-3.8Mo-2Ni सुपर-फेरिटिक स्टेनलेस स्टील्सको गुणहरूमा Ce को प्रभावहरू।Li Y., Yang G., Jiang Z., Chen K. र Sun S. सुपरफेरिटिक स्टेनलेस स्टील्स 27Cr-3,8Mo-2Ni को माइक्रोस्ट्रक्चर र गुणहरूमा Se को प्रभाव। Li, Y., Yang, G., Jiang, Z., Chen, C. & Sun, S. Ce 对27Cr-3.8Mo-2Ni 超铁素体不锈钢的显微组织和性能的影响。 Li, Y., Yang, G., Jiang, Z., Chen, C. र Sun, S. माइक्रोस्ट्रक्चर र 27Cr-3.8Mo-2Ni सुपर-स्टील स्टेनलेस स्टीलको गुणहरूमा Ce को प्रभाव। Li, Y., Yang, G., Jiang, Z., Chen, C. & Sun, S. Влияние Ce на микроструктуру и свойства суперферритной нержавеющей стали 27Cr-3,8. Li, Y., Yang, G., Jiang, Z., Chen, C. र Sun, S. माइक्रोस्ट्रक्चर र सुपरफेरिटिक स्टेनलेस स्टील 27Cr-3,8Mo-2Ni को गुणहरूमा Ce को प्रभाव।फलाम चिन्ह।Steelmak 47, 67-76 (2020)।